一种基板处理装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种基板处理装置，其包括：收容缓冲器，其收容向被处理基板的表面供给的药液；药液移送泵，其依靠重力通过从所述缓冲器延长的第一配管得到药液的供给，从而供给药液，并且位于所述收容缓冲器的下侧，从而提供如下一种基板处理装置，利用药液的位能从收容缓冲器向药液移送泵供给药液，据此，防止因用气体来加压而以在药液内产生气泡的状态进行涂覆，从而提高基板的涂覆质量。

A substrate processing device

The utility model relates to a substrate processing device, which comprises a receptive buffer which receives the liquid supplied to the surface of the treated substrate; a liquid delivery pump which receives the liquid supplied by gravity through the first pipe extended from the buffer, thereby supplying the liquid, and is located at the lower side of the receptive buffer. Thus, a substrate processing device is provided, in which the liquid level can be used to supply the liquid medicine from the receiving buffer to the liquid medicine transfer pump, thereby preventing coating in the state of bubbles generated in the liquid medicine by pressurizing with gas, thereby improving the coating quality of the substrate.

【技术实现步骤摘要】
一种基板处理装置
本技术涉及一种基板处理装置，更加详细地涉及一种基板处理装置，为了在被处理基板表面涂覆药液，在供给药液的过程中减少流入至药液的气泡的含量。
技术介绍
在制造LCD等平板显示器的工艺中，伴随在由玻璃等制作的被处理基板的表面涂覆抗蚀剂等药液的涂覆工艺。尤其，最近涂覆于被处理基板的表面的药液的粘度逐渐变高，据此气泡的产生对药液涂覆质量产生的影响逐渐变大。在平板显示器的尺寸小的现有技术中，使用了如下旋转涂覆方法：在被处理基板的中央部涂覆药液的同时，使得被处理基板旋转，据此，在被处理基板的表面涂覆药液。但是，随着显示器画面的尺寸逐渐成为大型化，几乎不使用旋转涂覆方式，而使用如下方式的涂覆方法：使得具有与被处理基板的宽度相对应的长度的狭缝形态的药液喷嘴和被处理基板进行相对移动，同时从药液喷嘴向被处理基板的表面涂覆药液。换句话说，如图1所示，基板处理装置8包括：平台60，其支撑基板G；药液喷嘴70，其以与基板G的宽度一样长的宽度形成，并且沿着用附图标号70d来表示的方向与基板G进行相对移动，从而在基板G的表面以一定厚度涂覆药液99；药液供给装置80，其向药液喷嘴70供给药液99。就如此构成的基板处理装置8而言，将基板G和药液喷嘴70进行相对移动的同时在基板G的表面涂覆药液99的一次工艺中所使用的量的药液99填充于药液分配泵1后，通过药液喷嘴70涂覆药液。更加具体地，如图2所示，使得药液99从筒90填充至缓冲器81，通过开放泵填充阀83a而从缓冲器81通过药液供给管83向药液分配泵82内部的腔室(未图示)填充将要在一次基板涂覆工艺中使用的量的药液99后，开放喷嘴开闭阀83b，从而在基板G和药液喷嘴20进行相对移动70d的同时，在基板G的表面涂覆药液99。此时，如图3所示，为了将从筒90通过供给管90L向附图标号99x1供给后填充于缓冲器81的药液99供给至药液分配泵82，在缓冲器81的上侧加压高压的氮气，被气体加压的药液通过药液供给管83移动至药液分配泵1。但是，在用气体对填充于缓冲器81的药液99进行加压的过程中，由于根据亨利定律的气体的量流入至药液99，因此导致如下问题：移送至药液分配泵1的药液99中含有气泡99a，同时降低药液的涂覆质量。尤其，随着药液99的粘度逐渐变高，药液99中含有的气泡99a对被处理基板的涂覆质量产生更加大的不良影响，因此迫切需要一种更加降低在涂覆于被处理基板G的药液99中所含有的气泡的含量的方案。
技术实现思路
为了解决如上所述的问题，本技术的目的在于，在被处理基板的表面涂覆药液的工艺中，抑制因含有气泡的药液涂覆于被处理基板而导致涂覆质量下降。据此，其目的在于，更加可靠地提高在被处理基板的表面上的药液涂覆质量，并且提高工艺的效率。为了实现如上所述的目的，本技术提供一种基板处理装置，基板处理装置在被处理基板的表面涂覆药液，所述基板处理装置的特征在于，包括：收容缓冲器，其收容向所述被处理基板的表面供给的药液；药液移送泵，其通过从所述缓冲器延长的第一配管得到药液的供给，从而供给药液，并且位于与所述收容缓冲器相同的高度或者下侧；药液喷嘴，其将从所述药液移送泵得到供给的药液涂覆于所述被处理基板。如上所述，本技术中，在收容缓冲器的下侧设置药液移送泵，从而可利用填充于收容缓冲器的药液的位能而供给至药液移送泵，因此可以解决在现有技术中存在的如下问题：在通过加压气体来供给至药液移送泵的过程中，在药液中含有气泡，从而降低涂覆质量。换句话说，本技术中，从所述收容缓冲器通过第一配管传递至所述药液移送泵的药液可以因重力而自然下降并被移送。此时，所述第一配管从所述收容缓冲器的底面延长至所述药液移送泵，从而在药液通过第一配管移送至药液移送泵的过程中，填充于收容缓冲器的药液可从下侧通过重力顺畅地移送至药液移送泵。此时，在所述收容缓冲器中，排气口可以形成于药液的收容高度的上侧。据此，在填充于收容缓冲器的药液通过第一配管移送至药液移送泵的期间，在收容缓冲器内的空气空了的空间的体积变化的情况下，也可以使得药液顺畅地移送至药液移送泵。另外，根据本技术的其他实施形态，代替在收容缓冲器的上侧形成排气口，也可以以与填充于收容缓冲器的药液通过第一配管移送至药液移送泵的量一样的量，从筒向收容缓冲器供给药液，从而使得收容缓冲器内的空的空间的体积保持一定。在此，如果构成为当收容缓冲器内的药液开始通过第一配管移送至药液移送泵之后，从筒向收容缓冲器补充药液，则与药液未通过第一配管移送至药液移送泵的情况相比，收容缓冲器内的空的空间保持稍微膨胀的状态，同时成为比大气压稍微低的负压状态，因此可获得如下有利的效果：可以完全去除收容缓冲器内的气体根据亨利定律而溶解于药液的效果。另外，在所述第一配管还设置有气泡感知传感器，气泡感知传感器在所述药液从所述收容缓冲器移送至所述药液收容部的期间，对气泡的含量进行测量，如果通过所述气泡感知传感器测量出通过所述第一配管的药液中含有规定的含量以上的气泡，则关闭所述第一配管，因此可以防止含有基准值以上气泡的药液涂覆于被处理基板。在此，所述药液移送泵可适用为叶片泵、离心泵、线性泵等多种形态的泵形态。此时，优选地，为了在抽吸药液的工艺中切断气体流入，所述药液移送泵设置有药液收容部，从而可以抑制在泵推挤药液的过程中气泡被溶解于药液，所述泵为对通过所述第一配管流入的药液进行物理加压并推挤的方式的泵。例如，所述药液移送泵可构成为活塞泵，活塞泵包括：气缸，其形成有流入端口和流出端口，并且形成有所述药液收容部，流入端口与所述第一配管相连接，流出端口排出被推挤的药液；活塞，其在所述气缸的内部进行往复移动，同时加压面对所述药液进行物理推挤。在此，所述流出端口形成于与所述活塞进行往复移动的所述加压面相面对的位置，从而在将移送至药液移送泵的药液收容部的药液朝向药液喷嘴供给的过程中，被活塞加压的药液通过流出端口直接排出，因此在药液从药液移送泵排出的过程中，可以抑制在药液内产生气泡。此时，所述活塞的所述加压面形成为与所述气缸的相对面相同的形状，所述气缸的相对面与所述加压面相面对，在药液从药液收容部排出的过程中，使得药液的涡流最小化，并且抑制由药液涡流引起的气泡的产生。并且，所述活塞进行往复移动的所述气缸内的第一空间和药液流入后被排出的所述药液收容部通过柔韧性材料的密封膜被分开，就所述密封膜而言，一部分固定于所述活塞，从而随着所述活塞的往复移动一起移动，据此可以抑制随着活塞的往复移动而在活塞周边的药液产生气泡。并且，所述密封膜利用埋头螺丝固定于所述活塞的加压面，从而在密封膜和活塞的固定结构中以没有凸出的部分的形式构成，因此在活塞的加压面周边可以抑制由药液的涡流引起的气泡产生。此外，所述流入端口可构成为位于所述活塞的往复移动通道的侧面。此时，在所述活塞以不遮挡所述流入端口的形式后退的状态下，可以起到将药液从所述收容缓冲器供给至所述药液收容部的作用。据此，在药液收容部被充分确保的状态下，药液从收容缓冲器移送至药液移送泵，因此药液可以从收容缓冲器顺畅地流入至药液移送泵。另外，根据本技术的其他实施形态，所述活塞从遮挡所述流入端口的状态向不遮挡所述流入端口的状态后退移动的同时，也可以从所述收容缓冲器向本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板处理装置，其将药液涂覆于被处理基板的表面，所述基板处理装置的特征在于，包括：收容缓冲器，其收容向所述被处理基板的表面供给的药液；药液移送泵，其通过从所述缓冲器延长的第一配管得到药液的供给，从而供给药液，并且位于与所述收容缓冲器相同的高度或者下侧；药液喷嘴，其将从所述药液移送泵得到供给的药液涂覆于所述被处理基板。

【技术特征摘要】
1.一种基板处理装置，其将药液涂覆于被处理基板的表面，所述基板处理装置的特征在于，包括：收容缓冲器，其收容向所述被处理基板的表面供给的药液；药液移送泵，其通过从所述缓冲器延长的第一配管得到药液的供给，从而供给药液，并且位于与所述收容缓冲器相同的高度或者下侧；药液喷嘴，其将从所述药液移送泵得到供给的药液涂覆于所述被处理基板。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，从所述收容缓冲器通过第一配管传递至所述药液移送泵的药液因重力而自然下降并移动。3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，所述第一配管从所述收容缓冲器的底面延长至所述药液移送泵。4.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，在所述收容缓冲器中，排气口形成于药液的收容高度的上侧。5.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，以与收容于所述收容缓冲器的药液通过第一配管移送至所述药液移送泵的量一样的量，从筒向所述收容缓冲器补充供给药液。6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，当所述收容缓冲器内的药液开始通过所述第一配管移送至所述药液移送泵之后，从筒向所述收容缓冲器补充供给药液，在所述收容缓冲器内没有填充药液的空的空间的压力保持比大气压低的状态，同时药液通过所述第一配管移送至所述药液移送泵。7.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，所述药液移送泵设置有药液收容部，通过对收容于所述药液收容部的药液进行物理加压并推挤来供给药液。8.根据权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，在所述第一配管还设置有气泡感知传感器，气泡感知传感器在所述药液从所述收容缓冲器移送至所述药液收容部的期间，对气泡的含量进行测量，如果通过所述气泡感知传感器测量出通过所述第一配管的药液中含有规定的含量以上的气泡，则关闭所述第一配管。9.根据权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，所述药液移送泵为活塞泵，包括：气缸，其形成有流入端口和流出端口，并且形成有所述药液收容部，流入端口与所述第一配管相连接，流出端口排出被推挤的药液；活塞，其在所述气缸的内部进行往复移动，同时加压面对所述药液进行物理推挤。10.根据权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于，所述流出端口形成于与所述活塞往复移动的所述加压面相面...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵康一，
申请(专利权)人：凯斯科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：韩国,KR