数据修正装置、描绘装置、配线图案形成系统、检查装置、数据修正方法及配线基板的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术将于基板(9)的膜(8)上彼此邻接而形成的光罩要素对(710)间的宽度作为光罩间隙宽度(G)，对于多个光罩间隙宽度中的每一个光罩间隙宽度，准备参照信息，该参照信息表示上表面间隙宽度(GT)与下表面间隙宽度(GB)的关系，该上表面间隙宽度(GT)是利用光罩要素对并通过蚀刻在膜上形成的图案要素对(810)的上表面间的间隙宽度，该下表面间隙宽度(GB)是下表面间的间隙宽度。在利用分别设定有多个光罩间隙宽度的多个光罩要素对并进行了蚀刻的处理完成基板中，获取各图案要素对的上表面间隙宽度的测定值。利用该测定值并参照参照信息，获取多个光罩间隙宽度的下表面间隙宽度的值，基于该值而修正膜的图案的设计数据。由此，可容易地实现以膜的图案的下表面为基准的设计数据的修正。

Data correction device, drawing device, wiring pattern forming system, checking device, data correction method and manufacturing method of wiring substrate

The width of the mask element (710) between the film (8) of the substrate (9) is adjacent to each other as the width of the mask gap (G), and the reference information is prepared for each gap width in the width of a plurality of gap gaps, and the reference information indicates the relationship between the upper surface gap width (GT) and the lower surface gap width (GB). The width of the upper surface gap (GT) is the gap width between the upper surface of (810), which is formed by the mask elements and etched on the membrane. The width of the lower surface gap (GB) is the gap width between the lower surface. In the substrate, the width of the upper surface gap of each pattern element is obtained by using a plurality of mask elements with multiple gap width respectively. Using the measured value and referring to reference information, the width of the lower surface gap of multiple gap width is obtained. Based on this value, the design data of the pattern of the film are corrected. Thereby, it is easy to realize the correction of design data based on the lower surface of the pattern of the film.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】数据修正装置、描绘装置、配线图案形成系统、检查装置、数据修正方法及配线基板的制造方法
本专利技术是关于一种数据修正装置、描绘装置、配线图案形成系统、检查装置、数据修正方法及配线基板的制造方法。
技术介绍
过去以来，在印刷基板(以下简称为“基板”)的制造步骤中，对基板实施各种处理。例如，通过在形成有铜等的导体膜的基板的表面上形成抗蚀剂的图案，实施蚀刻，从而在基板上形成该导体膜的图案(配线图案)。在蚀刻中，因图案要素配置的疏密等，而存在形成于基板上的图案形状与设计数据不同的情形。因此，在日本专利特开2001-230323号公报及日本特开2005-202949号公报中，揭示有通过数值模拟，算出配线的最终宽度，进行设计数据的修正的方法。然而，在形成于基板上的导体膜的图案要素中，已知其剖面形状为梯形。由于可容易地获取图案要素的上表面的图像，故亦可利用该图像而容易地测定该上表面的形状。另一方面，因从图案要素的山脚部获得的光(照明光的反射光)的量不充分，故图案要素的下表面的形状的测定并非容易。因此，难以进行将导体膜的图案的下表面设为基准的设计数据的修正、或将导体膜的图案的下表面设为基准的检查。
技术实现思路
本专利技术是关于一种数据修正装置，其修正利用蚀刻液蚀刻已在基板的表面形成的导体膜从而形成的图案的设计数据。本专利技术的数据修正装置具备：设计数据存储部，存储在形成有导体膜的基板上通过规定条件下的蚀刻而形成的所述导体膜的图案的设计数据；参照信息存储部，其将在基板的导体膜上彼此邻接而形成的光罩要素对之间的间隙宽度作为光罩间隙宽度，针对多个光罩间隙宽度中的每一个光罩间隙宽度存储参照信息，该参照信息表示上表面间隙宽度和下表面间隙宽度的关系，该上表面间隙宽度是利用所述光罩要素对并通过蚀刻在所述导体膜形成的图案要素对的上表面间的间隙宽度，该下表面间隙宽度是所述图案要素对的下表面间的间隙宽度；下表面间隙宽度获取部，在利用分别设定有所述多个光罩间隙宽度的多个光罩要素对并进行了所述规定条件下的蚀刻的处理完成基板中，获取与所述多个光罩要素对相对应的多个图案要素对中的每一个图案要素对的上表面间隙宽度的测定值，利用所述测定值并参照所述参照信息，由此针对所述处理完成基板，获取所述多个光罩间隙宽度下的多个下表面间隙宽度的值；及数据修正部，基于所述多个光罩间隙宽度下的所述多个下表面间隙宽度的值，修正所述设计数据；针对所述多个光罩间隙宽度中的每一个光罩间隙宽度，以时间的多项式将从所述导体膜被蚀刻至所述基板的表面的状态起所述导体膜沿着所述表面被蚀刻时的图案要素对的形状的变化予以公式化，并通过使用在进行了规定时间的蚀刻的测试基板中的图案要素对的形状的测定值的拟合来确定所述多项式的系数，由此获取所述参照信息。在上述数据修正装置中，可容易地进行将导体膜的图案的下表面设为基准的设计数据的修正。在本专利技术的一个较佳实施方式中，在所述处理完成基板上的多个对象位置中的每一个对象位置，形成有与所述多个光罩间隙宽度对应的多个图案要素对；所述下表面间隙宽度获取部针对各光罩间隙宽度，参照同一参照信息，来获取所述多个对象位置处的多个下表面间隙宽度的值；所述数据修正部基于所述多个对象位置处的所述多个下表面间隙宽度的值，修正所述设计数据。本专利技术还有关于基板上描绘图案的描绘装置。本专利技术的描绘装置包含：上述数据修正装置；光源；基于经所述数据修正装置修正的设计数据，调制来自所述光源的光；及扫描机构，在基板上扫描经所述光调制部调制的光。本专利技术还有关于配线图案形成系统。本专利技术的配线图案形成系统包含：上述数据修正装置；及配线图案形成单元，基于经所述数据修正装置修正的设计数据，在基板上形成配线图案。本专利技术还有关于检查由蚀刻液对在基板的表面形成的导体膜进行蚀刻而形成的图案的检查装置。本专利技术的检查装置具备：设计数据存储部，存储在形成有导体膜的基板上通过蚀刻而形成的所述导体膜的图案的设计数据；参照信息存储部，将在基板的导体膜上彼此邻接而形成的光罩要素对之间的间隙宽度作为光罩间隙宽度，针对多个光罩间隙宽度中的每一个光罩间隙宽度存储参照信息，该参照信息表示上表面间隙宽度和下表面间隙宽度的关系，该上表面间隙宽度是利用所述光罩要素对并通过蚀刻在所述导体膜形成的图案要素对的上表面间的间隙宽度，该下表面间隙宽度是所述图案要素对的下表面间的间隙宽度；实际图像存储部，存储检查图像数据，该检查图像数据是通过使用了基于所述设计数据而形成的光罩图案的蚀刻而在对象基板上形成的图案的上表面的图像数据；上表面间隙宽度获取部，在所述对象基板上，使用分别设定有所述多个光罩间隙宽度的多个光罩要素对来形成所述多个图案要素对，基于所述检查图像数据，获取所述多个图案要素对中的每一个图案要素对的上表面间隙宽度的测定值；数据修正部，针对所述对象基板上的图案的各图案要素，通过使用对于所述光罩间隙宽度的所述测定值并参照基于所述设计数据确定的光罩间隙宽度的所述参照信息，来从所述检查图像数据所表示的图案获取所述对象基板上的所述图案的下表面的形状；及缺陷检测部，基于由所述数据修正部获取的所述图案的下表面的形状，检测所述对象基板上的所述图案的缺陷；且针对所述多个光罩间隙宽度中的每一个光罩间隙宽度，以时间的多项式将从所述导体膜被蚀刻至所述基板的表面的状态起所述导体膜沿着所述表面被蚀刻时的图案要素对的形状的变化予以公式化，并通过使用在进行了规定时间的蚀刻的测试基板中的图案要素对的形状的测定值的拟合来确定所述多项式的系数，由此获取所述参照信息。于上述检查装置中，可容易地进行将导体膜的图案的下表面设为基准的检查。本专利技术还有关于修正利用蚀刻液对在基板的表面形成的导体膜进行蚀刻而形成的图案的设计数据的数据修正方法、及配线基板的制造方法。上述目的及其他的目的、特征、实施方式及优点将参照附图并通过以下进行的本专利技术的详细说明而明确。附图说明图1是示出第1实施方式的配线图案形成系统的构成的框图。图2是示出制造配线基板的处理流程的图。图3是示出描绘装置的构成的图。图4是示出数据处理装置的构成的图。图5是示出数据处理装置的功能的框图。图6A是用以说明对基板的蚀刻的图。图6B是用以说明对基板的蚀刻的图。图6C是用以说明对基板的蚀刻的图。图7是示出描绘装置描绘的流程的图。图8是放大示出处理完成基板的一部分的俯视图。图9是示出处理完成基板上的图案要素对的剖视图。图10是示出参照信息的图。图11是示出处理完成基板上的多个对象位置的图。图12是示出第2实施方式的检查装置的功能的框图。图13是示出检查装置的检查流程的图。具体实施方式图1是示出第1实施方式的配线图案形成系统10的构成的框图。配线图案形成系统10用于在基板上形成配线图案从而制造配线基板。配线图案形成系统10包含：描绘数据生成单元11、描绘单元12、显像单元13、配线图案形成单元14、检查单元15、及修正单元16。在图1中，亦图示有设置于配线图案形成系统10的外部的设计数据生成单元19。图2是示出配线图案形成系统10制造配线基板的处理流程的图。在配线基板的制造中，利用设计数据生成单元19生成用于表示期望的配线图案的设计数据(CAD数据)(步骤S1)，并输出至描绘数据生成单元11。描绘数据生成单元11是由例如计算机实现，并将向本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种数据修正装置，修正图案的设计数据，该图案是利用蚀刻液对在基板的表面形成的导体膜进行蚀刻而形成的图案，其中，该数据修正装置具备：设计数据存储部，存储在形成有导体膜的基板上通过规定条件下的蚀刻而形成的所述导体膜的图案的设计数据，参照信息存储部，将在基板的导体膜上彼此邻接而形成的光罩要素对之间的间隙宽度作为光罩间隙宽度，针对多个光罩间隙宽度中的每一个光罩间隙宽度存储参照信息，该参照信息表示上表面间隙宽度和下表面间隙宽度的关系，该上表面间隙宽度是利用所述光罩要素对并通过蚀刻在所述导体膜形成的图案要素对的上表面间的间隙宽度，该下表面间隙宽度是所述图案要素对的下表面间的间隙宽度，下表面间隙宽度获取部，在利用分别设定有所述多个光罩间隙宽度的多个光罩要素对并进行了所述规定条件下的蚀刻的处理完成基板中，获取与所述多个光罩要素对相对应的多个图案要素对中的每一个图案要素对的上表面间隙宽度的测定值，利用所述测定值并参照所述参照信息，由此针对所述处理完成基板，获取所述多个光罩间隙宽度下的多个下表面间隙宽度的值，以及数据修正部，基于所述多个光罩间隙宽度下的所述多个下表面间隙宽度的值，修正所述设计数据；针对所述多个光罩间隙宽度中的每一个光罩间隙宽度，以时间的多项式将从所述导体膜被蚀刻至所述基板的表面的状态起所述导体膜沿着所述表面被蚀刻时的图案要素对的形状的变化予以公式化，并通过使用在进行了规定时间的蚀刻的测试基板中的图案要素对的形状的测定值的拟合来确定所述多项式的系数，由此获取所述参照信息。...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.09.25 JP 2015-1879801.一种数据修正装置，修正图案的设计数据，该图案是利用蚀刻液对在基板的表面形成的导体膜进行蚀刻而形成的图案，其中，该数据修正装置具备：设计数据存储部，存储在形成有导体膜的基板上通过规定条件下的蚀刻而形成的所述导体膜的图案的设计数据，参照信息存储部，将在基板的导体膜上彼此邻接而形成的光罩要素对之间的间隙宽度作为光罩间隙宽度，针对多个光罩间隙宽度中的每一个光罩间隙宽度存储参照信息，该参照信息表示上表面间隙宽度和下表面间隙宽度的关系，该上表面间隙宽度是利用所述光罩要素对并通过蚀刻在所述导体膜形成的图案要素对的上表面间的间隙宽度，该下表面间隙宽度是所述图案要素对的下表面间的间隙宽度，下表面间隙宽度获取部，在利用分别设定有所述多个光罩间隙宽度的多个光罩要素对并进行了所述规定条件下的蚀刻的处理完成基板中，获取与所述多个光罩要素对相对应的多个图案要素对中的每一个图案要素对的上表面间隙宽度的测定值，利用所述测定值并参照所述参照信息，由此针对所述处理完成基板，获取所述多个光罩间隙宽度下的多个下表面间隙宽度的值，以及数据修正部，基于所述多个光罩间隙宽度下的所述多个下表面间隙宽度的值，修正所述设计数据；针对所述多个光罩间隙宽度中的每一个光罩间隙宽度，以时间的多项式将从所述导体膜被蚀刻至所述基板的表面的状态起所述导体膜沿着所述表面被蚀刻时的图案要素对的形状的变化予以公式化，并通过使用在进行了规定时间的蚀刻的测试基板中的图案要素对的形状的测定值的拟合来确定所述多项式的系数，由此获取所述参照信息。2.如权利要求1所记载的数据修正装置，其中，在所述处理完成基板上的多个对象位置中的每一个对象位置，形成有与所述多个光罩间隙宽度对应的多个图案要素对；所述下表面间隙宽度获取部针对各光罩间隙宽度，参照同一参照信息，来获取所述多个对象位置处的多个下表面间隙宽度的值；所述数据修正部基于所述多个对象位置处的所述多个下表面间隙宽度的值，修正所述设计数据。3.一种描绘装置，在基板上描绘图案，其中，包含：权利要求1或2所记载的数据修正装置；光源；光调制部，基于经所述数据修正装置修正的设计数据，调制来自所述光源的光；以及扫描机构，在基板上扫描经所述光调制部调制的光。4.一种配线图案形成系统，包含：权利要求1或2所记载的数据修正装置；以及配线图案形成单元，基于经所述数据修正装置修正的设计数据，在基板上形成配线图案。5.一种检查装置，检查由蚀刻液对在基板的表面形成的导体膜进行蚀刻而形成的图案，其中，该检查装置具备：设计数据存储部，存储在形成有导体膜的基板上通过蚀刻而形成的所述导体膜的图案的设计数据，参照信息存储部，将在基板的导体膜上彼此邻接而形成的光罩要素对之间的间隙宽度作为光罩间隙宽度，针对多个光罩间隙宽度中的每一个光罩间隙宽度存储参照信息，该参照信息表示上表面间隙宽度和下表面间隙宽度的关系，该上表面间隙宽度是利用所述光罩要素对并通过蚀刻在所述导体膜形成的图案要素对的上表面间的间隙宽度，该下表面间隙宽度是所述图案要素对的下表面间的间隙宽度，实际图像存储部，存储检查图像数据，该检查图像数据是通过使用了基于所...

【专利技术属性】
技术研发人员：小松崎孝雄，山本哲平，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，日立化成株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP