The utility model relates to a kind of grinding liquid mixing supply equipment, including a box body, the top of the box is equipped with a suction device and a clean air supply device. The tank has a solution barrel, a solution bucket two, a mixed bucket slot, a water gas mixture, the bottom of the tank tank is equipped with a bottom electronic name, and the bottom electronics is called the industrial computer through the line. A mixing paddle and a mixing tube are arranged in the mixing bucket, the mixing oar is connected to the output end of the stirring motor, the mixing tube is connected with the mixing supply pump, the mixing supply pump is connected with the supply outlet, the top of the mixing bucket is installed with a high pure water spray head, the high pure water nozzle is used for cleaning the mixed bucket slot, and the dry nitrogen gas pipe is set in the mixture tank of water and gas. The bottom end of the dry nitrogen pipe is connected with a nitrogen gas mixture plate, a spoiler is arranged above the nitrogen mixing plate, and the wet nitrogen gas pipe at the top of the water and gas mixing tank is connected to the mixed bucket slot. The utility model realizes the abrasive fluid not easy to volatilize and crystallize, and ensures the quality of the abrasive liquid and has high automation degree.
【技术实现步骤摘要】
一种研磨液混合供应设备[
]本技术涉及研磨浆料混合
,具体地说是一种研磨液混合供应设备。[
技术介绍
]集成电路(IC)制造已成为世界上最高新和最庞大的产业之一。半导体晶圆制造中,随着制程技术的升级、导线与栅极尺寸的缩小,光刻(Lithography)技术对半导体晶圆表面的平坦程度(Non-uniformity)的要求越来越高。CMP技术得到了快速发展,大量应用于半导体产业。化学机械研磨亦称为化学机械抛光,其原理是化学腐蚀作用和机械去除作用相结合的加工技术,是目前机械加工中唯一可以实现表面全局平坦化的技术。研磨液主要成分包含有机碱、表面活性剂和螯合剂和去离子水等。研磨液的混合供应系统的好坏直接影响CMP制程效果。研磨液在预先混合和供应中不能产生结晶、沉淀、絮凝、分层等问题。半导体晶圆制造中使用的研磨液混合供应系统设备必须满足以下需求:超高洁净度;无金属离子析出;无结晶、絮凝、分层等问题;所有管道和桶槽带有自清洗功能;自动化程度高;然而,目前国内研磨液混合供应系统都采用混合桶和泵混合,混合后进入储存桶槽储存,混合和储存中需要不断保持研磨液流动,设备体积庞大,造价成本高。另外,研磨液易结晶、絮凝、分层等特性目前设备解决方案没有很好的解决办法,设备可靠性不高。[
技术实现思路
]本技术的目的就是要解决上述的不足而提供一种研磨液混合供应设备,不仅实现了研磨液不易挥发结晶,保证了研磨液品质,而且自动化程度高,解决了现有研磨液混合供应系统存在的研磨液易结晶、絮凝、分层等问题。为实现上述目的设计一种研磨液混合供应设备,包括箱体22,所述箱体22顶部安装有抽风装置1、洁净送 ...
【技术保护点】
一种研磨液混合供应设备,包括箱体(22),其特征在于:所述箱体(22)顶部安装有抽风装置(1)、洁净送风装置(2),所述箱体(22)内设有溶液桶一(3)、溶液桶二(4)、混合桶槽(10)、水气混合罐体(16),所述溶液桶一(3)和溶液桶二(4)中不同研磨液在混合桶槽(10)中任意比例混合,所述混合桶槽(10)底部设有底部电子称(11),所述底部电子称(11)通过线路连接工业电脑(5),所述混合桶槽(10)中设有搅拌桨(8)、搅拌管(9),所述搅拌桨(8)连接在搅拌电机(6)输出端,所述搅拌管(9)连接搅拌供应泵(12),所述搅拌供应泵(12)与供应出口(21)相连,所述混合桶槽(10)内顶部安装有高纯水喷头(7),所述高纯水喷头(7)用于清洗混合桶槽(10),所述水气混合罐体(16)中设有干燥氮气管(14)、超纯水管(15),所述干燥氮气管(14)底端连接有氮气混合板(19),所述氮气混合板(19)上方设置有扰流板(18),所述干燥氮气管(14)中氮气经氮气混合板(19)和扰流板(18)共同作用变为湿润氮气,所述水气混合罐体(16)顶端的湿润氮气管(13)连接至混合桶槽(10)内。
【技术特征摘要】
1.一种研磨液混合供应设备,包括箱体(22),其特征在于:所述箱体(22)顶部安装有抽风装置(1)、洁净送风装置(2),所述箱体(22)内设有溶液桶一(3)、溶液桶二(4)、混合桶槽(10)、水气混合罐体(16),所述溶液桶一(3)和溶液桶二(4)中不同研磨液在混合桶槽(10)中任意比例混合,所述混合桶槽(10)底部设有底部电子称(11),所述底部电子称(11)通过线路连接工业电脑(5),所述混合桶槽(10)中设有搅拌桨(8)、搅拌管(9),所述搅拌桨(8)连接在搅拌电机(6)输出端,所述搅拌管(9)连接搅拌供应泵(12),所述搅拌供应泵(12)与供应出口(21)相连,所述混合桶槽(10)内顶部安装有高纯水喷头(7),所述高纯水喷头(7)用于清洗混合桶槽(10),所述水气混合罐体(16)中设有干燥氮气管(14)、超纯水管(15),所述干燥氮气管(14)底端连...
【专利技术属性】
技术研发人员:岳佳佳,蒋陈峰,简建至,
申请(专利权)人:冠礼控制科技上海有限公司,
类型:新型
国别省市:上海,31
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