The invention discloses an automatic cleaning device of optical components of volatile solvent recycling, set feeding, ultrasonic cleaning, spray cleaning and drying material under the four stations, combined with the control of the movement of the cylinder, the optical element can accomplish automatic loading and unloading, multi position automatic ultrasonic cleaning and spray cleaning. The whole cleaning process automation. The main body of the invention in addition to the exchange of material and the external part, the others all adopt the anticorrosion and sealing treatment, each cleaning station at work are doors separated alone, to prevent the cleaning liquid splash caused by cross contamination between station and two pollution, ensure the quality of cleaning. The present invention in the cleaning process, the volatilization of waste gas and waste liquid were guided into the real-time recycling system, compressor condensing and liquefying after recycling of waste gas emissions, to achieve environmental protection without cleaning, reduce waste, prevent environmental pollution, improve the economy.
【技术实现步骤摘要】
一种光学元件挥发溶剂循环回收利用的自动清洗装置
本专利技术涉及一种光学元件的清洗
,特别是一种光学元件挥发溶剂的超声辅助自动清洗装置。
技术介绍
大尺寸光学玻璃及晶体类元件广泛地应用在各类光学和非光学设备上,各种新型和尖端设备上的光学元件质量要求极高,例如:纳米级的表面粗糙度和平面度,极小的波前畸变和极高的洁净度,特殊的光学玻璃类元件如KDP晶体、氟化钙晶体等具有硬度低、易碎、易潮解的特性,对超精密加工和后续的清洗清洁工艺及设备都提出了很大的挑战。该类特殊的大尺寸高精度光学类元件的加工通常采用先进的磁流变抛光、化学机械抛光、无磨料水溶解精密抛光及离子束抛光等精加工技术与方法。由于该类光学元件软脆易潮解等特性,在加工后的光学晶体元件表面往往会残留有金属离子、抛光液、有机杂质等污染物,对诸如镀膜等后续的工程应用造成困难,因此,需要对该类光学元件进行清洗。而象手工擦拭和水基清洗液等传统清洗方法对此类软脆易潮解光学元件则明显不适用,特别是对于尺寸较大且经过光学超精密加工后具有高质量的光学功能表面。同时传统的清洗方法劳动强度大,稳定性差,对劳动者素质要求较高,甚至一些有害的清洗剂会对劳动者本人造成伤害,因此可操作性差,具有一定的局限性,不能适应现代生产中规模化对高洁净度大尺寸光学晶体类元件的需求。在以往关于多工位超声波清洗装置的专利专利技术中,有以下不同类型的例子:中国专利公开号CN102601094A公开了“超声波清洗工具框悬吊移位装置及其方法”。该专利包括横设于清洗池上方的横向导轨,所述清洗池由若干个超声波清洗池和鼓泡清洗池横向拼接构成,所述横向导轨上设置 ...
【技术保护点】
一种光学元件挥发溶剂循环回收利用的自动清洗装置,其特征在于:包括主体和循环回收系统,所述的主体内设置上料工位、超声清洗工位、喷淋清洗工位和下料工位;主体顶部通过排气管道(46)与循环回收系统连接;所述的主体为上中下三段式结构;下部设有四个工位槽,从左至右依次为进料槽(1)、超声清洗槽(9)、喷淋清洗槽(21)和烘干出料槽(26),中部为提拉运送机构活动空间,上部安装有提拉运送机构,上部与中部之间通过隔板(3)隔开;所述的提拉运送机构包括提拉气缸(2)、无杆气缸(8)、吊篮架(4)和挂钩(5),所述的提拉气缸(2)为单杆不回转气缸,缸杆通过隔板(3)中间开设的运动轨道伸入进料槽(1);提拉气缸(2)的缸杆末端装有吊篮架(4),吊篮架(4)上有挂钩(5),用于钩吊盛有工件的清洗篮;提拉气缸(2)通过气缸安装块A(6)安装在无杆气缸滑块(7)上,无杆气缸滑块(7)初始位置为左极限位置,无杆气缸(8)通过气缸安装块B(22)固定在主体上;提拉气缸(2)带动清洗篮上下运动,无杆气缸(8)带动提拉气缸(2)水平运动,两者相互配合,完成对工件的吊取和移位;所述的上料工位包括进料槽(1),进料槽(1) ...
【技术特征摘要】
1.一种光学元件挥发溶剂循环回收利用的自动清洗装置,其特征在于:包括主体和循环回收系统,所述的主体内设置上料工位、超声清洗工位、喷淋清洗工位和下料工位;主体顶部通过排气管道(46)与循环回收系统连接;所述的主体为上中下三段式结构;下部设有四个工位槽,从左至右依次为进料槽(1)、超声清洗槽(9)、喷淋清洗槽(21)和烘干出料槽(26),中部为提拉运送机构活动空间,上部安装有提拉运送机构,上部与中部之间通过隔板(3)隔开;所述的提拉运送机构包括提拉气缸(2)、无杆气缸(8)、吊篮架(4)和挂钩(5),所述的提拉气缸(2)为单杆不回转气缸,缸杆通过隔板(3)中间开设的运动轨道伸入进料槽(1);提拉气缸(2)的缸杆末端装有吊篮架(4),吊篮架(4)上有挂钩(5),用于钩吊盛有工件的清洗篮;提拉气缸(2)通过气缸安装块A(6)安装在无杆气缸滑块(7)上,无杆气缸滑块(7)初始位置为左极限位置,无杆气缸(8)通过气缸安装块B(22)固定在主体上;提拉气缸(2)带动清洗篮上下运动,无杆气缸(8)带动提拉气缸(2)水平运动,两者相互配合,完成对工件的吊取和移位;所述的上料工位包括进料槽(1),进料槽(1)的前侧设有进料口,进料口外侧的主体上安装进料口门(42),进料口门(42)的内侧四周粘附防腐密封圈B(43);所述的超声清洗工位包括超声清洗槽(9)和超声波振子(10),超声清洗槽(9)底部安装有超声波振子(10),底部设有排液口A(11),用于排走废液,超声清洗槽(9)后侧设有注液口(12),用于加注清洗液;超声清洗槽(9)左右两侧边沿上分别设有隔门A(13)和隔门B(14),隔门A(13)和隔门B(14)分别由隔门气缸A(15)和隔门气缸B(16)带动、沿着立柱上的隔门滑轨A(39)和隔门滑轨B(40)上下运动;所述的隔门滑轨A(39)和隔门滑轨B(40)的上下极限位置设有位置传感器;当隔门气缸A(15)和隔门气缸B(16)运动至上极限位置时,隔门A(13)和隔门B(14)关闭,隔门A(13)和隔门B(14)上部顶住隔板(3)、隔门A(13)和隔门B(14)下部卡板上的防腐密封条A(17)和防腐密封条B(18)将缝隙堵住,从而使超声清洗工位形成单独的密闭空间;当隔门气缸A(15)和隔门气缸B(16)运动至下极限位置时,隔门A(13)和隔门B(14)打开,隔门A(13)和隔门B(14)上部边沿处的防腐密封条C(19)和防腐密封条D(20)将缝隙堵住,防止液体和气体泄漏;无杆气缸(8)带动提拉气缸(2)运动至此工位时将工件放入超声清洗槽(9)进行超声波清洗;所述的喷淋清洗工位包括喷淋清洗槽(21)和喷淋清洗头(23);喷淋清洗槽(21)前后内壁上分别安装有喷淋清洗头(23);喷淋清洗槽(21)底部设有排液口B(24),喷淋清洗后的液体从此处流走;喷淋清洗槽(21)左右两侧边沿上分别设有隔门B(14)和隔门C(25),隔门B(14)和隔门C(25)的运动形式和超声清洗工位的隔门A(13)和隔门B(14)的运动形式相同,使喷淋清洗工位在清洗时形成单独的密闭空间;无杆气缸(8)带动提拉气缸(2)将工件移送至此工位,喷淋清洗头(23)喷出专用清洗液对其进行喷淋清洗,提拉气缸(2)带动清洗篮上下往复运动实现均匀清洗;所述的下料工位包括烘干出料槽(26);烘干出料槽(26)的前面设有出料口,...
【专利技术属性】
技术研发人员:高航,陈玉川,王旭,郭东明,
申请(专利权)人:大连理工大学,
类型:发明
国别省市:辽宁,21
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