一种可移动的线性蒸发源速率监测系统及其蒸镀设备技术方案

本实用新型专利技术涉及蒸发源技术领域，尤其涉及一种可移动的线性蒸发源速率监测系统及其蒸镀设备，包括移动装置、蒸镀速率监测装置和蒸镀材料阻挡装置；所述移动装置为滑轨；所述监测装置滑动设置于所述滑轨上；所述阻挡装置包括两个滚轴、驱动所述滚轴的驱动装置、以及绕在两个所述滚轴上形成环状的挡板；所述挡板位于所述滑轨与喷嘴之间；所述监测装置固定于所述挡板上，且在所述挡板上开设有供所述监测装置的监测头伸出的通孔。本实用新型专利技术的发明专利技术目的在于提供一种可移动的线性蒸发源速率监测系统及其蒸镀设备，采用本实用新型专利技术提供的技术方案能够在对整个蒸镀设备的蒸镀速率进行及时有效的检测的同时，还能减小检测系统移动过程中对蒸镀速率的影响。

Mobile linear evaporation source rate monitoring system and evaporation equipment thereof

The utility model relates to the technical field of the evaporation source, in particular to a linear movable evaporation rate monitoring system and coating equipment, including plating rate monitoring device and evaporation materials blocking device of mobile device, the mobile device for steaming; slide; the monitoring device is arranged on the sliding rail; the the barrier device comprises two driving roller, the roller driving device, and around two of the roller on the formation of ring baffle; the baffle is positioned on the slide rail and the nozzle; the monitoring device is fixed on the baffle, the through hole and set up monitoring head for the monitoring device in the baffle out. The utility model has the advantages of the invention is to provide a linear moving evaporation rate monitoring system and evaporation equipment, the technical scheme of the utility model can provide the equipment to the whole evaporation deposition rate of timely and effective detection at the same time, the influence of the deposition rate can reduce the detection system of mobile process.

【技术实现步骤摘要】
一种可移动的线性蒸发源速率监测系统及其蒸镀设备
本技术涉及蒸发源
，尤其涉及一种可移动的线性蒸发源速率监测系统及其蒸镀设备。
技术介绍
在OLED(OrganicLight-EmittingDiode,有机发光二极管中)生产中，需要通过蒸镀设备进行蒸镀加工。现有的蒸镀设备主要分为线源蒸镀和点源蒸镀。由于线性源的材料利用率高，大尺寸基板的OLED蒸镀设备基本采用线源蒸镀的方式。目前蒸镀设备监测膜厚的方法是采用石英晶体振荡监测法和光学膜厚监测法结合方法来监测薄膜生产的准确性和重复性，但固定位置的单点石英晶体振荡监测法很难及时发现线性源在生产过程中存在的异常问题。在高真空环境中，根据平均分子自由程的理论得出，越靠近石英晶体的线性源喷嘴，其吐出的蒸汽分子蒸镀到石英晶振片上的概率更大，因此对速率监测结果的影响越大，而实际生产过程距离石英晶体越远的喷嘴其吐出速率的波动越难监测到位，特别是在生产实际过程中，线性源个别喷嘴出现堵塞情况时，固定位置的速率监测装置不能及时发现，从而导致大批量产品报废，严重影响生产良率，增加生产成本。公布号为CN103160798A公开了一种侦测蒸发源的装置及方法，其将侦测器可移动设置在蒸镀装置的导轨装置上，以侦测整个线性蒸发源的蒸镀速率，及时发现蒸镀源的异常，进而提高产品的良率和品质。但该专利申请文件公开的技术方案，在导轨装置上并不存在能够避免导轨装置移动过程中产生的微粒子对蒸镀速率稳定性造成影响的结构，致使导轨装置对蒸镀速率稳定性造成影响，影响蒸镀的精确性。
技术实现思路
本技术的专利技术目的在于提供一种可移动的线性蒸发源速率监测系统及其蒸镀设备，采用本技术提供的技术方案能够在对整个蒸镀设备的蒸镀速率进行及时有效的检测的同时，还能减小检测系统移动过程中对蒸镀速率的影响。为了达到上述专利技术目的，本技术一方面提供一种可移动的线性蒸发源速率监测系统，包括移动装置、蒸镀速率监测装置和蒸镀材料阻挡装置；所述移动装置为与蒸发源喷嘴并排形成的直线平行的滑轨；所述监测装置滑动设置于所述滑轨上，且其监测头朝向所述蒸发源喷嘴；所述阻挡装置包括两个滚轴、驱动所述滚轴的驱动装置、以及质软的、且绕在两个所述滚轴上形成环状的挡板；所述挡板位于所述滑轨与喷嘴之间，且所述滑轨朝向所述喷嘴投向所述挡板的投影完全落入所述挡板上；所述监测装置固定于所述挡板上，且在所述挡板上开设有供所述监测装置的监测头伸出的通孔。优选的，所述挡板位于所述喷嘴的喷射轨迹以外。优选的，所述驱动装置为电机驱动组件。优选的，所述监测装置为石英晶体振荡器组件。本技术另一方面还提供一种蒸镀设备，包括上述任一项所述的线性蒸发源速率监测系统。由上可见，应用本技术实施例的技术方案，有如下有益效果：本技术通过移动装置移动蒸镀速率监测装置，增加线性源蒸镀时蒸镀速率监测的灵活性，通过移动装置移动监测装置的位置，来监测整个线性源的蒸镀速率，从而快速有效发现线性源蒸镀速率异常地方，降低生产风险，提高生产良率，降低生产成本，同时阻挡装置能够防止蒸镀材料粘附到滑轨上，导致监测装置移动过程中产生的微粒子对蒸镀速率稳定性造成影响，通过阻挡装置来降低风险，同时速率监测仪器固定在挡板上，通过挡板移动带动速率监测仪器来监测线性源的不同位置的速率。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对本技术实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。下面描述中的附图仅仅是本技术的一部分实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术实施例结构示意图；图2为本技术实施例线性蒸发源速率监测系统结构示意图；图3为本技术实施例阻挡装置结构示意图。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚地描述。随着蒸镀面板的大型化，线性源的长度也随着增加，固定式的速率监测装置不能有效监测线性源各段的速率，一旦线性源的吐出机构，即蒸发源喷嘴出现堵塞，速率监测装置不能及时发现，从而导致大批量产品报废。请参见图1，为了解决上述技术问题，本实施例公开了一种可移动的线性蒸发源速率监测系统，该线性蒸发源速率监测系统包括移动装置10和蒸镀速率监测装置20。移动装置10为与蒸发源喷嘴40并排形成的直线平行的滑轨10。监测装置20采用现有的石英晶体振荡器组件来监测蒸镀速率，监测装置20滑动设置于滑轨10上，能够在滑轨10上来回滑动，且其监测头21朝向蒸发源喷嘴40。监测装置20的移动方向与线性蒸发源的运动方向不一致。由于线性蒸发源喷嘴40分布密度不均匀，监测线性蒸发源不同位置时存在速率不一致现象，可通过实际监测速率与设置速率对比，来判断线性源各位置吐出速率是否存在异常。本实施例提供的可移动的线性蒸发源速率监测系统，其蒸镀速率监测装置20沿滑轨10进行匀速往返运动，在匀速运动过程中，可任意选择监测地段来确定该位置上喷嘴40的吐出速率，采用石英晶体振荡器组件来监测该位置上的蒸镀速率与设置速率的对比，从而快速有效发现线性源蒸镀速率异常地方。通过将监测装置20滑动设置在滑轨10上来监测整个线性源的蒸镀速率，增加线性源蒸镀时蒸镀速率监测的灵活性，降低生产风险，提高生产良率，降低生产成本。在工作过程中，蒸镀材料会粘附到滑轨10上，导致监测装置20移动过程中产生的微粒子对蒸镀速率稳定性造成影响，本实施例提供的可移动的线性蒸发源速率监测系统还包括蒸镀材料阻挡装置30。请参见图2，该阻挡装置30包括两个滚轴31、驱动滚轴31的驱动装置32、以及质软的、且绕在两个滚轴31上形成环状的挡板33。其中挡板33位于滑轨10与喷嘴40之间，且滑轨10朝向喷嘴40投向挡板33的投影完全落入挡板33上；驱动装置32为电机驱动组件。请参见图3，监测装置20固定于挡板33上，且在挡板33上开设有供监测装置20的监测头21伸出的通孔34。通过驱动装置32驱动滚轴31做定向运动，带动挡板33向左右移动，同时速率监测装置20固定在挡板33上，挡板33的移动带动速率监测装置20来监测线性源的不同位置的速率。挡板33能够防止蒸镀材料粘附到滑轨10上，进而避免监测装置20移动过程中产生的微粒子对蒸镀速率稳定性造成影响。同时为了防止挡板33对喷嘴40的正常工作造成影响，挡板33需位于喷嘴40的喷射轨迹以外。基于上述可移动的线性蒸发源速率监测系统，本实施例还提供一种蒸镀设备，该蒸镀设备包括上述线性蒸发源速率监测系统。以上所述的实施方式，并不构成对该技术方案保护范围的限定。任何在上述实施方式的精神和原则之内所作的修改、等同替换和改进等，均应包含在该技术方案的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种可移动的线性蒸发源速率监测系统，其特征在于：包括移动装置、蒸镀速率监测装置和蒸镀材料阻挡装置；所述移动装置为与蒸发源喷嘴并排形成的直线平行的滑轨；所述监测装置滑动设置于所述滑轨上，且其监测头朝向所述蒸发源喷嘴；所述阻挡装置包括两个滚轴、驱动所述滚轴的驱动装置、以及质软的、且绕在两个所述滚轴上形成环状的挡板；所述挡板位于所述滑轨与喷嘴之间，且所述滑轨朝向所述喷嘴投向所述挡板的投影完全落入所述挡板上；所述监测装置固定于所述挡板上，且在所述挡板上开设有供所述监测装置的监测头伸出的通孔。

【技术特征摘要】
1.一种可移动的线性蒸发源速率监测系统，其特征在于：包括移动装置、蒸镀速率监测装置和蒸镀材料阻挡装置；所述移动装置为与蒸发源喷嘴并排形成的直线平行的滑轨；所述监测装置滑动设置于所述滑轨上，且其监测头朝向所述蒸发源喷嘴；所述阻挡装置包括两个滚轴、驱动所述滚轴的驱动装置、以及质软的、且绕在两个所述滚轴上形成环状的挡板；所述挡板位于所述滑轨与喷嘴之间，且所述滑轨朝向所述喷嘴投向所述挡板的投影完全落入所述挡板上；所述监测装置固定于所述挡板上，且在所述挡板上开设有供所述监测装置的监测头伸出的通孔。2.根据权利要求1所述的一种...

【专利技术属性】
技术研发人员：曾兴中，邓云升，吕玉武，蔡晓义，柯贤军，苏君海，李建华，
申请(专利权)人：信利惠州智能显示有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44