可印刷的功能性硬涂膜及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种可印刷的功能性硬涂膜及其制备方法，所述硬涂膜包含以基材层、离型层及硬涂层的顺序层积的结构，所述离型层包含使具有乙烯基或己烯基的聚二甲基硅氧烷和氢硅氧烷进行加成反应而得到的硅树脂，所述硬涂层包含具有30℃以上的玻璃化转变温度的高分子树脂。所述硬涂膜具有优异的硬度和印刷附着性，并且离型层和硬涂层的剥离容易，因此在硬涂层的表面进行印刷或蒸镀后也能够使离型层和硬涂层剥离干净。

Printable functional hard film and method of making the same

The invention relates to a printing function of hard coating and a preparation method thereof, wherein the hard coating contains a substrate layer, layer structure from sequence type layer and the hard coating product, wherein the parting layer contains with vinyl or cyclohexene Based Poly two methyl siloxane and hydrogen siloxane addition the reaction of silicon resin, the hard coating comprising a polymer resin having a glass transition temperature of 30 DEG. The hard coating film with excellent hardness and adhesion of printing, and from the stripping layer and the hard coating is easy, so the surface in hard coating printing or evaporation also can make a parting layer and hard coat stripped clean.

【技术实现步骤摘要】
可印刷的功能性硬涂膜及其制备方法
本专利技术涉及一种可印刷的功能性硬涂膜及其制备方法。更具体地，涉及一种硬涂膜及其制备方法，所述硬涂膜能够实现在硬涂层上的印刷及蒸镀处理，并且与离型膜的剥离容易。
技术介绍
最近，为了减少因印刷引起的厚度段差，广泛使用无基材转印型的硬涂膜。大部分的无基材转印型硬涂膜是通过在离型膜上涂布及固化硬涂树脂组合物来形成(参照韩国公开专利公报第2015-77428号)。之后，在所述硬涂层上会形成利用墨或图案等的印刷层，并在所述印刷层上附着塑料射出产品，然后通过去除离型膜的方式进行转印。硬涂膜所具备的离型膜是由基材层和离型层构成，其中对于与硬涂层粘合的离型层主要使用硅树脂或氟类树脂作为原料树脂。其中，就硅类离型层而言，具有剥离力低且价格低廉的优点，但是为了制备无基材转印型产品而在离型层上直接形成硬涂层的过程中，因硅类离型层的表面张力梯度而不易形成正常的涂层，因此会产生很多未涂布(non-coating)、针孔(pin-hole)等涂布不良的问题。此外，就硅类离型层而言，其表面张力低，因此在制备工序中硬涂层和离型层会剥离而使硬涂层破碎，或者在制备之后，会层层地缠绕(winding)在辊上，从而在保存的过程中会有硬涂层转印到其接触的其它层的问题。由于这种问题，正在用表面张力高的三聚氰胺类或丙烯酸类离型层来替代硅类离型层使用到无基材转印型硬涂膜上。然而，在三聚氰胺类或丙烯酸类离型层的情况下，与硅类离型层不同，虽然表层涂布性(overcoating)良好，但是剥离力高且不易控制剥离力，从而在印刷工序后剥离离型膜时，不能剥离干净，因此有在离型面上存在硬涂层的残留物的问题。
技术实现思路
要解决的技术问题因此，本专利技术的目的在于，提供一种离型膜的剥离性、硬涂层的外观及保存稳定性优异的硬涂膜及其制备方法。技术方案根据上述目的，本专利技术提供一种硬涂膜，其包含以基材层(baselayerorbackinglayer)、离型层(releaselayer)及硬涂层(hardcoatinglayer)的顺序层积的结构，所述离型层包含使具有乙烯基(vinylgroup)或己烯基(hexenylgroup)的聚二甲基硅氧烷(polydimethylsiloxane)和氢硅氧烷(hydrogensiloxane)进行加成反应而得到的硅树脂(siliconeresin)，所述硬涂层包含具有30℃以上的玻璃化转变温度(Tg)的高分子树脂。此外，根据所述另一目的，本专利技术提供一种硬涂膜的制备方法，其包括以下步骤：(1)使具有乙烯基或己烯基的聚二甲基硅氧烷和氢硅氧烷进行加成反应而制备硅树脂；(2)在基材层上涂布包含所述硅树脂的组合物，从而形成离型层；以及(3)在所述离型层上涂布包含具有30℃以上的玻璃化转变温度的高分子树脂的硬涂层树脂组合物，从而形成硬涂层。就本专利技术的硬涂膜而言，硬涂层具有优异的硬度和印刷性，并且与离型层的剥离容易，因此在硬涂层的表面进行印刷或蒸镀后也能够使离型膜和硬涂层剥离干净。尤其是所述硬涂膜使用具有相对高的玻璃化转变温度的硬涂层树脂，因此在辊收卷及后续工序(post-process)等中，即使被施加了外力，硬涂层也不会破碎或转印到其它层，因此能够长期保存。此外，就所述硬涂膜而言，与离型层的附着力得到了调节，因此在辊收卷及后续工序中，离型层和硬涂层也不会容易地剥离，并且用于硬涂层制备的组合物的表面张力得到了调节，因此在硅类离型层上也能够实现良好的涂布。因此，就本专利技术的硬涂膜而言，在硬涂层的表面进行墨印刷、金属蒸镀等处理后，利用透明胶带等来附着于玻璃板上，从而可以用作防散射膜(anti-scatteringfilm)，或者在塑料产品的射出后，可以用作手机或平板电脑的外装材料等。附图说明图1至图4为图示根据实施例的硬涂膜的多种层结构。附图标记说明111：第一基材层112：第二基材层121：第一离型层122：第二离型层130：硬涂层140：粘合层具体实施方式下面将参照附图对本专利技术进行更详细的说明。为了有助于理解，附图上的尺寸或间隔等可以放大示出，并且对于本领域的技术人员来说是显而易见的内容可以省略图示。参照图1，根据一例的硬涂膜包含以第一基材层111、第一离型层121及硬涂层130的顺序层积的结构。参照图2，根据另一不同例的硬涂膜包含以第一离型层121、第一基材层111、第一离型层121及硬涂层130的顺序层积的结构。参照图3，根据又一不同例的硬涂膜包含以第一基材层111、第一离型层121、硬涂层130、第二离型层122及第二基材层112的顺序层积的结构。所述硬涂膜在所述硬涂层上可以进一步包含印刷层、蒸镀层或粘合层。参照图4，根据另一不同例的硬涂膜包含以第一基材层111、第一离型层121、硬涂层130、粘合层140、第二离型层122及第二基材层112的顺序层积的结构。下面对各结构层进行具体的说明。所述基材层111及基材层112可以为透明的膜，例如，可以为透明高分子膜。所述基材层可以包含选自聚烯烃、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚酯、纤维素、丙烯酸、聚氯乙烯及它们的混合物的高分子树脂。具体地，所述基材层可以包含选自聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、三醋酸纤维素、丙烯酸、聚氯乙烯及它们的混合物的高分子树脂。此外，为了提高机械强度或光学功能，所述基材层根据需要可以为对膜实施了单轴拉伸或双轴拉伸的基材层。所述基材层的厚度可以根据材质来选择，但是其厚度可以为20～550μm，优选可以为50～188μm。所述离型层121及离型层122包含剥离力低的硅树脂。现有的三聚氰胺类或丙烯酸类离型膜的情况下，当与硬涂层剥离时，会存在硬涂层残留在离型膜上的问题，但是根据本专利技术可以解决这种问题。包含在所述离型层的硅树脂可以是使聚二甲基硅氧烷和氢硅氧烷进行加成反应而得到的。具体地，所述硅树脂可以是所述聚二甲基硅氧烷的乙烯基或己烯基与所述氢硅氧烷的Si-H基进行反应而形成的。由此，所述硅树脂可以同时具有聚二甲基硅氧烷的重复单元和氢硅氧烷的重复单元。所述硅树脂可以是使10重量份的所述聚二甲基硅氧烷和0.05～1.0重量份的氢硅氧烷进行加成反应而得到的。当所述氢硅氧烷的反应量为0.05重量份以上时，有利于抑制残留粘附率的下降及小分子(smallmolecule)迁移问题的发生，当所述氢硅氧烷的反应量为1.0重量份以下时，离型维持力可以更优异。作为具体例，所述聚二甲基硅氧烷可以用下述化学式1表示。[化学式1]上述式中，X为乙烯基或己烯基，Me为甲基，n为5～100的整数，优选为5～50的整数，m+n为1,500～15,000的整数，优选为3,000～10,000的整数。所述聚二甲基硅氧烷的分子量可以为约15万～60万g/mol。所述氢硅氧烷可以用下述化学式2表示。[化学式2]上述式中，Me为甲基，a+b为2～100的整数，且b≤a。所述氢硅氧烷的市售产品可以例举如信越(ShinEtsu)公司的X-92-122及道康宁公司的SYL-oFF7048、SYL-OFF7599、SYL-OFF7678、SYL-OFF7689等，但并不限定于此。由此，所述硅树脂可以同时具有上述化学式1的重复单元(用本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种硬涂膜，其特征在于，其包含以基材层、离型层及硬涂层的顺序层积的结构，所述离型层包含使具有乙烯基或己烯基的聚二甲基硅氧烷和氢硅氧烷进行加成反应而得到的硅树脂，所述硬涂层包含具有30℃以上的玻璃化转变温度的高分子树脂。

【技术特征摘要】
2015.12.08 KR 10-2015-01737661.一种硬涂膜，其特征在于，其包含以基材层、离型层及硬涂层的顺序层积的结构，所述离型层包含使具有乙烯基或己烯基的聚二甲基硅氧烷和氢硅氧烷进行加成反应而得到的硅树脂，所述硬涂层包含具有30℃以上的玻璃化转变温度的高分子树脂。2.根据权利要求1所述的硬涂膜，其特征在于，所述硬涂层对所述离型层具有4～10gf/in的附着力。3.根据权利要求1所述的硬涂膜，其特征在于，所述硅树脂是所述聚二甲基硅氧烷的乙烯基或己烯基与所述氢硅氧烷的Si-H基进行反应而形成。4.根据权利要求3所述的硬涂膜，其特征在于，所述硅树脂是使10重量份的所述聚二甲基硅氧烷和0.05～1.0重量份的氢硅氧烷进行加成反应而得到的。5.根据权利要求4所述的硬涂膜，其特征在于，所述聚二甲基硅氧烷以下述化学式1表示；化学式1上述式中，X为乙烯基或己烯基，Me为甲基，n为5～100的整数，m+n为1,500～15,000的整数。6.根据权利要求1所述的硬涂膜，其特征在于，所述离型层具有0.05～1.0μm的厚度。7.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：李康圭，李扃旻，郑光洙，崔荣洙，冰广殷，
申请(专利权)人：爱思开哈斯显示用薄膜有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国,KR