一种掩膜板及其制作方法技术

本申请实施例提供一种掩膜板及其制作方法，以简化掩模板的制作工艺，降低掩模板的制作成本。该掩模板的制作方法，包括：提供一透明衬底基板；在所述透明衬底基板上形成具有设定图案的遮光层，其中，具有设定图案的所述遮光层用于对光进行部分遮挡。

Mask plate and manufacturing method thereof

The embodiment of the utility model provides a mask plate and a manufacturing method thereof, in order to simplify the manufacturing process of the mask plate and reduce the manufacturing cost of the mask plate. The mask making method includes: providing a transparent substrate; forming with shading layer, set the pattern on the transparent substrate, with the shading layer set pattern for light partial occlusion.

【技术实现步骤摘要】
一种掩膜板及其制作方法
本专利技术涉及显示领域，尤其涉及一种掩膜板及其制作方法。
技术介绍
目前的显示类型主要包括液晶显示(LiquidCrystalDisplay，LCD)、有机发光二极管显示(OrganicLight-EmittingDiode，OLED)、等离子显示(PlasmaDisplayPanel，PDP)和电子墨水显示等多种。其中，LCD液晶显示器，具有寿命长、光效高、辐射低、功耗低的特点，逐渐取代了传统射线管显示设备而成为了近年来显示设备中的主流产品。OLED显示器则以其轻薄、主动发光、快响应速度、广视角、色彩丰富及高亮度、低功耗、耐高低温等众多优点而被业界公认为是继LCD显示器之后的第三代显示技术，可以广泛用于智能手机、平板电脑、电视等终端产品。现有的LCD显示器、OLED显示器或其它显示器件，在制作过程中，通常会用到掩膜板，而掩膜板本身的制作通常又会涉及溅射、光刻胶涂布、曝光、显影、刻蚀等工艺步骤，同时也需要相匹配的其它掩模板进行遮挡，使得掩模板的制作过程较为复杂，制作成本较高。
技术实现思路
本申请实施例提供一种掩膜板及其制作方法，以简化掩模板的制作工艺，降低掩模板的制作成本。本申请实施例提供一种掩模板的制作方法，所述制作方法包括：提供一透明衬底基板；在所述透明衬底基板上形成具有设定图案的遮光层，其中，具有设定图案的所述遮光层用于对光进行部分遮挡。优选的，所述在所述透明衬底基板上形成具有设定图案的遮光层，具体包括：在所述透明衬底基板上涂布遮光层薄膜；去除设定区域的所述遮光层薄膜，形成所述遮光层的图案。优选的，所述去除设定区域的所述遮光层薄膜，具体包括：通过激光烧刻去除设定区域的所述遮光层薄膜。优选的，所述在所述透明衬底基板上形成具有设定图案的遮光层，具体包括：在透明衬底基板上直接涂布具有设定图案的遮光层。优选的，在所述透明衬底基板上形成具有设定图案的遮光层之后，所述制作方法还包括：在所述遮光层上形成透明保护层薄膜。优选的，在所述透明衬底基板上形成具有设定图案的遮光层之后，所述制作方法还包括：在所述遮光层上贴附玻璃盖板，所述玻璃盖板通过粘贴层与所述遮光层贴附。优选的，所述透明衬底基板上设置有遮光层，所述遮光层之上设置有玻璃盖板，所述玻璃盖板通过粘贴层与遮光层贴附；所述在提供一透明衬底基板之前，所述制作方法还包括：采用溶液刻蚀和/或激光烧刻工艺，去除玻璃盖板与遮光层之间的粘帖层以及遮光层，形成所述透明衬底基板。本申请实施例提供一种掩模板，包括：透明衬底基板，以及设置在所述透明衬底基板上图案化的遮光层。优选的，所述掩模板还包括：设置在所述遮光层上的透明保护层薄膜或玻璃盖板。优选的，所述遮光层为紫外遮光层。本专利技术实施例有益效果如下：本申请实施例提供的掩模板的制作方法，包括在衬底基板上形成具有设定图案的遮光层，其中，具有设定图案的遮光层，可以在部分区域使光透过，在其余区域对光进行遮挡，实现掩模板的遮光作用，本申请实施例提供的掩模板的制作方法，可以简化掩模板的制作工艺，降低掩模板的制作成本。附图说明图1为本申请实施例提供的一种掩模板的制备方法的流程图；图2为本申请专利技术实施例提供的一种具体的掩模板的制备方法的流程图；图3为本申请实施例提供的另一种具体的掩模板的制备方法的流程图；图4为本申请实施例提供的掩模板的遮挡层图案与显示面板的对应结构示意图；图5为本申请实施例中，提供的透明衬底基板的示意图；图6为本申请实施例中，在透明衬底基板上制备遮光层薄膜后的结构示意图；图7为本申请实施例中，去除部分遮光层薄膜后的掩模板的结构示意图；图8为本申请实施例中，沉积保护层薄膜后的掩模板的结构示意图；图9为本申请实施例提供的一种具体的掩模板的结构示意图；图10为本申请实施例提供的另一种具体的掩模板的结构示意图。具体实施方式下面结合说明书附图对本专利技术实施例的实现过程进行详细说明。需要注意的是，自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本专利技术，而不能理解为对本专利技术的限制。参见图1，本申请实施例提供一种掩膜板的制作方法，包括：步骤101，提供一透明衬底基板。步骤102，在透明衬底基板上形成具有设定图案的遮光层，其中，具有设定图案的遮光层用于对光进行部分遮挡。在具体实施时，对于在透明衬底基板上形成设定图案的遮光层，可以是先通过涂布或旋涂工艺在衬底基板上整体形成遮光层薄膜，即在衬底基板的全部区域覆盖一层遮光层薄膜，再去除该遮光层薄膜上设定区域的遮光层薄膜，进而形成具有设定图案的遮光层；也可以是通过涂布工艺在衬底基板上直接涂布形成具有所需图案的遮光层，即在衬底基板上需要涂布遮光层薄膜的区域直接涂布遮光层薄膜。关于在衬底基板上形成具有设定图案的遮光层，进而以形成掩模板的方法，以下分别进行举例说明。如图2所示，为本申请实施例提供的一种具体的掩膜板的制作方法，包括：步骤201，提供一透明衬底基板。步骤202，在透明衬底基板上涂布遮光层薄膜。步骤203，去除设定区域的遮光层薄膜，形成遮光层的图案。在具体实施时，可以通过激光烧刻去除设定区域的遮光层薄膜。如图3所示，为本申请实施例提供的另一种具体的掩膜板的制作方法，包括：步骤301，提供一透明衬底基板。步骤302，在透明衬底基板上直接涂布具有设定图案的遮光层。在具体实施时，为了防止掩膜板的遮光层在使用过程中由于和其它物体接触时产生划痕或沾染颗粒物，影响掩膜板的遮光性能，优选的，本申请实施例提供的掩膜板，在遮光层上还沉积有保护层薄膜或贴附有玻璃盖板。具体的，若选择在遮光层上沉积保护层薄膜对遮光层进行保护，则具体保护层薄膜的材质可以是二氧化硅(SiO2)、碳化硅(SiC)、氧化铟锡(ITO)中的一种。若选择通过玻璃盖板对遮光层进行保护，则在遮光层上还形成粘贴层，玻璃盖板可以通过该粘贴层与遮光层粘贴。需要说明的是，对于本申请实施例提供的掩模板，其使用的透明衬底基板可以未经使用过的新的透明衬底基板，而考虑到节约资源，降低掩模板的制作成本，本申请实施例提供的掩模板的透明衬底基板可以循环使用，即，透明衬底基板也可以是采用本申请实施例提供的掩模板的制作方法制作形成的掩模板在经去除其上的各薄膜层后形成的透明衬底基板，即，本申请实施例的掩模板的制作方法，在提供一透明衬底基板之前，还包括：采用溶液刻蚀和/或激光烧刻工艺，去除玻璃盖板与遮光层之间的粘帖层以及遮光层，形成所述透明衬底基板。其中，若选取的遮光层与粘帖层的材料的性能较为相近，则可以同一种溶液同时去除粘帖层与遮光层，或采用一合适能量的激光以同时去除粘帖层与遮光层，当然，若选取的遮光层与粘帖层的性能差异较大，则可以采用第一次溶液刻蚀工艺去除粘帖层，再通过第二次溶液刻蚀工艺区域遮光层，或通过调整不同的激光能量以分别去除粘贴层和遮光层。关于本申请实施例提供的掩膜板的遮光层的图案，其可以根据需要进行设定，例如，若本申请实施例提供的掩膜板用于在OLED显示器件的封装过程中对OLED显示器件的封装胶进行固化，例如，参见图4所示，OLED显示面板100为长方形(图4中以一整块面板包括两块显示面板为例进行说明)，每一显示面板包括显示区11以及包围该显示区的非显示区12，其中，封本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩模板的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：提供一透明衬底基板；在所述透明衬底基板上形成具有设定图案的遮光层，其中，具有设定图案的所述遮光层用于对光进行部分遮挡。

【技术特征摘要】
1.一种掩模板的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：提供一透明衬底基板；在所述透明衬底基板上形成具有设定图案的遮光层，其中，具有设定图案的所述遮光层用于对光进行部分遮挡。2.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述在所述透明衬底基板上形成具有设定图案的遮光层，具体包括：在所述透明衬底基板上涂布遮光层薄膜；去除设定区域的所述遮光层薄膜，形成所述遮光层的图案。3.如权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述去除设定区域的所述遮光层薄膜，具体包括：通过激光烧刻去除设定区域的所述遮光层薄膜。4.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述在所述透明衬底基板上形成具有设定图案的遮光层，具体包括：在透明衬底基板上直接涂布具有设定图案的遮光层。5.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，在所述透明衬底基板上形成具有设定图案的遮光层之后，所述制作方法还包括：在所述遮光层上形...

【专利技术属性】
技术研发人员：张小磊，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11