彩膜基板及其制备方法、显示装置和涂胶系统制造方法及图纸

本发明专利技术提出了彩膜基板、显示面板及其制备方法和应用。该制备彩膜基板的方法的形成透明绝缘层的步骤中，根据与该彩膜基板配对的阵列基板上的金属膜层的厚度，确定透明绝缘层的厚度。本发明专利技术所提出的制备彩膜基板的方法，根据TFT基板上金属膜层的厚度信息，调节CF基板的透明绝缘层的形成厚度，从而使对盒处理后CF基板透明绝缘层上任一点到TFT基板上金属膜层的垂直距离更均匀，提高Cell段填充液晶后的Cell Gap的均一性，有效地解决由于TFT基板上表面溅射成膜厚度差异所带来的Mura等画面品质问题。

Color film substrate, method for producing the same, display device and coating system

The invention provides a color film base plate, a display panel, a preparation method and an application thereof. In the process of forming a transparent insulating layer of the color film substrate, the thickness of the transparent insulating layer is determined according to the thickness of the metal film on the array substrate matched with the color film substrate. Preparation method of color film substrate provided by the invention, the TFT substrate according to the thickness of the metal film information, adjusting the CF substrate transparent insulating layer is formed so that the thickness of the box after the treatment of CF substrate transparent insulating layer of a vertical distance to the TFT substrate of the metal film is more uniform, improve the uniformity of Cell after the Cell section filled liquid crystal Gap, effectively resolve the sputtering surface of the TFT substrate on the film thickness differences arising from Mura image quality problem.

【技术实现步骤摘要】
彩膜基板及其制备方法、显示装置和涂胶系统
本专利技术涉及显示
，具体的，本专利技术涉及彩膜基板及其制备方法、显示装置和涂胶系统。更具体的，涉及制备彩膜基板的方法、彩膜基板、显示装置和涂胶系统。
技术介绍
随着TFT-LCD(薄膜晶体管-液晶显示器)的技术发展，对该显示器的画面品质的要求日益增高。目前，现有的制造工艺中最终在Cell段(即成盒工艺，包括形成配向膜、滴液晶、对盒等操作)填充液晶后，获得的CellGap(液晶单元盒厚)的均一性不高，就会导致在通电使用过程中指示器亮度的不均匀，进一步造成出现各种瑕疵，即出现Target(靶材)Mura问题，如此容易造成制造的显示器的次级品率较高。所以，现阶段TFT-LCD显示面板的制造方法有待改进。
技术实现思路
本专利技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。本专利技术是基于专利技术人的下列发现而完成的：本专利技术人在研究过程中发现，TFT-LCD显示面板的具体结构主要包括CF(ColorFilm，彩膜)基板、TFT(ThinFilmTransistor，薄膜晶体管)基板和填充其间的液晶。参照图1(其中，下图为阵列基板结构示意图，上图为四探针法测定阵列基板上金属膜层厚度的结果图，颜色越深表示膜层厚度越大)，由于，TFT基板200上表面的平行排列的多根靶材210在镀膜过程中，容易形成单根靶材中间的膜厚偏高(颜色较深)，而两根靶材间隙的成膜厚度相对较薄(颜色较浅)。专利技术人还发现TFT基板上表面的厚度差在左右。而CF基板通常包括衬底、间隔设置在衬底下表面的黑矩阵层和彩色滤光层，以及覆盖黑矩阵层和彩色滤光层的透明绝缘层，其中，透明绝缘层的下表面是平整的平面，且由于配向膜为厚度均匀的膜层，无法对阵列基板表面的厚度差异进行补偿，由此，由于阵列基板上溅射成膜导致的高度差，配对后的CF基板的下表面与TFT基板上表面之间的CellGap就会存在均一性差的问题，从而在显示器使用过程中容易出现Mura现象。本专利技术的专利技术人经过深入研究发现，在CF基板的制备过程中，根据TFT基板表面的Array(阵列)反馈信息对CF基板的透明绝缘层厚度进行相应的调节，如此可实现CF基板厚度的可调节性，从而对TFT基板表面的Array的厚度差异进行补偿，进一步提高Cell段填充液晶后的CellGap的均一性，有效地解决由于TFT基板上表面溅射成膜厚度差异所带来的Mura等画面品质问题。有鉴于此，本专利技术的一个目的在于提出一种提高Cell段填充液晶后CellGap均一性的制备彩膜基板的方法。在本专利技术的第一方面，本专利技术提出了一种制备彩膜基板的方法。根据本专利技术的实施例，在形成透明绝缘层的步骤中，根据与所述彩膜基板配对的阵列基板上的金属膜层的厚度，确定所述透明绝缘层的厚度。专利技术人意外地发现，采用本专利技术实施例的制备彩膜基板的方法，根据存在表面高度差异的阵列基板上金属膜层的厚度信息，调节CF基板的透明绝缘层的形成厚度，可以根据实际使用需要，使得阵列基板和彩膜基板之间满足特定的要求，以提高其使用效果。在本专利技术的一些实施例中，可以使得透明绝缘层的厚度补偿阵列基板上表面的厚度差异，进而有效提高Cell段填充液晶后的CellGap的均一性，有效地解决由于TFT基板上表面溅射成膜厚度差异所带来的Mura等画面品质问题。另外，根据本专利技术上述实施例的制备彩膜基板的方法，还可以具有如下附加的技术特征：根据本专利技术的实施例，所述透明绝缘层是通过涂胶形成的，且所述形成透明绝缘层的步骤包括：获取与所述彩膜基板配对的阵列基板上的金属膜层的成膜数据；根据所述成膜数据，确定所述金属膜层的厚度；根据所述金属膜层的厚度，确定所述透明绝缘层的厚度；根据所述透明绝缘层的厚度，确定涂胶的压力时间曲线；根据所述涂胶的压力时间曲线进行涂胶，以形成所述透明绝缘层。根据本专利技术的实施例，所述成膜数据包括金属膜层的方块电阻。根据本专利技术的实施例，所述透明绝缘层朝向所述阵列基板的面上任意一点到所述金属膜层的垂直距离的最大值与最小值的差值不超过所述最大值的2％。由此，该含有该彩膜基板的显示装置的显示效果理想，Mura等画面品质问题得到明显改善。在本专利技术的第二方面，本专利技术提出了一种彩膜基板。根据本专利技术的实施例，所述彩膜基板是通过上述的方法制备的。专利技术人意外地发现，本专利技术实施例的彩膜基板，由于其下表面的透明绝缘层的厚度是根据与之配对的TFT基板(即阵列基板)的表面厚度信息进行调整的，从而可以提高Cell段填充液晶后的CellGap的均一性，并有效地解决由于TFT基板上表面溅射成膜厚度差异所带来的Mura等画面品质问题。本领域技术人员能够理解的是，前面针对制备彩膜基板的方法所描述的特征和优点，仍适用于该彩膜基板，在此不再赘述。在本专利技术的第三方面，本专利技术提出了一种显示装置。根据本专利技术的实施例，所述显示装置包括：阵列基板；彩膜基板，所述彩膜基板和所述阵列基板是相对设置的；液晶层，所述液晶层设置于所述阵列基板和彩膜基板之间；其中，所述阵列基板靠近所述彩膜基板的一侧设置有金属膜层，所述彩膜基板靠近所述阵列基板的一侧设置有透明绝缘层，且所述透明绝缘层的厚度是根据所述金属膜层的厚度确定的。专利技术人意外地发现，本专利技术实施例的显示装置，由于其CellGap的均一性更好，而能有效地解决Mura等画面品质问题。另外，根据本专利技术上述实施例的显示装置，还可以具有如下附加的技术特征：根据本专利技术的实施例，所述彩膜基板包括：衬底；黑矩阵层，所述黑矩阵层设置在所述衬底的下表面，且具有多个开口；彩色滤光层，所述彩色滤光层设置在所述衬底朝向所述阵列基板的一侧，且在所述黑矩阵层的所述多个开口中；和透明绝缘层，所述透明绝缘层设置在所述彩色滤光层和所述黑矩阵层远离所述衬底的一侧；其中，所述透明绝缘层朝向所述阵列基板的面上任意一点到所述金属膜层的垂直距离的最大值与最小值的差值不超过所述最大值的2％。由此，该显示装置的显示效果理想，Mura等画面品质问题得到明显改善。根据本专利技术的实施例，该显示装置的具体种类不受特别限制，只要是具有显示功能的装置即可。在本专利技术的一些实施例中，该显示装置可以为限制面板、手机、平板电脑、游戏机、可穿戴设备、家用电器等任何可以实现显示的产品。在本专利技术的第四方面，本专利技术提出了一种涂胶系统。根据本专利技术的实施例，所述涂胶系统包括：信息获取模块，用于获取金属膜层的厚度；透明绝缘层厚度确定模块，用于根据所述金属膜层的厚度确定透明绝缘层的厚度；涂胶模块，用于根据所述透明绝缘层的厚度进行涂胶，其中，所述透明绝缘层设置在彩膜基板的一侧，所述金属膜层设置在与所述彩膜基板配对的阵列基板的一侧，且所述透明绝缘层与所述金属膜层相对设置。专利技术人意外地发现，采用本专利技术实施例的涂胶系统，能根据金属膜层的厚度信息，灵活调节透明绝缘层的形成厚度，从而使透明绝缘层和金属膜层满足特定的使用要求，例如可以使得透明绝缘层下表面上任一点到金属膜层的垂直距离更均匀。根据本专利技术的实施例，可以通过调整透明绝缘层的厚度使得透明绝缘层朝向阵列基板的面上任意一点到金属膜层的垂直距离的最大值与最小值的差值不超过所述最大值的2％。由此，有该彩膜基板和阵列基板形成的显示装置的显示效果理想，Mura等画面品质问题得到明显改善。另外，根据本专利技术上述实施例的涂胶本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制备彩膜基板的方法，其特征在于，在形成透明绝缘层的步骤中，根据与所述彩膜基板配对的阵列基板上的金属膜层的厚度，确定所述透明绝缘层的厚度。

【技术特征摘要】
1.一种制备彩膜基板的方法，其特征在于，在形成透明绝缘层的步骤中，根据与所述彩膜基板配对的阵列基板上的金属膜层的厚度，确定所述透明绝缘层的厚度。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述透明绝缘层是通过涂胶形成的，且所述形成透明绝缘层的步骤包括：获取与所述彩膜基板配对的阵列基板上的金属膜层的成膜数据；根据所述成膜数据，确定所述金属膜层的厚度；根据所述金属膜层的厚度，确定所述透明绝缘层的厚度；根据所述透明绝缘层的厚度，确定涂胶的压力时间曲线；根据所述涂胶的压力时间曲线进行涂胶，以形成所述透明绝缘层。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述成膜数据包括所述金属膜层的方块电阻。4.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其特征在于，所述透明绝缘层朝向所述阵列基板的面上任意一点到所述金属膜层的垂直距离的最大值与最小值的差值不超过所述最大值的2％。5.一种彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板是通过权利要求1～4中任一项所述的方法制备的。6.一种显示装置，其特征在于，包括：阵列基板；彩膜基板，所述彩膜基板和所述阵列基板是相对设置的；液晶层，所述液晶层设置于所述阵列基板和所述彩膜基板之间；其中，所述阵列基板靠近所述彩膜基板的一侧设置有金属膜层，所述彩膜基板靠近所述阵列基板的一侧设置有透明绝缘层，且所述透明绝缘层的厚度是根据所述金属膜层的厚度确定的。7.根据权利要求6所述的显示装置，其特征在于，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：卢彦春，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥鑫晟光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11