The invention relates to a method for production of polysilicon, which will support polysilicon deposition through direct electric heating to provide polysilicon rod, wherein the support body remains at the bottom of reactor and the supply current to the supporting body through the electrode, which end diameter on the polysilicon rod has been expected when the termination of polysilicon deposition, and then the polysilicon rod is removed from the reactor, and the new supporting body is mounted to the reactor to provide additional polysilicon rods, in which from the reactor after removal of the polysilicon rod and supporting body mounted to the new the reactor before cleaning the bottom of the reactor, wherein the floor cleaner comprises at least two cleaning steps, wherein the at least two cleaning steps using at least two in different physical state Cleaning medium.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及生产多晶硅的方法。
技术介绍
多晶硅通常通过西门子法来生产。这包括通过喷嘴将包含一种或多种含硅组分和任选存在的氢引入到包含支撑体的反应器中,通过直接通电加热所述支撑体以使固体硅沉积在所述支撑体上。使用的含硅组分优选是硅烷(SiH4)、单氯甲硅烷(SiH3Cl)、二氯甲硅烷(SiH2Cl2)、三氯硅烷(SiHCl3)、四氯硅烷(SiCl4)或它们的混合物。西门子法通常在沉积反应器(也称为\西门子反应器\)中进行。在最通常使用的实施方式中,所述反应器包含金属底板和配置在所述底板上的可冷却的钟形罩,如此在所述钟形罩内形成反应空间。EP2077252A2描述了用于多晶硅生产的反应器类型的典型结构。所述底板包括反应气体用的一个或多个进气开口和一个或多个的排气开口,以及帮助将支撑体保持在反应空间内且通过电极向所述支撑体供应电流的固定器。每个支撑体通常由两个所谓的细棒和水平桥形成。所述桥连接向所述支撑体提供其典型的U型形状。所述支撑体通常由多晶硅制成。多晶硅沉积在其上的细棒可以是几米长(通常约2-3米)。在EP2077252A2中,就工艺过程而言,在沉积过程中,用于反应气体在线与离线供应的喷嘴看起来是有利的。这通过随着工艺时间或棒直径的变化来调节关闭的喷嘴的比例而实现。该措施旨在确保,随着棒直径增大,对所有棒特别是上面区域内的棒的最佳的气体供应。EP2067744A2公开了一种生产多晶硅的方法,其中在初始稳定化步骤后,增大反应气体的流入速度,通过所述反应气体来沉积硅,首先急剧增大,然后更缓慢的增大,以改进对支撑体的反应气体供应,随后在生长步骤中降低以确保 ...
【技术保护点】
一种生产多晶硅的方法,其中将多晶硅沉积在通过直接通电加热的支撑体上以提供多晶硅棒,其中将所述支撑体保持在反应器的底板上并通过电极向所述支撑体供应电流,其中在所述多晶硅棒已获得期望的最终直径时,终止多晶硅的沉积,其中随后将所述多晶硅棒从所述反应器中移出,并将新的支撑体安装到所述反应器以提供另外的多晶硅棒,其中在从所述反应器移出所述多晶硅棒后且将新支撑体安装到所述反应器前,清洁所述反应器的底板,其中进行包括至少两个清洁步骤的底板清洁,其中所述至少两个清洁步骤使用至少两种处在不同物理状态的清洁介质。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.08.18 DE 102014216325.01.一种生产多晶硅的方法,其中将多晶硅沉积在通过直接通电加热的支撑体上以提供多晶硅棒,其中将所述支撑体保持在反应器的底板上并通过电极向所述支撑体供应电流,其中在所述多晶硅棒已获得期望的最终直径时,终止多晶硅的沉积,其中随后将所述多晶硅棒从所述反应器中移出,并将新的支撑体安装到所述反应器以提供另外的多晶硅棒,其中在从所述反应器移出所述多晶硅棒后且将新支撑体安装到所述反应器前,清洁所述反应器的底板,其中进行包括至少两个清洁步骤的底板清洁,其中所述至少两个清洁步骤使用至少两种处在不同物理状态的清洁介质。2.一种清洁用于多晶硅生产的CVD反应器的底板的方法,其包括两个清洁步骤,其中所述至少两个清洁步骤使用至少两种处在不同物理状态的清洁介质。3.如权利要求1和2任一项所述的方法,其中至少在每六个从所述反应器移...
【专利技术属性】
技术研发人员:F·波普,H·赫特莱因,
申请(专利权)人:瓦克化学股份公司,
类型:发明
国别省市:德国;DE
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