【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学材料
,特别是一种折射率连续渐变的光学薄膜制备方法。
技术介绍
光学材料是用于光学实验和光学仪器中的具有一定光学性质和功能的材料的统称,光介质材料是传输光线的材料,入射光学材料的光线经过折射、反射会改变光线的方向、位相和偏振态,还可经过吸收或散射改变光线的强度和光谱成分。光学薄膜是由薄的分层介质构成的,通过界面传播光束的一类光学介质材料,现今光学薄膜已广泛用于光学和光电子
,制造各种光学仪器。光学薄膜传统上采用真空镀膜工艺来制备,主流上是采用单一材料单一的成膜方式,制备只有单一折射率的光学材料,这种材料折射率控制范围较小,在特定应用中需要制备折射率连续渐变的光学材料,目前已有相关的技术文献提出了渐变折射率光学材料的制备方法,如中国专利技术专利(公开号:104678461A)所公开的渐变折射率材料制备方法,其基于真空镀膜工艺进行改进,具体方式为:提供一基底,采用掠入射角镀膜或者化学腐蚀方式在所述基底表面镀渐变折射率层,所述渐变折射率层是以传统光学材料为基础,通过改变结构中材料与空隙的体积比,从而调节所述渐变折射率层的有效折射率。上述方法是采用传统的镀膜或化学腐蚀工艺进行分段成膜的方式,可形成折射率分段渐变的光学材料,在单层膜层内折射率还是没有变化,所有其折射率实际上是分段变化,而非线性的连续变化,除此之外,还有采用不同折射率的材料进行堆叠以达到不同的光学折射率的目的,此方法与单一材料分段成膜一样,在单层膜层内折射率没有变化,渐变缺乏持续性,而且分段蒸镀膜层工艺难度和成本均较大。有鉴于此,本专利技术人为克服上述缺陷,提出一种折射 ...
【技术保护点】
一种折射率连续渐变的光学薄膜制备方法,其特征在于:包括以下步骤一、样品台设置:提供一基底,将基底设置在通过转动轴实现转动的样品台上,且样品台的转动轴与基底表面平行,二、材料源设置:提供一蒸镀源或溅射靶材,调整蒸镀源或溅射靶材位置,使其向基底入射的方向与样品台的转动轴垂直,蒸镀源或溅射靶材入射方向与基底之间形成可变化的夹角;三、镀膜控制:蒸镀源或溅射靶材向样品台上的基底送入镀膜材料,此时不断转动样品台并控制转速,使基底与蒸镀源或溅射靶材之间的夹角在0‑90°内连续变化,制得密度可连续变化的光学薄膜。
【技术特征摘要】
1.一种折射率连续渐变的光学薄膜制备方法,其特征在于:包括以下步骤一、样品台设置:提供一基底,将基底设置在通过转动轴实现转动的样品台上,且样品台的转动轴与基底表面平行,二、材料源设置:提供一蒸镀源或溅射靶材,调整蒸镀源或溅射靶材位置,使其向基底入射的方向与样品台的转动轴垂直,蒸镀源或溅射靶材入射方向与基...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈亮,李俊贤,吕奇孟,吴奇隆,陈凯轩,张永,
申请(专利权)人:厦门乾照光电股份有限公司,
类型:发明
国别省市:福建;35
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