【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种渐变折射率材料制备方法，其特征在于，所述制备方法至少包括：提供一基底，采用掠入射角镀膜或者化学腐蚀方式在所述基底表面镀渐变折射率层，所述渐变折射率层是以传统光学材料为基础，通过改变结构中材料与空隙的体积比，从而调节所述渐变折射率层的有效折射率。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：奚衍罡，陈小源，李玉磊，
申请(专利权)人：中国科学院上海高等研究院，
类型：发明
国别省市：上海;31
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