可降低扰流的槽盘式液体循环系统技术方案

一种槽盘式液体循环系统包括一槽体、一进液装置以及一输送装置，所述槽体包括一底壁以及一环绕侧壁，所述环绕侧壁突出于所述底壁，所述环绕侧壁与所述底壁共同定义一容置空间及连通于所述容置空间的一开口，其中所述容置空间用以容置一液体，所述进液装置设置在所述槽体的上方，所述进液装置沿一第一方向通过所述开口提供一补充液体至位于所述容置空间内的所述液体，所述输送装置设置在所述槽体的所述容置空间内，所述输送装置用以沿一第二方向输送一平板构件通过所述液体。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种液体循环系统，特别涉及一种可降低扰流的槽盘式液体循环系统。
技术介绍
近来，玻璃基材大量地使用在不同的产品上，尤其是显示器面板，因此各制造厂商纷纷引进不同的自动化流程以及自动化设备以提升产能，借此应付日益增加的需求量，然而在浸镀玻璃基材时，若浸镀液扰流过大则会导致玻璃基材表面平整度降低，因此如何提供一种可降低扰流的槽盘式液体循环系统以提升玻璃基材表面平整度便成为业界努力的课题的一。
技术实现思路
因此，本技术提供一种可降低扰流的槽盘式液体循环系统，以解决上述问题。为达成上述目的，本技术公开一种可降低扰流的槽盘式液体循环系统，其包括一槽体、一进液装置以及一输送装置，所述槽体包括一底壁以及一环绕侧壁，所述环绕侧壁突出于所述底壁，所述环绕侧壁与所述底壁共同定义一容置空间及连通于所述容置空间的一开口，其中所述容置空间用以容置一液体，所述进液装置设置在所述槽体的上方，所述进液装置沿一第一方向通过所述开口提供一补充液体至位于所述容置空间内的所述液体，所述输送装置设置在所述槽体的所述容置空间内，所述输送装置用以沿一第二方向输送一平板构件通过所述液体。根据本技术其中的一实施例，所述环绕侧壁上形成有连通于所述容置空间的一入口，且所述平板构件由所述入口进入所述容置空间。根据本技术其中的一实施例，所述槽盘式液体循环系统还包含一入口输送装置，设置在所述入口相对所述容置空间的一侧，所述输送装置与所述入口输送装置共同将所述平板构件通过所述入口送入所述容置空间。根据本技术其中的一实施例，所述槽盘式液体循环系统还包含一入口闸门，枢接于所述环绕侧壁邻近所述入口处，用以选择性地封闭所述入口。根据本技术其中的一实施例，位于所述容置空间的所述液体具有一液面，所述液面与所述底壁的一第一距离大于所述入口的一上端缘与所述底壁的一第二距离，且所述第一距离与所述第二距离之差为一第一距离差。根据本技术其中的一实施例，所述第一距离差大于或等于20厘米。根据本技术其中的一实施例，所述环绕侧壁上形成有连通于所述容置空间的一出口，且所述平板构件由所述出口离开所述容置空间。根据本技术其中的一实施例，所述槽盘式液体循环系统还包含一出口输送装置，设置在所述出口相对所述容置空间的一侧，所述输送装置与所述出口输送装置共同将所述平板构件通过所述出口送出所述容置空间。根据本技术其中的一实施例，所述槽盘式液体循环系统还包含一出口闸门，枢接于所述环绕侧壁邻近所述出口处，用以选择性地封闭所述出口。根据本技术其中的一实施例，位于所述容置空间的所述液体具有一液面，所述液面与所述底壁的一第三距离大于所述出口的一上端缘与所述底壁的一第四距离，且所述第三距离与所述第四距离之差为一第二距离差。根据本技术其中的一实施例，所述第二距离差大于或等于20厘米。根据本技术其中的一实施例，所述环绕侧壁上形成有一入口及一出口，所述入口与所述出口分别连通于所述容置空间，所述平板构件由所述入口进入所述容置空间且由所述出口离开所述容置空间，所述进液装置以一流入量通过所述开口提供所述补充液体至位于所述容置空间内的所述液体，所述入口以一入口流出量将所述液体由所述槽体排出，所述出口以一出口流出量将所述液体由所述槽体排出，且所述流入量大于或等于所述入口流出量与所述出口流出量的和。根据本技术其中的一实施例，所述槽盘式液体循环系统还包括一控制单元，耦接于所述进液装置，所述控制单元依据所述液体的一液面位置控制所述进液装置提供所述补充液体至位于所述容置空间的所述液体。根据本技术其中的一实施例，所述第一方向垂直于所述第二方向。根据本技术其中的一实施例，所述环绕侧壁上形成有连通于所述容置空间的一入口与一出口，且所述槽盘式液体循环系统还包含一入口输送装置以及一出口输送装置，所述入口输送装置设置在所述入口相对所述容置空间的一侧，所述入口输送装置与所述输送装置共同将所述平板构件通过所述入口送入所述容置空间，所述出口输送装置设置在所述出口相对所述容置空间的一侧，所述出口输送装置与所述输送装置共同将所述平板构件通过所述出口送出所述容置空间，其中所述输送装置、所述入口输送装置以及所述出口输送装置分别为一滚轮装置。综上所述，本技术槽盘式液体循环系统利用入口输送载具、输送载具与出口输送载具共同驱使平板构件沿第二方向通过入口送入槽体的容置空间，再通过出口送出槽体的容置空间，以达到自动化浸镀平板构件的目的。此外本技术槽盘式液体循环系统另利用进液装置由液体的液面的上方提供补充液体，因此当进液装置所提供的补充液体进入液体的液面时，上述液体的液面与平板构件的上表面间保持有一定距离的设计，可防止补充液体在进入液体的液面时所产生的扰流影响平板构件的上表面，进而确保平板构件的上表面的平面完整度。有关本技术的前述及其他
技术实现思路
、特点与功效，在以下配合参考附图的实施例的详细说明中，将可清楚的呈现。【附图说明】图1为本技术实施例槽盘式液体循环系统的示意图。图2为本技术实施例槽盘式液体循环系统的功能方块示意图。其中，附图标记说明如下:I 槽盘式液体循环系统10 槽体101 底壁102环绕侧壁103容置空间104 开口105 入口106 出口11进液装置12输送装置13入口输送装置14入口闸门15出口输送装置16 出口闸门17 控制单元2平板构件Dl第一方向D2第二方向L 液体S补充液体Xl第一距离X2第二距离X3第三距离X4第四距离Yl第一距离差Y2第二距离差Ql入口流出量Q2出口流出量C 液面【具体实施方式】以下实施例中所提到的方向用语，例如:上、下、左、右、前或后等，仅是参考附加附图的方向。因此，使用的方向用语是用来说明并非用来限制本技术。请参阅图1及图2，图1为本技术实施例一槽盘式液体循环系统I的示意图，图2为本技术实施例槽盘式液体循环系统I的功能方块示意图。如图1及图2所示，槽盘式液体循环系统I包括一槽体10、一进液装置11、一输送装置12、一入口输送装置13、一入口闸门14、一出口输送装置15、一出口闸门16以及一控制单元17，槽体10包括一底壁101以及一环绕侧壁102，环绕侧壁102突出于底壁101，环绕侧壁102与底壁101共同定义一容置空间103及连通于容置空间103的一开口 104，其中容置空间103用以容置一液体L，且环绕侧壁102上形成有连通于容置空间103的一入口 105以及一出口 106。在本实施例中，入口 105与出口 106位于环绕侧壁102的相对两侧，但本技术不受此限。此外，进液装置11设置在槽体10的上方，进液装置11沿一第一方向Dl通过开口 104提供一补充液体S至位于容置空间103内的液体L，使位于容置空间103内的液体L借由补充液体S的补充而维持稳定。输送装置12设置在槽体10的容置空间103内且浸泡于液体L内，入口输送装置13设置在入口 105相对容置空间103的一侧，即入口输送装置13与输送装置12位于入口 105的相对两侧，出口输送装置15设置在出口 106相对容置空间103的一侧，即出口输送装置15与输送装置12位于出口 106的相对两侧，入口闸门14枢接于环绕侧壁102邻近入本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种可降低扰流的槽盘式液体循环系统，其特征在于，包括：一槽体，包括：一底壁；以及一环绕侧壁，突出于所述底壁，所述环绕侧壁与所述底壁共同定义一容置空间及连通于所述容置空间的一开口，其中所述容置空间用以容置一液体；一进液装置，设置在所述槽体的上方，所述进液装置沿一第一方向通过所述开口提供一补充液体至位于所述容置空间内的所述液体；以及一输送装置，设置在所述槽体的所述容置空间内，所述输送装置用以沿一第二方向输送一平板构件通过所述液体。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：林子中，黄荣龙，吕峻杰，
申请(专利权)人：盟立自动化股份有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾;71