本实用新型专利技术公开了一种电解铜箔用全衬钛阳极槽装置，包括：一支撑整个装置的支架，一包覆于装置最外层的塑料板，以及一与塑料板相邻设置的钛衬板，还包括一位于装置中部的反应腔，所述反应腔包括一位于顶部的作为阴极的阴极辊，以及一位于下端的作为阳极的阳极板，所述阳极板下发还设置有密封垫。本实用新型专利技术有效解决了电解液流场、温度场、浓度场和阴阳极间的电场的均匀性和稳定性问题，保证电解铜箔品质的可靠性和高效性。
【技术实现步骤摘要】
本技术属于电解铜箔
，涉及一种电解铜箔用全衬钛阳极槽装置。
技术介绍
电解铜箔是我国信息产业重要的电子材料之一，主要应用于PCB、CCL、FCCL等电子行业中。随着信息产业的迅速发展，对电解铜箔的要求，无论是品质上，还是数量上均有很大提高，国家把高质量电解铜箔列为“十五”规划中重点开发产品。全衬钛阳极槽装置作为生产电解铜箔的核心设备，即是生箔机的阳极组件，同时也是盛液组件，生箔机最重要的电解沉积过程就在阳极槽内完成。其技术要点集中体现在电解液流场、温度场、浓度场和阴阳极间的电场的均匀性和稳定性。国内传统的阳极槽为塑料(PVC或PP)焊接结构，内置Pb-Ag阳极，其主要缺点如下:1)首先Pb-Ag阳极为可溶性阳极，随着使用时间的延长，这种材质腐蚀越来越多，阳极表面的铅元素在电解过程中产生不均匀的溶解，不但使极距增大、槽电压上升、浪费电能，而且极距的不均匀消耗直接影响铜箔厚度的均匀性和产品质量的稳定性。其次，腐蚀生成的残留物硫酸铅剥落后悬浮在电解液中，容易夹杂到铜箔中，产生夹杂和针孔。2)塑料材质槽体因耐热性差、易老化、变形等诸多缺点，直接影响电解设备和阳极的精度。3)集中式供液和开放式流场使阳极间的电流沉积区电解液流场参数完全不可控，给毛箔的质量控制带来很大的困难和不确定性。也使阴极辊的浸渍率(电解沉积区面积的比例)〈40%，生产效率低下。
技术实现思路
本技术主要解决的技术问题是提供一种电解铜箔用全衬钛阳极槽装置，有效解决了电解液流场、温度场、浓度场和阴阳极间的电场的均匀性和稳定性问题，保证电解铜箔品质的可靠性和高效性。为达到上述目的，本技术的技术方案如下:—种电解铜箔用全衬钛阳极槽装置，包括:一支撑整个装置的支架，一包覆于装置最外层的塑料板，以及一与塑料板相邻设置的钛衬板，还包括一位于装置中部的反应腔，所述反应腔包括一位于顶部的作为阴极的阴极辊，以及一位于下端的作为阳极的阳极板，所述阳极板下发还设置有密封垫。在本技术的一个优选实施例中，所述装置还包括位于反应腔下方的极间均匀流动装置，该极间均匀流动装置使电解液沿阳极间均匀流动。通过上述技术方案，本技术的有益效果是:1)高精度不溶性Ti阳极使阴阳极距保持不变，在节能的同时极大的提高了铜箔的厚度和内在质量稳定性。2)槽内过流表面全部采用Ti材覆衬，耐腐蚀、寿命长、密封性好。3)槽体外部用不锈钢支撑，结构合理，稳定性可靠。4)极间均匀流动装置和边部密封装置使电解液沿极间均匀流动，流量参数可调，保证了铜箔厚度的均匀性，解决了 6μπι?12μπι超薄铜箔的稳定生产和撕边等技术难题。同时使阴极辊浸渍率提高到50%以上，大大提高了单机生产效率。【附图说明】为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术的结构示意图。【具体实施方式】为了使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体图示，进一步阐述本技术。参照图1，一种电解铜箔用全衬钛阳极槽装置，包括:一支撑整个装置的支架7，一包覆于装置最外层的塑料板1，以及一与塑料板相邻设置的钛衬板2，还包括一位于装置中部的反应腔，所述反应腔包括一位于顶部的作为阴极的阴极辊4，以及一位于下端的作为阳极的阳极板6，所述阳极板下发还设置有密封垫5。装置还包括位于反应腔下方的极间均匀流动装置8，该极间均匀流动装置使电解液沿阳极间均匀流动，保证金属阳离子浓度均匀。上述极间均匀流动装置8安装于阳极槽底部进液口，由布流器、管道阀门和集液器组成，其设计根据用户供液系统的压力、流量等系统参数计算与校核，根据计算与校核结果选取结构形式和过流参数，再通过模拟试验结果修正并最终确定结构设计参数。进一步地，其中塑料板1包覆在整个设备的最外层，主要起绝缘作用;钛衬板2直接接触腐蚀介质;密封装置3提高工作介质的利用率;阴极辊4作为整个设备的阴极，主要吸附溶液中的金属阳离子;密封垫5避免介质外漏；阳极板6为整个设备的阳极，支架7为不锈钢支架，对整个设备起到支撑作用；极间均匀流动装置8主要使电解液沿阳极间均匀流动，保证金属阳离子浓度均匀。高精度不溶性Ti阳极使阴阳极距保持不变，在节能的同时极大的提高了铜箔的厚度和内在质量稳定性。槽内过流表面全部采用Ti材覆衬，耐腐蚀、寿命长、密封性好。槽体外部用不锈钢支撑，结构合理，稳定性可靠。极间均匀流动装置和边部密封装置使电解液沿极间均匀流动，流量参数可调，保证了铜箔厚度的均匀性，解决了 6μπι?12μπι超薄铜箔的稳定生产和撕边等技术难题。同时使阴极辊浸渍率提高到50%以上，大大提高了单机生产效率。以上显示和描述了本技术的基本原理和主要特征和本技术的优点。本行业的技术人员应该了解，本技术不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本技术的原理，在不脱离本技术精神和范围的前提下，本技术还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本技术范围内。本技术要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。【主权项】1.一种电解铜箔用全衬钛阳极槽装置，其特征在于，包括:一支撑整个装置的支架，一包覆于装置最外层的塑料板，以及一与塑料板相邻设置的钛衬板， 还包括一位于装置中部的反应腔，所述反应腔包括一位于顶部的作为阴极的阴极辊，以及一位于下端的作为阳极的阳极板，所述阳极板下发还设置有密封垫。2.根据权利要求1所述的一种电解铜箔用全衬钛阳极槽装置，其特征在于，所述装置还包括位于反应腔下方的极间均匀流动装置，该极间均匀流动装置使电解液沿阳极间均匀流动。【专利摘要】本技术公开了一种电解铜箔用全衬钛阳极槽装置，包括：一支撑整个装置的支架，一包覆于装置最外层的塑料板，以及一与塑料板相邻设置的钛衬板，还包括一位于装置中部的反应腔，所述反应腔包括一位于顶部的作为阴极的阴极辊，以及一位于下端的作为阳极的阳极板，所述阳极板下发还设置有密封垫。本技术有效解决了电解液流场、温度场、浓度场和阴阳极间的电场的均匀性和稳定性问题，保证电解铜箔品质的可靠性和高效性。【IPC分类】C25D1/04【公开号】CN205133745【申请号】CN201520944509【专利技术人】叶鹏, 李文孝, 杨芬, 罗婷, 王涛, 苏晓红 【申请人】西安航天源动力工程有限公司【公开日】2016年4月6日【申请日】2015年11月24日本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种电解铜箔用全衬钛阳极槽装置，其特征在于，包括：一支撑整个装置的支架，一包覆于装置最外层的塑料板，以及一与塑料板相邻设置的钛衬板，还包括一位于装置中部的反应腔，所述反应腔包括一位于顶部的作为阴极的阴极辊，以及一位于下端的作为阳极的阳极板，所述阳极板下发还设置有密封垫。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：叶鹏，李文孝，杨芬，罗婷，王涛，苏晓红，
申请(专利权)人：西安航天源动力工程有限公司，
类型：新型
国别省市：陕西;61
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