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株式会社小原专利技术
株式会社小原共有327项专利
长余辉荧光物质制造技术
提供了一种由二价铕激活并具有化学组成为RO.a(Al#-[1-x]Ga#-[x])#-[2]O#-[3].b(Y#-[1-y]Sc#-[y])#-[2]O#-[3].cB#-[2]O#-[3].dEu#+[2+].eM#+[n+]的长余...
用于磁信息存储媒体的高刚性玻璃陶瓷基片制造技术
本发明涉及一种用于磁信息存储媒体的高刚性玻璃陶瓷基片,其杨氏模量与比重的比率为37-63,它含Al↓[2]O↓[3]量为10%-<20%。该玻璃陶瓷基片的主要结晶相由选自β-石英、β-石英固溶体、顽辉石、顽辉石固溶体、镁橄榄石和镁橄榄石...
用于信息存储媒体的玻璃陶瓷基片制造技术
本发明提供一种在斜坡载荷系统的信息存储装置中适用的信息存储媒体的玻璃陶瓷基片。该玻璃陶瓷基片的杨氏模量(Gpa)/比重为37或以上,以及包含按氧化物计为0-<10%(重量)的Al↓[2]O↓[3]。该玻璃陶瓷基片具有作为主要结晶相的焦硅...
超低热膨胀透明玻璃陶瓷制造技术
本发明提供这样的玻璃陶瓷,该玻璃陶瓷具有能够适应下一代LSI光刻术和半导体设备部件如掩模、光学反光镜、晶圆平台和光罩平台以及使用这种玻璃陶瓷的各种精密元件的超低热膨胀性能和超平表面。本发明的玻璃陶瓷在0-50℃的温度范围内的平均线性热膨...
光学玻璃制造技术
本发明提供不易受到使用环境的温度变化导致的成像特性影响的、折射率(nd)为1.75以上、并且阿贝数(νd)为35以上的高折射率低分散光学玻璃。通过含有SiO↓[2]、B↓[2]O↓[3]、La↓[2]O↓[3]作为必要成分、并调节组成成...
光学玻璃制造技术
本发明提供无需大量使用环境负担大的成分和稀有矿物资源来制造的高折射率低色散光学玻璃,其使用环境的温度变化带来的成像特性变化小,具体地说,实现了-30℃~+70℃的平均线膨胀系数α与波长546.1nm时的光弹性常数β的乘积α×β的绝对值为...
结晶化玻璃制造技术
本发明提供一种结晶化玻璃,其即便基本上不使用对人体和环境带来不良影响的砷成分和锑成分,也具备作为垂直磁记录方式等为代表的下一代的信息记录介质基板用途的物性。尤其是提供一种结晶化玻璃,其具有可耐受高速旋转化和跌落冲击的高强度、还兼具符合各...
光学玻璃制造技术
一种光学玻璃,其主要成分包括(重量%):25-50%SiO↓[2],16-40%B↓[2]O↓[3],5-25%SrO,1-10%Li↓[2]O。其光学数据为:折射指数(N↓[d])1. 55-1. 65,阿贝值(v↓[d])55-63...
磁盘基片用的玻璃-陶瓷及其制法制造技术
提供一种磁盘基片用的玻璃-陶瓷,其晶粒大小可控制,抛光后其表面粗糙度在15-50A范围内。此玻璃-陶瓷可通过热处理包括下列组成(重量百分比)的基料玻璃而获得。SiO↓[2],65-83%;Li↓[2]O,8-11%;K↓[2]O,0-7...
光学玻璃制造技术
本发明提供光学玻璃,该玻璃的光学常数范围为折射率(Nd)1.57-1.72,阿贝数(υd)30-45,而且具有低转变温度特性及优异的化学耐久性,并有适宜于模压成型性。该玻璃组成中必要分含量以重量计为SiO↓[2]48-64%、TiO↓[...
光学玻璃制造技术
本发明是关于一种新型的光学玻璃,具有SiO↓[2]-B↓[2]O↓[3]-Nb↓[2]O↓[5]-R′↓[2]O(R′为碱金属)-F系列组成,不含有对环境产生有害问题的PbO、As↓[2]O↓[3]成分,具有折射率(Nd)为1.52-1...
磁盘用微晶玻璃基片制造技术
本发明提供一种磁盘用微晶玻璃基片,适用于接触记录方式,具有10A以下的表面粗糙度和较高的磨损性。基片的构成是,微晶玻璃的主结晶相为α-方晶石(α-SiO↓[2])和二硅酸锂(Li↓[2]O.2SiO↓[2]),该结晶相的构成比α-方晶石...
用于磁性信息存储介质的玻璃-陶瓷基片制造技术
本发明提供了一种具有适宜于接触式记录体系的超平滑磁性信息存储介质如磁盘的玻璃陶瓷基片,该基片包括SiO#-[2]-Al#-[2]O#-[3]-Li#-[2]O体系的玻璃陶瓷且具有作为其主要晶相的β-石英固溶体(β-SiO#-[2]固溶体...
具有负反常色散的光学玻璃制造技术
一种光学玻璃,它具有大负反常色散值和折射率(nd)在1.65-1.80范围内和阿贝值(vd)在28-42范围内的光学常数。该光学玻璃包括,作为其必要组分,以重量百分比计,20-50%SiO↓[2]、6-20%B↓[2]O↓[3]、其中S...
模压用光学玻璃制造技术
本发明提供一种模压用光学玻璃,它具有折射率(nd)1.55~1.60,阿贝数(vd)55~60范围的光学常数和低屈伏点(At),与型材的剥离性好,化学耐久性、耐水性、耐酸性比过去的光学玻璃好,熔融性好。[解决方法]:通过必须成分按重量%...
光学玻璃制造技术
本发明提供折射率为1.67~1.75、阿贝数为42~50,不含PbO和AS#-[2]O#-[3]成分,化学耐久性好,且粘性低、熔融性好的匀质玻璃,其组成按重量计为:SiO#-[2]:17.0~30.0%、B#-[2]O#-[3]:11....
光学玻璃制造技术
一种光学玻璃,具有优异耐失透性和熔融性、稳定且均匀。其重量组成为SiO#-[2]1%~15%、B#-[2]O#-[3]25%~45%、P#-[2]O#-[5]0~2%、Al#-[2]O#-[3]0.1~5%且SiO#-[2]+Al#-[...
光学玻璃制造技术
本发明的目的是,提供一种具有规定范围的光学常数及良好的化学耐久性的、并且耐失透性及熔性优良的、不含有Gd#-[2]O#-[3]及Ta#-[2]O#-[5]那样原料价格高的成分或不将其作为必要成分的稳定的光学玻璃。$本发明光学玻璃的特征在...
模压用光学玻璃制造技术
本发明提供一种模压用光学玻璃,其光学参数折射率(nd)为1.55~1.63,阿贝数(vd)为55~63,具有适用于模压的低转化温度(Tg℃),与型材的脱模性良好,并具有化学稳定性。其特征在于由以重量百分数计、SiO↓[2]45.0~50...
具有负向反常色散的光学玻璃制造技术
一种光学玻璃,它具有光学常数:反射系数为1.55-1.75,阿贝值(νd)为25-51,并具有较大的负向反常色散,其基本不含铅和砷化合物,作为必要成分,它包括(重量百分数):10->40%SiO↓[2],12.5-35%B↓[2]O↓[...
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