本发明属于半导体传感器领域，具体涉及一种热电堆检测装置。绝热工装为绝热材料材质，绝热工装内侧设置有下凹部和供加热导线引出的引线孔，下凹部内由底往上顺序设置有电加热部件和能够包覆待测电热堆侧面的绝热圈，绝热圈设置有供连接待测电热堆的测试导...

本发明属于激光技术领域，具体为一种反射镜角漂稳定性的测试系统与方法。本发明通过成像设计，将光束指向稳定性转化为物像相对位置的变化，消除了光源和诊断系统稳定性对测试的影响；通过光路设计，将关联反射镜稳定性的两特征物置于同一平面进行了硬联结...

本实用新型公开了一种多能点准单能X射线源，包括防护箱以及设置在该防护箱内的X射线管，在所述防护箱内设有可转动的托盘和可移动的光阑，在所述防护箱上设有准直部件，所述X射线管上具有出射窗口，在所述托盘上设有至少两块荧光片，出射窗口出射的X射...

本实用新型提供一种脉冲激光激励的电磁脉冲辐射装置，利用脉冲激光作为激励源，与金属靶材料相互作用产生强电流脉冲驱动发射天线产生电磁脉冲，实现光能向微波辐射能量的转换，从而获得比较稳定可靠的电磁脉冲辐射。同时脉冲激光轰击金属靶材料会产生等离...

本发明提供了一种平响应复合滤片及其制备方法，本发明平响应复合滤片的制备方法工艺简单，在第一金层的一侧表面上制备具有特定多孔结构的第二金层，能够得到具有一定面积比的复合金层，所得平响应复合滤片的成品率高，表面平整性优异，结构均匀，有效面积...

本实用新型公开了一种具有台阶闪烁体的透射柱面弯晶谱仪，包括箱体，在箱体内依次同轴设置有柱面弯晶分析器、后置铅光阑、以及可透光的台阶闪烁体和X射线记录装置；所述后置铅光阑中部设有狭缝，该狭缝用于阻挡直穿的X射线，而供经柱面弯晶分析器分光的...

本实用新型公开了一种X射线标定装置，包括防护箱、真空腔室和X射线谱仪，防护箱内设有X射线管，对应其射出窗口设置有荧光片，经荧光片激发形成的单能荧光X射线进入真空腔室，真空腔室的两个端壁上对称设置有第二通孔，两个第二通孔的位置均密封安装有...

本实用新型提供一种光学元件的非接触式厚度测量装置，包括底座、滑动导轨、支撑架、齿条、齿轮、第一激光位移传感器、载物台、第二激光位移传感器、滑台和控制器，所述滑动导轨固定在底座上，所述滑台设置在滑动导轨上；所述支撑架固定在底座上，所述齿条...

本发明公开了一种制备脆硬金属微球涂层样品盘及其加工方法，涉及微球涂层制备技术领域，解决现有样品盘内表面的涂层脱落产生碎渣，沾附到微球的表面，导致微球表面脆硬金属涂层的表面粗糙度增大的问题。本发明采用的技术方案是：样品盘的内表面呈曲面状，...

本发明提供的裂纹熔合装置及其方法，涉及光学加工技术领域。该裂纹熔合装置通过将电源与等离子体发生器电连接、且两者之间串联有功率匹配器，等离子体发生器用于产生等离子体射流。数控系统包括第一控制系统和第二控制系统，第一控制系统与等离子体发生器...

本发明公开了一种离轴八程激光放大装置，由偏振分光棱镜、二分之一波片、45°法拉第旋光器、电光开关、空间滤波器、激光放大头、0°反射镜和45°反射镜组成。待放大的脉冲激光注入到所述的离轴八程激光放大器装置，在所述的偏振分光棱镜、二分之一波...

本实用新型公开了一种特殊透镜角度及位移自动调节装置，包括呈矩形框状结构的调整框；用于容纳待调节的特殊透镜的透镜框；设置在调整框一侧外沿的浮动支撑组件，其能够从该侧浮动地支撑位于透镜框内的特殊透镜；以及分布在调整框远离浮动支撑组件的一侧外...

本实用新型公开了一种大口径KDP晶体夹持机构，包括正对设置的底框和压框，底框的三个棱边上各设有一个夹持铜头，该夹持铜头包括夹持圆台和支撑杆，支撑杆上套设有压簧并嵌入底框上对应的安装孔中；压框上设有压紧铜头，该压紧铜头包括压紧圆台和调整螺...

本实用新型公开了一种大口径透镜夹具转换工装，包括底座和定位组件，在底座的上部设置有升降台，在升降台的上部设置有平移台，定位组件设置在平移台上；定位组件包括安装在定位组件上部的底板，在底板上设置有两个相对的夹持部件，在两个夹持部件之间的底...

本实用新型公开了一种纳米铍粉的制备装置，包括源瓶、反应瓶、鼓泡瓶和冷凝装置，所述源瓶通过第一管道与所述反应瓶连接，所述第一管道外周设置有第一加热装置，所述源瓶还与一进气管连通，所述源瓶置于第二加热装置中，所述反应瓶还与所述冷凝装置连通，...

本发明提供了一种激光脉冲波形测量装置。所述装置的入射激光依次经过取样反射镜和缩束系统，入射到波导，波导内的刻划光栅对激光脉冲进行取样，产生衍射光束，多个光栅基板对光束不断延时，从波导出射的光束变成空间上分开，时间上彼此之间具有固定延时的...

本发明公开了一种高速电光调制器，包括：微纳光纤耦合器，其采用两根单模光纤缠绕在一起，放入光纤拉制平台拉制而成；高分子电光材料层，其包覆在微纳光纤耦合器上；电极板，其抵近设置于所述高分子电光材料层的外部。采用本发明提供的新型高速电光调制器...

本发明公开了一种基于单模‑多模‑无芯光纤结构的磁场强度检测传感器，包括：单模光纤；多模光纤，其输入端与单模光纤的输出端熔接；无芯光纤，其一端与多模光纤的输出端偏心熔接；无芯光纤与多模光纤偏心熔接后的不重叠位置处包覆第一金属膜层；无芯光纤...

本发明公开了一种光纤传像束速度干涉仪，包括成像模块、光纤传像束、干涉模块一和干涉模块二；还公开了一种基于光纤传像束速度干涉仪的冲击波速度计算方法，首先，由光源向光纤传像束速度干涉仪发射一短脉冲探针激光，利用条纹相机记录从干涉模块出射的两...

本发明实施例提供了一种流体动压抛光方法及装置。所述装置包括气囊抛光工具、精密测力台、精密位移台以及抛光液供给系统。所述气囊抛光工具使用前需经过精密修整；精密测力台与精密位移台配合实现气囊抛光工具与工件间的间隙精密控制；抛光时，抛光液注入...