本发明提供的一种激光清洗头以及激光清洗系统，涉及激光清洗技术领域，包括：密封壳体；密封壳体的第一端端口，用于连接预设的激光清洗机的出光口；密封壳体的第二端端口，用于连接待清洗面，使待清洗面与密封壳体的内腔之间构成密封空间；密封壳体上设置...

一种巨型光学平面反射阵列装置的超精密准直仪器及准直方法，包括基体装置，基体装置上有多个采用标准联接的接口为元件及检测仪器提供安装定位功能；在基体装置上水平安装有小口径反射元件阵列，在基体装置上竖直安装有小口径半透半反元件阵列，在基体装置...

一种掺钽铀薄膜在黑腔上的应用，它属于激光聚变工程技术领域，具体涉及一种掺钽铀薄膜的应用。本发明的目的是为了解决现有铀黑腔中金内衬激光‑X射线转换效率不足、M带X射线产额高，而物理期望的无内衬铀黑腔化学稳定性差、黑腔结构不稳定的问题。一种...

本发明公开了一种单分散三维有序多孔材料的制备方法及其制得的材料。该制备方法包括以下步骤：将油相O与任选地水相W1、任选地水相W2通过微流体方式得到O液滴、O/W2液滴或W1/O/W2液滴，液滴经固化、去除模板粒子和干燥，得到单分散三维有...

本实用新型公开了一种取放高空档案盒的装置。该装置中的底夹利用档案柜的稳定性来固定整套装置，并在固定装置的同时实现了对取或放档案盒位置的同步调节定位的目的。该装置中的套杆可以依据现场的实际情况自行定义中间层套管的个数和长度，通过该装置中的...

本实用新型公开了一种激光杂散光测量装置，该装置沿光路传输方向依次放置有待测光路、取样反射镜、光电管和示波器；所述光电管用于接收通过待测光路后并通过取样反射镜后的待测光束；所述待测光束包括主激光和待测光路中的所有杂散光，所述示波器用于测量...

一种主动式温控阳极氧化铝反应容器，包括底座，底座上设置有杯形的本体，本体上方安装有盖体，本体包括位于内部的基体和位于基体外部的热形变体，基体内部环绕穿设有螺旋管，基体和热形变体之间设置有中空层，螺旋管具有第一出口、第二出口，第一出口、第...

本实用新型公开了一种集成式激光诱导声表面波缺陷检测装置，属于无损检测技术领域，包括：探测头、光纤束及探测器；所述探测头一侧端面的中心设有一个泵浦激光发射口，沿泵浦激光发射口周向均匀分布有探测激光口；探测头的泵浦激光发射口通过光纤束中与之...

本发明提供了一种反弹盘装置以及微球涂层系统，其包括有公转盘以及自转盘，自转盘安装在公转盘上，自转盘的转动轴线与公转盘的中轴线偏心设置，自转盘用于安装石英盘。该反弹盘装置在使用过程中转动的线路多样化，进而使得微球在涂层过程中转动更加合理，...

本发明实施例提供一种光学元件加工装置及加工方法，该装置包括加工真空腔室以及多个团簇离子束产生装置，加工真空腔室内设置有用于放置待加工光学元件的运动台，各团簇离子束产生装置设置在加工真空腔室顶部，并连接在加工真空腔室的开口处。各团簇离子束...

本申请实施例提供一种加工方法及非球面光学元件，该方法通过等离子体射流对非球面光学元件进行加工，其中，等离子体射流与非球面光学元件间隔预设距离，这种非接触的射流加工方式能够避免在加工过程中引入亚表面损伤，节省了后续去除亚表面损伤的工序及时间。

本发明公开了一种用于光学元件在线表面洁净处理的装置，包括：水平运动机构，其包括导轨单元、水平滑块、水平丝杆、以及伺服电机；竖直伸缩机构，其包括竖直连接在水平滑块上的支撑块和连接在支撑块上的可伸缩机械臂；洁净处理机构，其包括连接在可伸缩机...

本发明涉及一种高频振动加工装置，包括工件盘、固定架、高频振动器及工件把持架；工件盘中部开设有工件孔；固定架固定于工件盘上；高频振动器固定于固定架上；工件把持架与工件孔位置对应，其顶端通过连接杆与高频振动器连接，其底端用于把持位于工件孔内...

本实用新型涉及一种激光装置剩余激光吸收装置，涉及高功率激光技术领域，所述吸收装置包括第一吸收组件、第二吸收组件和支撑框架，所述第一吸收组件至少包括2个结构相同、平行且间隔设置的吸收体，所述吸收体包括与剩余激光直接接触的第一吸收侧面和第二...

本实用新型涉及一种激光装置剩余光束吸收装置，属于高功率激光技术领域，所述吸收装置包括吸收体，所述吸收体包括与剩余激光直接接触的吸收面，所述吸收面设为曲面，本实用新型通过将吸收面进行曲面化，增大吸收体吸收剩余激光的入射面积，从而降低吸收体...

一种光学元件夹具，用于夹持不同厚度、大小的光学元件，其包括夹具主体和夹持装置，夹具主体设有开口，夹持装置包括绕开口设置的固定件和活动件，固定件与开口之间还设有用于承托光学元件的卡边，活动件可活动地安装于夹具本体，活动件能相对于固定件运动...

本实用新型公开了一种基于发散光束光学系统的倍频晶体特征角度的测量装置。该装置由照明光源、定位基准元件、发散透镜、待测晶体、匹配透镜和CCD组成。用于照明的平行光束注入整个测量装置，经过定位基准元件、发散透镜后垂直入射到待测晶体表面。然后...

本实用新型公开了一种低温电阻率测量装置，连接外部冷源，用于对低温状态下待测样品的电阻率测量，其特征在于，包括热沉、样品架、至少两根探针、绝缘架、定位压板、绝缘压环、固定螺栓和加固压板。本实用新型能够准确地定位电极，有效地保证电阻率测量的...

本实用新型公开了基于激光产生X射线成像的高分辨及高亮度照相装置，解决现有技术采用超短激光束与金属丝靶产生X射线源进行照相时浪费激光能量以及所照相图像不清晰的问题。本实用新型包括超短激光发射器，编码靶，X射线成像探测器，以及PC机，被成像...

本实用新型公开了一种低振动低温测试装置，包括：真空腔体，其设有开口；光学隔振平台，用于固定真空腔体，隔离外界对真空腔体的振动；G‑M制冷机，由管道连接的制冷机主机和冷头组件组成，所述冷头组件由冷头和冷头基座组成；波纹管，其端部分别密封连...