本发明公开了一种整平剂、含其的金属电镀组合物、制备方法及应用。所述金属电镀组合物的原料包括金属电镀液和整平剂；所述金属电镀液包括铜盐、酸性电解质、卤离子源和水；所述整平剂为式I化合物。本发明的金属电镀组合物可用于印刷电路板电镀和集成电路...

本发明公开了一种含氟等离子刻蚀残留物清洗液、其制备方法和应用。本发明的清洗液的制备方法，其包括下列步骤：将下述原料混合，即可；所述的原料包含下列组分：分散剂、氟化物、有机溶剂、缓蚀剂、有机胺和水；其中，所述的分散剂为聚羧酸类分散剂和/或...

本发明公开一种整平剂、含其的金属电镀组合物及制备方法、应用。本发明公开的金属电镀组合物的原料包括金属电镀液和整平剂，金属电镀液包括金属盐、酸性电解质、卤离子源和水，金属盐为铜盐，整平剂为如式I结构的化合物。该金属电镀组合物用于印刷电路板...

本发明公开了一种含氟等离子刻蚀残留物清洗液、其制备方法和应用。本发明公开的应用中，所述的清洗液由下述原料制得，所述的原料包含下列组分：分散剂、氟化物、有机溶剂、缓蚀剂、有机胺和水；其中，所述的分散剂为聚羧酸类分散剂和/或有机膦类分散剂。...

本发明公开了一种清洗剂、其制备方法和应用。本发明公开的应用中，所述的清洗剂，由下述原料制得，所述的原料包括下列质量分数的组分：0.5％‑20％的含碘氧化剂、0.5％‑20％的含硼蚀刻剂、1％‑50％的吡咯烷酮类溶剂、1％‑20％的腐蚀抑...

本发明公开了一种含氟等离子刻蚀残留物清洗液、其制备方法和应用。所述的清洗液，其由下述原料制得，所述的原料包含下列组分：分散剂、氟化物、有机溶剂、缓蚀剂、有机胺和水；其中，所述的分散剂为聚羧酸类分散剂和/或有机膦类分散剂。本发明的清洗液长...

本发明公开了一种整平剂、含其的金属电镀组合物、制备方法及应用。所述的金属电镀组合物的原料包括金属电镀液和整平剂，所述金属电镀液包括铜盐、酸性电解质、卤离子源和水，所述整平剂为式I化合物。本发明的金属电镀组合物可用于印刷电路板电镀和集成电...

本实用新型公开了一种引线框架处理槽。所述引线框架处理槽包括槽体、传动机构及固持机构。所述槽体具有容腔，该槽体的容腔用于灌装化学处理液。所述传动机构设置在所述槽体的容腔内。所述固持机构包括至少两个限位件，该至少两个限位件沿所述传动机构的运...

本实用新型公开了一种新型晶圆转移装置，其包括支撑平台、托盘、第一机械臂和第二机械臂；所述支撑平台设置有通孔；所述托盘可升降地设置，所述托盘可自所述通孔穿过所述支撑平台地设置；所述第一机械臂与所述第二机械臂相用于共同夹持晶圆；所述第一机械...

本发明公开了一种电镀铜用抑制剂、其用途及含其的电镀铜电镀液，该抑制剂为二甲基胺衍生物取代的聚丙烯酰胺类聚合物，其结构通式为：

本发明公开了一种晶圆转移装置，其包括支撑台、托盘、第一机械臂和第二机械臂；所述支撑台设置有通孔，所述支撑台可升降地设置；所述托盘固定设置于所述支撑台下方，所述支撑台升降降过程中使所述托盘自所述通孔穿过；所述第一机械臂与所述第二机械臂可相...

本发明公开了一种针式零件生产用夹具，其包括零件固定机构、支撑机构及抵压机构和弹性复位装置。所述零件固定机构用于固定针式零件；所述支撑机构与抵压机构用于共同夹持所述零件固定机构；所述支撑机构与所述抵压机构可相对运动地设置；所述弹性复位装置...

本发明公开了一种新型晶圆转移装置，其包括支撑平台、托盘、第一机械臂和第二机械臂；所述支撑平台设置有通孔；所述托盘可升降地设置，所述托盘可自所述通孔穿过所述支撑平台地设置；所述第一机械臂与所述第二机械臂相用于共同夹持晶圆；所述第一机械臂与...

本发明公开了回收挥发性有机氯化物气体的装置及方法。本发明所述的回收挥发性有机氯化物气体的装置，其特征在于，包括：一个或多个吸附塔，所述吸附塔中装置有吸附树脂；加热装置，所述加热装置与全部或部分所述吸附塔连通，用于将热气体或水蒸汽输入所述...

本发明公开了一种双阳极检测镀液均镀性的方法，该方法采用两个不同面积的阳极电极和一个阴极电极对镀液进行检测；在同一个阴极电极下分别检测其与不同面积阳极电极产生的不同电流，电流差距越小，镀液的均镀性越好。该方法也可以用于镀液的添加剂定性分析...

本发明公开了一种引线框架夹具。所述引线框架夹具包括接液槽及夹持机构。所述接液槽具有槽腔，所述接液槽的槽腔可盛装引线框架上滴落的化学处理液。所述夹持机构用于夹持引线框架并使引线框架位于所述槽腔上方。本发明提供的引线框架夹具，设置的接液槽能...

本发明公开了一种引线框架推送设备。所述引线框架推送设备包括支撑机构、从动件及驱动装置。所述支撑机构用于支撑引线框架。所述从动件可移动地设置，所述从动件移动时推动位于所述支撑机构上的引线框架移动地设置。所述驱动装置直接驱动所述从动件或通过...

本实用新型公开了一种引线框架推送设备。所述引线框架推送设备包括支撑机构、从动件及驱动装置。所述支撑机构用于支撑引线框架。所述从动件可移动地设置，所述从动件移动时推动位于所述支撑机构上的引线框架移动地设置。所述驱动装置直接驱动所述从动件或...

本实用新型公开了一种引线框架浸泡设备。引线框架浸泡设备包括放料装置、处理槽，和取料装置。所述处理槽包括槽体、传动机构和固持机构。所述槽体具有槽腔，该槽体的槽腔用于灌装化学处理液。所述传动机构设置在所述槽体的槽腔内。所述固持机构包括至少两...

本实用新型公开了一种引线框架去毛刺设备。所述引线框架去毛刺设备包括化学浸泡槽及水刀。所述化学浸泡槽包括槽体、传动机构及固持机构。所述槽体具有容腔。该槽体的容腔用于灌装化学处理液。该传动机构设置在所述槽体的容腔内。固持机构包括至少两个限位...