本发明提出了一种硅片边缘曝光系统及其光强控制方法，所述系统包括可旋转硅片承载台、曝光光源与光纤、成像镜头、控制计算机以及光强控制装置组成，所述方法通过设置光筛位置后，使用光强控制装置标定曝光光强，通过光源内部光强闭环反馈控制光强的恒定输...

本发明公开了一种图形定位精度检测装置及其检测方法，所述装置包括沿探测光路依次排列的相移模块、透射聚焦光学模块、掩模台、分光棱镜、准直模块、４５度设置的分光镜、位于所述分光镜第一出射面上的对准传感器；照明光源模块，其出射光通过所述分光棱镜...

本发明公开了一种色动态选择方法，包括：接收多个不同波长光源的各三个周期信号作为对准信号，根据反射信号强度与预定阈值的大小关系，用三周期光栅做捕获色动态和对准色动态选择，或使用大周期光栅做捕获色动态选择，小周期精细光栅进行对准色动态选择。...

一种测量光学系统参数的测量装置，包括短相干光源模块，聚焦透镜，准直透镜，滤波针孔，分光镜，角反射镜，一维精密移动平台，可调焦望远镜，精密旋转工作台，聚焦透镜和成像ＣＣＤ。一种测量方法，通过光学干涉的方法精确测量被测光学系统的透镜内部或透...

本发明提供一种光刻机投影物镜安装调平装置，用于调平带有安装法兰的投影物镜。它包括安装基板，三个柔性块，安装件和固定件。柔性块前端通过固定件与投影物镜的安装法兰连接，柔性块底座通过安装件安装在安装基板；柔性块前端中部开有第一狭长槽，柔性块...

本发明提供了一种可补偿Ｚ向位置的六自由度精密定位台，结构上主要分成ＸＹ台和曝光台，ＸＹ台是一个水平向精密定位台，目的是通过一套水平向驱动器加精密、有效的传动机构加闭环控制实现水平向（Ｘ、Ｙ向）的精确定位；曝光台从上到下主要分为旋转台、调...

一种具有掩模台功能的基于叠加电机的物料传输系统及其方法，包括叠加的Ｘ方向驱动装置、Ｙ方向驱动装置、旋转装置及与所述旋转装置相连接的机械手，其中，所述Ｘ方向驱动装置驱动所述Ｙ方向驱动装置、旋转装置、机械手在Ｘ方向运动；所述Ｙ方向驱动装置驱...

本发明公开了一种光刻机成像质量现场测量方法，通过获得标记在不同照明设置条件下的成像位置相对偏差即套刻误差，利用数学模型拟合计算投影物镜波像差。标记成像相对误差的获取可以不依赖于对准系统，减少了对准系统测量标记位置引入的误差，提高了测试精度。

一种具有对准标记体系的机器视觉对准系统，包含掩模对准系统，硅片对准系统和对准标记系统；掩模对准系统包含掩模版，掩模台，机器视觉对准传感器；硅片对准系统包含硅片，工件台，光学投影物镜，掩模版，机器视觉对准传感器；对准标记系统包含机器视觉工...

本发明提供了一种硅片对准信号采集与处理系统，该系统能够实时完成光信号到电信号的采集、滤波、调制与解调等功能，以及位置数据的同步采集与处理，并通过采样信号的拟合处理，实现光刻装置的硅片对准功能。本发明同时还提供了一种硅片对准信号的处理方法...

本发明提供一种用于光刻装置的对准系统、对准方法和光刻装置，采用相位探测和幅值探测相结合的原理，对准精度高。对准标记至少包含第一光栅和第二光栅，减小了对准标记非对称变形导致的对准位置误差。同时，组成对准标记的第一光栅和第二光栅沿垂直于对准...

本发明公开了一种用于光刻装置的对准系统、对准标记、对准方法和光刻装置。通过在像面探测对准标记的第一光栅、第二光栅和第三光栅的±１级衍射光相干成像后经参考光栅调制的光强变化，由透射光信号的相位信息获得对准标记的中心位置。其中由对准标记的第...

本发明提供了一种零位自动可调的调焦调平测量装置及其使用方法，在调焦调平精测测量装置中增加一组自动可调机构，该可调机构用于对调焦调平测量装置进行零位调整。当该可调机构位于其初始位置时，调焦调平测量处于精测模式，而当该可调机构不位于其初始位...

一种光刻机成像质量及工件台定位精度的测量系统与测量方法，其系统包括依次以光学联结的光源（１０１）、照明系统（１０２）、掩模（１０３）、成像系统（１０４）和硅片（１０５）、以及承载定位掩模（１０３）的掩模台（１０８）、承载定位硅片（１０５...

一种用于光刻机调焦系统性能评价的装置和方法，其特点是：装置的运动系统将粗动系统和精动系统分开设计，在满足水平Ｘ向和垂向大行程运动及垂向高精度定位的同时保证了装置拆装灵活性和扩展性，保证控制精度的同时减少控制的复杂程度，实现了垂向大行程高...

本发明提供了一种ＸＹＹ精密定位平台的校准方法，用于在单一流程中全部解决执行器校准、解耦和伸缩传感器校准的问题。所述方法通过在ＸＹＹ精密定位平台外设置一独立的位置传感器，并依次完成执行器校准、伸缩传感器校准和解耦矩阵校准来实现。该方法充分...

本发明公开了一种二维编码归一化对准标记组合及其对准方法和对准系统，所述二维编码归一化对准标记组合由置于对准系统目标构图部件上的多孔形对准标记和置于探测构图部件上的单孔形对准标记组成；所述多孔形对准标记由二维编码透光内核、四个对角线二维编...

本发明公开了一种归一化对准标记组合及其对准方法和对准系统，所述归一化对准标记组合由置于光刻装置对准系统的目标构图部件上的多孔形归一化对准标记和置于探测构图部件上的单孔形归一化对准标记组成；所述多孔形归一化对准标记由四个透光元件和一镀铬屏...

本发明提供了一种步进重复曝光装置，其依次包含如下曝光元件：大剂量曝光光源、照明系统、掩模承载装置、对准系统、投影物镜、硅片承载装置，以及设置在投影物镜下半部两侧的调焦调平系统；还包含密封前述曝光元件的光刻机密封腔体。本发明采用单独的温控...

本发明提供一种测量晶圆表面平整度的方法及装置，借助曝光装置中工件台垂向定位装置的冗余性，测量晶圆表面不同位置处形貌值，通过多项式拟合计算获取晶圆面任意点平整度。本发明直接基于光刻曝光装置在线测量完成，操作简便，易于实施。