灵宝华鑫铜箔有限责任公司专利技术

灵宝华鑫铜箔有限责任公司共有264项专利

  • 本申请属于电解铜箔生产工艺技术领域,具体涉及一种锂电铜箔系统用硅藻土过滤器的挂浆工艺。本申请利用电镀实验确定了待挂浆铜箔电解液中不同添加剂A、B、C、D的浓度,其中A为HEC羟乙基纤维素,B为HP醇硫基丙烷磺酸钠,C为PN聚乙烯亚胺烷基...
  • 本实用新型属于铜箔生产技术领域,具体涉及一种电解铜箔生产过程中的液体处理装置。所述处理装置包括依次连接的溶铜罐、污液罐、过滤器、净液罐和生箔机,生箔机通过电解液回流管路与污液罐相连通;生箔机机架上连接有用于清洗铜箔的洗箔水管,生箔机机架...
  • 本实用新型属于电解铜箔生产技术领域,具体涉及一种双光电解铜箔表面处理装置。所述双光电解铜箔表面处理装置包括第一导辊、第二导辊以及第一液下辊和第二液下辊,第二液下辊远离第一液下辊的一侧设有刮液辊,第一液下辊和第二液下辊间设有第一喷淋管和第...
  • 本申请属于电解铜箔生产设备领域,具体涉及一种降低铜箔翘曲的电热处理装置。所述电热处理装置包括壳体,铜箔收卷辊,用于支撑铜箔收卷辊的左支撑架和右支撑架,气热循环装置和电源;所述壳体顶部设有可开启或关闭的顶盖,便于取放铜箔收卷辊;所述左、右...
  • 本申请属于电解铜箔生产设备领域,具体涉及一种生产电解铜箔用上液装置。所述装置包括第一上液管和设于第一上液管底部的若干第二上液管;所述第一上液管沿水平方向设置;第一上液管的端部闭合,且第一上液管的内部与第二上液管连通;第一上液管侧壁对称开...
  • 本实用新型针对现有电解铜箔生产工艺中,添加剂加入存在的问题,提供一种用于添加电解铜箔电解液添加剂的混流器,包括竖直设置的混流罐,所述混流罐的右侧壁设有若干用于输送不同种类添加剂的输入管道,且所述输入管道上设有第一截止阀,所述混流罐的下部...
  • 本发明针对去除阴极辊表面氧化层的现有研磨法费时费力的问题,提供一种钛质阴极辊用电化学抛光液及利用该抛光液抛光阴极辊的方法,所述抛光液由氨三乙酸、草酸、柠檬酸和脂肪酸甲酯聚氧乙烯醚分散于去离子水中配制而成,其中,氨三乙酸的浓度为5‑100...
  • 本实用新型属于电解铜箔生产技术领域,具体涉及一种用于电解铜箔污液槽的消泡装置。所述消泡装置包括设于槽盖上部的电机、穿过槽盖并与电机相连接的转轴、与转轴同轴设置的轴套和若干叶片;所述轴套套设于转轴上;所述叶片与轴套外壁固定连接,且叶片与转...
  • 本实用新型属于电解铜箔生产技术领域,具体涉及一种生箔机O型圈传动张紧装置。所述传动张紧装置,包括第一传动轮、第二传动轮、主支架、辅助连接架和丝杠;第一传动轮和第二传动轮均设于主支架的右后侧,第一传动轮设于第二传动轮下方,且第一传动轮和第...
  • 本实用新型属于电解铜箔生产装置技术领域,具体涉及一种降低铜箔翘曲的电解铜箔收卷辊。所述收卷辊包括同轴设置的滚筒、散热件和转动轴;所述滚筒的长度与卷附于滚筒上的电解铜箔幅宽相匹配;所述散热件包括左散热件和右散热件;所述左散热件和右散热件为...
  • 本实用新型属于电解铜箔生产技术领域,具体涉及一种用于生产电解铜箔的铜板自动剪切装置。所述装置包括抓取机构、传动机构和剪切机构;所述抓取机构包括基座、支撑杆和抓取件;支撑杆包括竖直部和水平部;基座与支撑杆的竖直部转动连接,抓取件与支撑杆的...
  • 一种电解铜箔表面元素镀量的取样装置,属于电解铜箔技术领域,包括上模板和下模板,上模板盖设在下模板上,上模板的中部设有至少两个通孔和至少一个支架,通孔内设有用于固定待检测铜箔的凸起,凸起与上模板可拆卸连接,支架上可拆卸设有丝网,上模板设有...
  • 一种用于制作多孔铜箔的电镀槽,包括电镀槽,电镀槽内设有电镀液、阴极板和阳极板,阴极板和阳极板间隔设置,所述阴极板靠近阳极板的一面设有电镀区和留白区,电镀区设于阴极板的中部,留白区设于电镀区的四周,所述电镀区均布若干用以防止镀上金属镀层的...
  • 本实用新型属于电解铜箔生产技术领域,具体涉及一种用于生产均匀质重电解铜箔的装置。所述装置包括底部呈圆弧形的电解槽,设于电解槽上方的阴极辊,以及设于电解槽内且与电解槽底部弧度相匹配的阳极板,阳极板由若干并列设置的阳极条组成;所述装置还包括...
  • 一种电解铜箔便携式防氧化装置,包括收卷辊,收卷辊上缠绕有铜箔,收卷辊的两端未缠绕有铜箔的区域为留白区,所述留白区套设有防氧化套筒,防氧化套筒和铜箔之间有间隙,所述防氧化套筒的内壁上均布若干干燥剂包,干燥剂包内装有干燥剂,收卷辊穿过并伸出...
  • 本实用新型提供一种节能环保的电解铜箔溶铜系统,包括溶铜罐,所述溶铜罐连通有上液管路和溢流管路,所述溢流管路连通至溶铜罐的上部,且溢流管路上依次设有溢流储液槽、过滤器和换热器,所述上液管路经由所述换热器后连通至溶铜罐的顶部;所述溶铜罐的上...
  • 本实用新型属于电解铜箔技术领域,具体涉及一种双光电解铜箔的防氧化处理装置。所述防氧化处理装置包括第一导辊、第二导辊、喷液管、防氧化液槽、以及并列设置的第一液下辊和第二液下辊;所述防氧化液槽底部设有隔板,隔板将防氧化液槽分为防氧化液区和溢...
  • 本发明为进一步降低6μm电解铜箔的翘曲问题,提供一种6μm双光低翘曲电解铜箔用添加剂,所述添加剂由浓度为2‑6g/L的KH‑5水溶液、浓度为4‑8g/L的低分子胶水溶液和浓度为4‑8g/L的聚二硫二丙烷磺酸钠水溶液组成,且在电沉积生成铜...
  • 本发明为进一步提高6μm电解铜箔的抗拉强度,提供一种6μm双光高抗拉电解铜箔用添加剂,所述添加剂由浓度为5‑10g/L的聚乙二醇水溶液、浓度为2‑5g/L的FESS水溶液、浓度为4‑8g/L的低分子胶水溶液和浓度为4‑8g/L的聚二硫二...
  • 本发明提供一种节能环保的电解铜箔溶铜系统及溶铜工艺,包括溶铜罐,所述溶铜罐连通有上液管路和溢流管路,所述溢流管路连通至溶铜罐的上部,且溢流管路上依次设有溢流储液槽、过滤器和换热器,所述上液管路经由所述换热器后连通至溶铜罐的顶部;所述溶铜...