一种SiC/SiO2同轴纳米线的制备方法技术

技术编号:9963301 阅读:155 留言:0更新日期:2014-04-24 07:19
本发明专利技术公开了一种SiC/SiO2同轴纳米线的制备方法,其步骤为:以人造石墨粉、活性炭粉、鳞片石墨粉中的一种为碳源,以硅粉、无定形态氧化硅粉末、纳米级氧化硅粉末中的一种或任意几种为硅源,将碳源和硅源充分混合后置于微波谐振腔中,将微波谐振腔抽真空,然后利用微波辐照加热碳源和硅源形成的混合物,保温反应,得到SiC/SiO2同轴纳米线。本方法利用高能微波辐照,快速、高效的得到大量纳米线,产物均匀、纯净且形态可控;该方法简单高效,成本低廉,重现性好,不需要进行原料的预处理,无需催化剂、模板以及衬底,且纳米线产率高,利于进行大规模工业化生产。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种SiC/SiO2同轴纳米线的制备方法,其步骤为:以人造石墨粉、活性炭粉、鳞片石墨粉中的一种为碳源,以硅粉、无定形态氧化硅粉末、纳米级氧化硅粉末中的一种或任意几种为硅源,将碳源和硅源充分混合后置于微波炉的谐振腔中,将微波谐振腔抽真空,然后利用微波辐照加热碳源和硅源形成的混合物,保温反应,得到SiC/SiO2同轴纳米线。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:王继刚黄珊
申请(专利权)人:张家港市东大工业技术研究院
类型:发明
国别省市:

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