本发明专利技术涉及具有新结构的氟基树脂和包含其的光敏树脂组合物。含有本发明专利技术示例性实施方案的氟基树脂的光敏树脂组合物具有优异的光敏性和显影性，且可使涂膜的接触角增加，从而避免水渍。因此，含有本发明专利技术示例性实施方案的氟基树脂的光敏树脂组合物可应用于多种光敏材料，且具体而言，优选用于制备用于LCD的滤色片图案。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本专利技术涉及具有新结构的氟基树脂和包含其的光敏树脂组合物。含有本专利技术示例性实施方案的氟基树脂的光敏树脂组合物具有优异的光敏性和显影性，且可使涂膜的接触角增加，从而避免水渍。因此，含有本专利技术示例性实施方案的氟基树脂的光敏树脂组合物可应用于多种光敏材料，且具体而言，优选用于制备用于LCD的滤色片图案。【专利说明】氟树脂和包含其的光敏树脂组合物
本申请要求于2011年8月4日向韩国知识产权局(KIPO)提交的韩国专利申请第10-2011-0077767号的优先权，其公开内容的全文在此以参引的方式纳入本文中。本申请涉及具有新结构的氟基树脂、包含其的光敏树脂组合物、使用其制备的光敏材料以及使用其制备的电子器件。
技术介绍
光敏树脂组合物可施用于基底上而形成涂膜(paint film),以及用于形成图案，所述图案通过如下方式形成:使用光掩模(photomask)等通过光照使涂膜的特定部分曝光，并随后使未曝光的部分进行显影处理以移除未曝光的部分。由于光敏树脂组合物可聚合且可通过光照固化，这种光敏树脂组合物已用于光固化油墨、光敏印刷板、各种光致抗蚀剂、用于LCD的滤色光致抗蚀剂、用于树脂黑色基质(matrix)的光致抗蚀剂、透明光敏材料等ο光敏树脂组合物通常包括碱溶性树脂、含有烯键式不饱和键的可聚合化合物、光聚合引发剂和溶剂。在光敏树脂组合物中，碱溶性树脂使光敏树脂组合物与基底具有粘着强度，因而可形成涂层，碱溶性树脂溶于碱性液体显影剂，因而能够形成精细图案，且同时通过赋予形成的图案以强度来防止所述图案在后处理过程中受到损坏。此外，所述碱溶性树脂甚至在耐热性和耐化学性方面也具有极好的效果。一般而言，光敏树脂组合物形成为厚度为3 μ m或以上的涂膜，且大部分涂膜需要进行显影处理，因此，所述光敏树脂组合物需要在短时间内大量地溶于液体显影剂中。此外，如未清晰地显影，则会产生多种显示缺陷(例如因残留物而出现的双面点(directspots))和液晶的配向缺陷(alignment defect)。因此,光敏树脂组合物需要具有优异的显影性。此外，当将光敏树脂组合物施用于具有大表面积的玻璃基底上时，很难将基底进行全表面曝光，并因而只能对基板进行多步曝光。因此，如光敏树脂组合物光敏性差，则曝光过程所需的时间变长，导致生产率下降，因此需要高光敏性。此外，即使在200°C或以上的高温过程中，也需要优异的热稳定性以保持形状和厚度、足以抵抗外部压力的高抗压强度、和优异的耐化学性。此外，随时间的优异稳定性即使在长期储存条件下也可稳定地表现出持续需要的性能而不会有任何变化，因此还需要随时间的优异稳定性。然而，尚未研发出在耐热性、耐化学性、显影性、光敏性和随时间的稳定性方面满足所有标准的光敏树脂组合物。另外，在上述光敏树脂组合物的使用过程中，为了提高生产过程中单位时间的产量，需要减少曝光时间和显影时间。因此，相对于本领域已知的光敏树脂组合物，需要提高光敏性和显影性。现已使用具有高光敏性的化合物或增加光活性化合物的用量来提高光敏树脂组合物的光敏性。但是，具有高光敏性的光活性化合物存在相对昂贵的问题。此外，如光活性化合物的用量增加，则在后烘烤过程中出现的大量升华异物会污染烘箱或污染组分，例如污染LCD面板中的液晶。近来，已开发出一种使碱溶性树脂和烯键式不饱和化合物光致交联的方法，该方法致力于将光聚合官能团引入在光敏树脂组合物中使用的碱溶性树脂的侧链。然而，即使光敏性与引入碱溶性树脂的光聚合活性基团的比例呈正相关，由于光聚合活性基团引入碱溶性树脂的酸性基团部分，如果碱溶性树脂中光聚合活性基团的比例增加，则剩余酸性基团的比例相对下降而降低显影性。同时，一种已知光敏树脂组合物的接触角是通过某种或一定量的表面活性剂来控制的。但是，存在许多因光敏树脂组合物的原料的限制而无法用表面活性剂控制接触角的情况。这是因为在滤色片的制备过程中部分地移除了表面活性剂。因此，需要研发一种光敏树脂组合物，其在制备本领域滤色片的过程中增加接触角而不移除表面活性剂。
技术实现思路
技术问题本申请的目的在于提供一种光敏树脂组合物，其具有优异的光敏性和显影性，且可解决因其接触角大而产生的水溃(water stain)问题,还提供一种使用其制备的光敏材料，以及使用其制备的电子器件。技术方案本申请的一个示例性实施方案提供一种氟基树脂，其包含:1)由下式I表示的重复单元、2)由下式2表示的重复单元、3)由下式3表示的重复单元和4) 一种或多种由下式4、式5和式6表示的重复单元。【权利要求】1.一种氟基树脂，其包含:1)由下式I表示的重复单元、2)由下式2表示的重复单元、3)由下式3表示的重复单元，和4)一种或多种由下式4、式5和式6表示的重复单元， 2.权利要求1的氟基树脂·，其中所述氟基树脂的酸值为30-300K0Hmg/g。3.权利要求1的氟基树脂，其中所述氟基树脂的重均分子量为5，000至30，000。4.权利要求1的氟基树脂，其中所述氟基树脂含有由如下式7至式13中的任一个表示的重复单元: 5.权利要求1的氟基树脂，其中所述氟基树脂包含由下式14表示的重复单元: 6.一种光敏树脂组合物，其包含: 含有权利要求1-5中任一项所述氟基树脂的粘合剂树脂、 含有烯键式不饱和键的可聚合化合物、 光活性化合物，和 溶剂。7.权利要求6的光敏树脂组合物，其中所述氟基树脂的含量为基于光敏树脂组合物的总重量计的1-20重量％。8.权利要求6的光敏组合物，其中所述含有烯键式不饱和键的可聚合化合物的含量为基于光敏树脂组合物的总重量计的1-30重量％。9.权利要求6的光敏树脂组合物，其中所述光活性化合物的含量为基于光敏树脂组合物的总重量计的0.1-5重量％。10.权利要求6的光敏树脂组合物，其中所述溶剂的含量为基于光敏树脂组合物的总重量计的40-95重量％。11.权利要求6的光敏树脂组合物，其还包含:表面活性剂。12.权利要求11的光敏树脂组合物，其中所述表面活性剂的含量为基于光敏树脂组合物的总重量计的0.01-5重量％。13.权利要求6的光敏树脂组合物，其还包含: 一种或两种或多种添加剂，选自着色剂、固化促进剂、热聚合抑制剂、分散剂、抗氧化齐|J、UV吸收剂、流平剂、光敏剂、增塑剂、粘合促进剂、填料和表面活性剂。14.权利要求13的光敏树脂组合物，其中所述着色剂的含量为基于光敏树脂组合物的总重量计的1-20重量％，且除着色剂外其他添加剂的含量各自为基于光敏树脂组合物的总重量计的0.01-5重量％。15.使用权利要求6的光敏树脂组合物制备的光敏材料。16.权利要求15的光敏材料,其中所述光敏材料选自:用于制备滤色片的颜料分散型光敏材料、用于形成 黑色基质的光敏材料、用于形成外部覆盖层的光敏材料、用于柱间隔物的光敏材料和用于印刷电路板的光敏材料。17.—种制备光敏材料的方法,所述方法包括: 将权利要求6的光敏树脂组合物施用于基底上；并且 使所施用的光敏树脂组合物曝光和显影。18.一种使用权利要求6的光敏树脂组合物制备的电子器件。【文档编号】G03F7/027GK103717625SQ201280037587 【公开日】2014年4月9日 申请日本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种氟基树脂，其包含：1)由下式1表示的重复单元、2)由下式2表示的重复单元、3)由下式3表示的重复单元，和4)一种或多种由下式4、式5和式6表示的重复单元，[式1][式2][式3][式4][式5][式6]其中R1、R2、R3、R4、R6、R7、R8、R9、R12和R13彼此相同或不同，且各自独立地为氢或C1?C5烷基，R5为C1?C18烷基，R10为苯基、被卤素取代的苯基或被C1?C3烷基取代的苯基，R11为苯基、被卤素取代的苯基或被C1?C3烷基取代的苯基，R14为被苯基取代的C1?C6烷基、被C1?C6烷基取代的苯基、被C1?C6烷氧基取代的苯基，或C1?C6烷氧基甲基，且a、b、c、d、e和f为摩尔混合比，a为5?30，b为5?30，c为10?60，d为0?20，e为0?20，且f为0?70。FDA0000463033170000011.jpg,FDA0000463033170000012.jpg,FDA0000463033170000013.jpg,FDA0000463033170000014.jpg,FDA0000463033170000015.jpg,FDA0000463033170000021.jpg...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：金珉呈，金汉修，崔景洙，
申请(专利权)人：株式会社LG化学，
类型：
国别省市：
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