【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术涉及建筑材料领域，尤其是一种高分子彩釉瓦。分为主瓦和檐瓦，包括下齿接头、上齿接头、沟瓦、阳瓦、固定孔，其特征在于：沟瓦为下凹形状，阳瓦为上凸形状，所述的固定孔设置在彩釉瓦的外缘上，该外缘还设置有防止雨水通过固定孔回流的凸肋，所述的下齿接头与沟瓦连接，所述的上齿接头与阳瓦连接。本技术的积极效果为：生产成本低;重量轻，强度高，抗冲击，不变形。相同面积的重量仅为水泥瓦的三分之一，降低了建筑物重量，减少了基础的承载力，搭接方便，外形美观。【专利说明】高分子彩釉瓦
本技术涉及建筑材料领域，尤其是一种高分子彩釉瓦。
技术介绍
现代建筑逐步向高质量、高档次发展，其功能要求不断提高，传统的屋面材料已不能满足建筑业发展的要求，各种新型材料应运而生。根据国际建材发展的流行趋势，屋面材料正向质轻、美观、环保、防水防火、隔音隔热等方向发展。石棉瓦不仅含致癌成份，而且因使用寿命短，易腐烂污染等缺点被禁止使用；水泥瓦具有施工复杂、结构重、吸水渗水等缺点；而近年兴起的彩钢瓦，其使用成本高、使用寿命短、不隔音隔热、易生锈等问题难以解决。本技术公开了一种高分子彩釉瓦，彻底...
【技术保护点】
一种高分子彩釉瓦，分为主瓦和檐瓦，包括下齿接头、上齿接头、沟瓦、阳瓦、固定孔，其特征在于：沟瓦为下凹形状，阳瓦为上凸形状，所述的固定孔设置在彩釉瓦的外缘上，该外缘还设置有防止雨水通过固定孔回流的凸肋，所述的下齿接头与沟瓦连接，所述的上齿接头与阳瓦连接。
【技术特征摘要】
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