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高分子彩釉瓦制造技术
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文档序号:9888935
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本实用新型涉及建筑材料领域,尤其是一种高分子彩釉瓦。分为主瓦和檐瓦,包括下齿接头、上齿接头、沟瓦、阳瓦、固定孔,其特征在于:沟瓦为下凹形状,阳瓦为上凸形状,所述的固定孔设置在彩釉瓦的外缘上,该外缘还设置有防止雨水通过固定孔回流的凸肋,所述的...
该专利属于王进林所有,仅供学习研究参考,未经过王进林授权不得商用。
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