【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术涉及一种玻璃电熔炉，具体是一种全电熔硼硅玻璃窑炉，包括呈圆柱形的炉体，电极层，所述电极层自上而下分为三层，每层的电极层均是由十二个水平均匀分布于炉体周身且插入炉体内腔中的电极构成的，第一、第三层电极层的电极排布方向一致，第二层电极层的电极相对于第一、第三层电极层的电极等距交错排布。本技术所述全电熔硼硅玻璃窑炉采用合理的电极数量，可以满足熔化质量，还能确保熔化数量；合理的电极布局一是提供了工艺所需的温度区域；二是加热均匀；三是防止熔化的玻璃液形成湍流，有利于玻璃液的澄清和均化。【专利说明】全电熔硼硅玻璃窑炉
本技术涉及一种玻璃电熔炉，具体是一种全电熔硼硅玻璃窑炉。
技术介绍
生产硼硅玻璃的全电熔窑炉其电极布局方式是影响窑炉正常运转和使用寿命的因素之一。顶插电极布局方式可以提高窑炉寿命，但是易形成“热顶”现象；底插电极相对受玻璃液的浸蚀小，但对设计和设备的要求较高，如果出现水套漏水的现象就会导致停炉。因此，亟需一种既不影响窑炉正常运转又不影响其使用寿命的新型窑炉结构。
技术实现思路
本技术为了解决上述技术问题，提供了一种全电熔硼硅玻璃窑炉。本技术是通过以下技术方案实现的:全电熔硼硅玻璃窑炉，包括呈圆柱形的炉体，电极层，所述电极层自上而下分为三层，每层的电极层均是由十二个水平均匀分布于炉体周身且插入炉体内腔中的电极构成的，第一、第三层电极层的电极排布方向一致，第二层电极层的电极相对于第一、第三层电极层的电极等距交错排布。以图1中炉体的轴线定义为Z向，垂直于Z向的水平方向上分别定义为X向和Y向。本技术所述第一、第三层电极层的电极排布方向...
【技术保护点】
全电熔硼硅玻璃窑炉，包括呈圆柱形的炉体（1），电极层，其特征在于，所述电极层自上而下分为三层，每层的电极层均是由十二个水平均匀分布于炉体（1）周身且插入炉体（1）内腔中的电极（2）构成的，第一、第三层电极层的电极（2a、2c）排布方向一致，第二层电极层的电极（2b）相对于第一、第三层电极层的电极（2a、2c）等距交错排布。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：张怀民，郑小学，张杰民，
申请(专利权)人：芮城县宏光医药包装业有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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