一种清洁装置以及自动清洁系统制造方法及图纸

本发明专利技术实施例提供了一种清洁装置以及自动清洁系统，涉及显示技术领域，可去除物品表面的污染颗粒；该清洁装置包括离子清洁系统、传输轨道以及承载台；所述离子清洁系统包括腔体、设置在腔体上的吹气孔和吸气孔、设置在腔体内部且位于吹气孔处的放电装置、以及设置在腔体外侧与吹气孔连接的吹气管道和与吸气孔连接的吸气管道；其中，放电装置用于产生等离子体；所述传输轨道包括导轨以及设置在导轨上的传动带；其中，传输轨道与腔体的上、下底面平行设置，且传输轨道的一部分位于腔体内，另一部分延伸到腔体外；所述承载台设置在传动带上；用于物品表面的清洁。

【技术实现步骤摘要】
一种清洁装置以及自动清洁系统
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种清洁装置以及自动清洁系统。
技术介绍
实际生产中，对于一些物品例如玻璃制品表面的清洁，主要是通过有机溶剂溶解附着于其表面的污染颗粒实现的。但是，一方面，由于有机溶剂具有腐蚀性，这会引起所述物品表面的损伤；另一方面，通过有机溶剂清洁之后产生的废液具有污染性，需要经过处理方可排放，从而导致成本的提高。此外，利用有机溶剂进行清洁，对于带电颗粒的清洁效果不理想。示例的，在实际生产中掩膜板的换取通常是由人工操作完成的，在此过程中不可避免的会因摩擦而产生静电，从而吸附空气中的带电颗粒，造成掩膜板的污染；也就是说，掩膜板表面的主要污染源是静电吸附的带电颗粒。目前，对上述掩膜板的清洁方法主要是采用有机溶剂进行清洁，但这种清洁方法难以实现表面带电颗粒的清洁，或者清洁效果不理相
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种清洁装置以及自动清洁系统，可去除物品表面的污染颗粒。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案:一方面，提供一种清洁装置；所述清洁装置包括离子清洁系统、传输轨道以及承载台；所述离子清洁系统包括腔体、设置在所述腔体上的吹气孔和吸气孔、设置在所述腔体内部且位于所述吹气孔处的放电装置、以及设置在所述腔体外侧与所述吹气孔连接的吹气管道和与所述吸气孔连接的吸气管道；其中，所述放电装置用于产生等离子体；所述传输轨道包括导轨以及设置在所述导轨上的传动带；其中，所述传输轨道与所述腔体的上、下底面平行设置，且所述传输轨道的一部分位于所述腔体内，另一部分延伸到所述腔体外；所述承载台设置在所述传动带上。可选的，所述清洁装置还包括位置传感器；所述位置传感器位于所述腔体内并设置在所述腔体的后侧面上，用于感测所述承载台上的待清洁物品的存在、及所述待清洁物品或清洁后的物品相对所述位置传感器的距离；其中，所述腔体的后侧面与所述传输轨道的延伸方向垂直。进一步可选的，所述清洁装置还包括与所述位置传感器和所述离子清洁系统均连接的第一控制器；其中，当所述位置传感器感测到所述承载台上的待清洁物品的存在并到达预定位置时，所述第一控制器控制所述离子清洁系统对所述待清洁物品进行等离子体清洁。可选的，所述吹气孔设置在所述腔体的上底面，或者所述腔体的左、右侧面；所述吸气孔设置在所述腔体的底部；其中，所述腔体的左、右侧面均与所述传输轨道的延伸方向平行。另一方面，提供一种自动清洁系统，包括上述的清洁装置以及机械手；其中，所述机械手用于传送待清洁物品和清洁后的物品。可选的，在所述清洁装置包括位置传感器的情况下，所述自动清洁系统还包括与所述位置传感器和所述机械手均连接的第二控制器；其中，当所述位置传感器感测到设置在所述清洁装置的承载台上的所述清洁后的物品大于预设距离时，所述第二控制器控制所述机械手到达预定位置接收所述清洁后的物品。进一步可选的，所述自动清洁系统还包括设置在所述清洁装置的腔体外侧的识别器，且所述识别器与所述第二控制器相连；其中，所述第二控制器还与所述清洁装置的传输轨道相连；所述第二控制器控制所述机械手将所述待清洁物品传送到所述识别器位置处，并控制所述识别器对所述待清洁物品进行识别；当所述识别器识别到所述机械手传送的待清洁物品的信息后，所述第二控制器控制所述传输轨道的传动带带动承载台到达所述预定位置，并控制所述机械手将所述待清洁物品放置在所述承载台上。进一步的，所述识别器包括用于识别条形码的条码识别器；其中，所述待清洁物品的信息唯一对应所述条形码。本专利技术实施例提供一种清洁装置；所述清洁装置包括离子清洁系统、传输轨道以及承载台；所述离子清洁系统包括腔体、设置在所述腔体上的吹气孔和吸气孔、设置在所述腔体内部且位于所述吹气孔处的放电装置、以及设置在所述腔体外侧与所述吹气孔连接的吹气管道和与所述吸气孔连接的吸气管道；其中，所述放电装置用于产生等离子体；所述传输轨道包括导轨以及设置在所述导轨上的传动带；其中，所述传输轨道与所述腔体的上、下底面平行设置，且所述传输轨道的一部分位于所述腔体内，另一部分延伸到所述腔体外；所述承载台设置在所述传动带上。由于在实际生产中，待清洁物品表面的污染颗粒包括普通沉积颗粒以及由于静电吸附作用而附着在物品表面的带电颗粒，当通过本专利技术实施例提供的清洁装置对所述物品表面进行清洁时，一方面，从所述吹气孔吹入的具有一定流速的气体例如空气进入所述腔体后，所述待清洁物品表面的普通沉积颗粒会被该流动的气体带走，从而实现物品表面普通沉积颗粒的清洁；另一方面，所述放电装置产生的等离子体电荷跟随该流动的气体吹向所述待清洁物品表面，从而使所述等离子体电荷与所述待清洁物品表面的带电颗粒中和，消除静电吸附作用，并被所述流动的气体带走，从而达到去除物品表面带电颗粒的目的。【附图说明】为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的一种清洁装置的结构示意图一；图2为本专利技术实施例提供的一种清洁装置的结构示意图二。附图标记:10-离子清洁系统；100-腔体；101-吹气孔；102-吸气孔；20_传输轨道；30_承载台；40-位置传感器；50-识别器。【具体实施方式】下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。本专利技术实施例提供了一种清洁装置，如图1和图2所示，所述清洁装置包括离子清洁系统10、传输轨道20、以及承载台30 ;所述离子清洁系统10包括腔体100、设置在所述腔体100上的吹气孔101和吸气孔102、设置在所述腔体100内部且位于所述吹气孔101处的放电装置(图中未标出)、以及设置在所述腔体100外侧与所述吹气孔101连接的吹气管道(图中未标出)和与所述吸气孔102连接的吸气管道(图中未标出);其中，所述放电装置用于产生等离子体；所述传输轨道20包括导轨以及设置在所述导轨上的传动带；其中，所述传输轨道20与所述腔体100的上、下底面平行设置，且所述传输轨道20的一部分位于所述腔体100内，另一部分延伸到所述腔体100外；所述承载台30设置在所述传动带上。其中，所述吸气管道可以是一种漏斗状吸气管道。这样，漏斗的开口可以起到增大吸气面积与速度的作用，从而提高吸气的效率，及时有效的排出所述离子清洁系统10的腔体100内部的多余气体。需要说明的是，第一，所述承载台30用于承载待清洁物品或清洁后的物品，当需要对待清洁物品进行清洁时，可以控制所述传输轨道20的传动带将放置有所述待清洁物品的承载台30移动到所述腔体100内，当所述待清洁物品清洁完后，需要将所述清洁后的物品运送出去时，可以控制所述传输轨道20的传动带将放置有所述清洁后的物品的承载台30移动到所述腔体100外。第二，所述离子清洁系统10是一种等离子体清洁系统，其对于普通的沉积颗粒和带本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种清洁装置；其特征在于，包括：离子清洁系统，所述离子清洁系统包括腔体、设置在所述腔体上的吹气孔和吸气孔、设置在所述腔体内部且位于所述吹气孔处的放电装置、以及设置在所述腔体外侧与所述吹气孔连接的吹气管道和与所述吸气孔连接的吸气管道；其中，所述放电装置用于产生等离子体；传输轨道，所述传输轨道包括导轨以及设置在所述导轨上的传动带；其中，所述传输轨道与所述腔体的上、下底面平行设置，且所述传输轨道的一部分位于所述腔体内，另一部分延伸到所述腔体外；承载台，所述承载台设置在所述传动带上。

【技术特征摘要】
1.一种清洁装置；其特征在于，包括: 离子清洁系统，所述离子清洁系统包括腔体、设置在所述腔体上的吹气孔和吸气孔、设置在所述腔体内部且位于所述吹气孔处的放电装置、以及设置在所述腔体外侧与所述吹气孔连接的吹气管道和与所述吸气孔连接的吸气管道；其中，所述放电装置用于产生等离子体； 传输轨道，所述传输轨道包括导轨以及设置在所述导轨上的传动带；其中，所述传输轨道与所述腔体的上、下底面平行设置，且所述传输轨道的一部分位于所述腔体内，另一部分延伸到所述腔体外； 承载台，所述承载台设置在所述传动带上。2.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述清洁装置还包括位置传感器； 所述位置传感器位于所述腔体内并设置在所述腔体的后侧面上，用于感测所述承载台上的待清洁物品的存在、及所述待清洁物品或清洁后的物品相对所述位置传感器的距离； 其中，所述腔体的后侧面与所述传输轨道的延伸方向垂直。3.根据权利要求2所述的清洁装置，其特征在于，所述清洁装置还包括与所述位置传感器和所述离子清洁系统均连接的第一控制器； 其中，当所述位置传感器感测到所述承载台上的待清洁物品的存在并到达预定位置时，所述第一控制器控制所述离子清洁系统对所述待清洁物品进行等离子体清洁。4.根据权利要求1至3任一项所述的清洁装置，其特征在于， 所述吹气孔设置在所述腔体的上底面，或者所述腔体的左、右侧面； 所述吸...

【专利技术属性】
技术研发人员：李晓虎，肖磊，邓世刚，陈一民，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11