图案转移基板装置及其图案转移基板制造方法及图纸

本发明专利技术为一种图案转移基板装置及其图案转移基板。图案转移基板装置包括环形治具以及图案转移基板。环形治具具有中空部。图案转移基板设置于中空部且由环形治具夹持，并具有本体部及凸部。凸部与本体部一体成型并位于本体部的外缘。环形治具夹持凸部。本发明专利技术的图案转移基板形成于环形治具内，且通过凸部可增加两者的连结强度，并且本发明专利技术的图案转移基板在环形治具夹持的情况下进行制造程序，因而能避免操作者触摸图案转移基板而避免污损。

【技术实现步骤摘要】
图案转移基板装置及其图案转移基板
本专利技术关于一种图案转移基板装置，特别关于一种图案转移基板装置及其图案转移基板。
技术介绍
在微影制造工艺中，每当曝光步骤结束后，都需要移动光罩以调整位置，而在移动过程中操作者就会直接碰触光罩表面，使光罩的表面产生污染与毁损，以致光线穿透光罩时会产生散射与折射，进而影响曝光后的尺寸与形状上误差，而无法制作出纳米等级的光阻结构。并且当光罩被污染时，就需要进行清洗，随着清洗的次数越多，光罩的寿命就越缩短。此外，欲将光罩与基板上的光阻层表面作接触平贴时，由于直接贴合过程中是两个表面随机一处先开始作贴合，这样会有部分空气被限制在两个平面之间并形成气泡，以致光罩与光阻层之间产生不确定的空隙与间距。结果，曝光光线穿透光罩时会产生散射与绕射现象，造成光阻层部分侧向曝光范围扩大，而无法制作出所要的光阻结构。因此，如何提供一种具有新式结构的图案转移基板装置及其图案转移基板，能够避免产生沾污及气泡，进而能制作出精确的微结构并延长使用寿命，实为当前重要课题之一。
技术实现思路
有鉴于上述课题，本专利技术的目的为提供一种具有新式结构的图案转移基板装置及其图案转移基板，与光阻层表面作接触平贴时其能避免产生沾污及气泡。为达上述目的，依据本专利技术的一种图案转移基板装置包括环形治具以及图案转移基板。环形治具具有中空部。图案转移基板设置于中空部且由环形治具夹持，并具有本体部及凸部。凸部与本体部一体成型并位于本体部的外缘。在一实施例中，环形治具包括公环及母环，两者相互连接而形成中空部。在一实施例中，图案转移基板在由环形治具夹持的状态下进行制造程序。在一实施例中，图案转移基板为光罩或模仁。在一实施例中，凸部为渐扩部或渐缩部。在一实施例中，凸部的剖面为多边形、弧形、圆形或其组合。在一实施例中，凸部为环形或包括多个间隔设置的凸结构。在一实施例中，图案转移基板的材质包括硅氧树脂、UV树脂、硅橡胶、聚氨酯树脂或其组合。在一实施例中，本体部的表面具有图案化层。为达上述目的，依据本专利技术的一种图案转移基板具有本体部及凸部。凸部与本体部一体成型并位于本体部的外缘。承上所述，在本专利技术的图案转移基板装置中，图案转移基板形成于环形治具内，且通过图案转移基板的凸部可使图案转移基板轻易嵌入环形治具而达到自锁夹持功效，并能增加两者的连结强度。并且本专利技术的图案转移基板可在环形治具夹持的情况下进行制造程序，因而能避免操作人员触摸图案转移基板，而避免基板被污损。此外，由于凸部的设计与图案转移基板的自重下，使得图案转移基板形成凸面状（convex），因此当本专利技术的图案转移基板与基板的表面接触时，会由图案转移基板的中央开始与基板的表面接触并逐渐向外接触而将空气挤出，进而达到大面积无气泡残留的高贴附效果。藉此，本专利技术的图案转移基板装置及其图案转移基板能够避免产生沾污及气泡，因而能制作出精确的纳米微结构并延长产品的使用寿命。附图说明图1为本专利技术较佳实施例的一种图案转移基板装置的示意图；图2为本专利技术较佳实施例的图案转移基板装置的环形治具的公环的示意图；图3为本专利技术较佳实施例的图案转移基板装置的环形治具的母环的示意图；图4为本专利技术较佳实施例的图案转移基板装置的环形治具的示意图；图5为本专利技术较佳实施例的图案转移基板装置通过转印模仁形成图案化层的示意图；以及图6A至图6G为本专利技术较佳实施例的图案转移基板的不同态样的示意图。【主要元件符号说明】1：图案转移基板装置11：环形治具111：中空部112：公环113：母环12、12a～12e：图案转移基板121：本体部122、122a～122e：凸部123：图案化层D1：第一厚度D2：第二厚度M：转印模仁具体实施方式以下将参照相关附图，说明依本专利技术较佳实施例的一种图案转移基板装置及其图案转移基板，其中相同的元件将以相同的参照符号加以说明。图1为本专利技术较佳实施例的一种图案转移基板装置1的示意图。请参照图1所示，图案转移基板装置1包括环形治具11以及图案转移基板12。环形治具11具有中空部111，而图案转移基板12设置于中空部111。本专利技术不限制环形治具11的形状，其可依据图案转移基板12的形状而变化。在本实施例中，环形治具11包括公环112（如图2所示）及母环113（如图3所示），两者相互连接而形成中空部111。图案转移基板12设置于中空部111且由环形治具11夹持，并具有本体部121及凸部122。图6A为本专利技术较佳实施例的一种图案转移基板12的示意图，图6B为图案转移基板12的上视示意图，请参照图6A及图6B所示，凸部122与本体部121为一体成型，且凸部122位于本体部121的外缘。在本实施例中，本体部121与凸部122具有不同的目的，于此，本体部121用以曝光或转印，而凸部122用以连结，例如被环形治具11所夹持。在本实施例中，本体部121以圆形为例，但不限于此，其亦可为其他几何图形，例如正方形、矩形、椭圆形、多边形等等。本实施例的凸部122亦为环形，且其剖面例如为渐扩部（如图6A所示），渐扩部的定义为凸部122距离本体部121外缘较近的位置具有第一厚度D1，距离外缘较远的位置具有第二厚度D2，且第二厚度D2大于第一厚度D1。另外，凸部122的剖面可例如为渐缩部，其定义与渐扩部的定义相反。另外，凸部122的剖面亦可为多边形（例如方形、矩形、菱形、平行四边形、梯形）、弧形、圆形或其组合。图6C为另一态样的图案转移基板12a的上视示意图，其中，凸部122a包括多个间隔设置的凸结构。此外，图案转移基板还可有多种变化态样，以下举例说明。图6D至图6G为不同态样的图案转移基板的剖面示意图。如图6D所示，图案转移基板12b的凸部122b的剖面为渐缩部；如图6E所示，图案转移基板12c的凸部122c的剖面为方形；如图6F所示，图案转移基板12d的凸部122d的剖面为弧形；如图6G所示，图案转移基板12e的凸部122e的剖面为多边形与弧形的组合。在本实施例中，图案转移基板的材质可包括高分子聚合物，例如硅氧树脂、UV树脂、硅橡胶、聚氨酯树脂或其组合。请参照图1、图6A及图6D至图6G，图案转移基板的表面可具有图案化层123，图案化层123例如为图案化金属层或图案化微结构层，图案化金属层指在图案转移基板的表面形成图案化的金属层，而图案化微结构层指将图案转移基板的表面形成微结构层。通过图案化层123，图案转移基板可作为光罩或模仁，其中，光罩可例如用于微影制造工艺，模仁可例如用于压印制造工艺。并且图案转移基板在由环形治具11夹持的状态下进行制造。请参照图2至图5以说明图案转移基板装置1的制造方法。首先，将如图2所示的公环112及图3所示的母环113组合而形成图4所示的环形治具11。再如图5所示，将高分子材料溶液浇铸填充环形治具11的模穴（即中空部111），并加热烘烤，并利用转印模仁M（其上具有转印图案）将图案转印至图案转移基板12上而形成图案化层123。再移除转印模仁M即可得到图案转移基板装置1（如图1所示）。上述制造方法仅为举例，并非用以限制本专利技术。综上所述，在本专利技术的图案转移基板装置中，图案转移基板形成于环形治具内，且通过图案转移基板的凸部可使图案转移基板轻易嵌入环形治具而达到自锁夹持功效，并能增加两者本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种图案转移基板装置，包括：环形治具，具有中空部；以及图案转移基板，设置于所述中空部且由所述环形治具夹持，并具有：本体部；及凸部，与所述本体部一体成型并位于所述本体部的外缘，所述环形治具夹持所述凸部。

【技术特征摘要】
2012.09.20 TW 1011344611.一种图案转移基板装置，其特征在于，包括：环形治具，具有中空部；以及图案转移基板，设置于所述中空部且由所述环形治具夹持，并具有：本体部；及凸部，与所述本体部一体成型并位于所述本体部的外缘，所述环形治具夹持所述凸部，其中所述凸部为渐扩部或渐缩部。2.一种图案转移基板装置，其特征在于，包括：环形治具，具有中空部；以及图案转移基板，设置于所述中空部且由所述环形治具夹持，并具有：本体部；及凸部，与所述本体部一体成型并位于所述本体部的外缘，所述环形治具夹持所述凸部，其中所述凸部的剖面为多边形、弧形、圆形或其组合。3.一种图案转移基板装置，其特征在于，包括：环形治具，具有中空部；以及图案转移基板，设置于所述中空部且由所述环形治具夹持，并具有：本体部；及凸部，与所述本体部一体成型并位于所述本体部的外缘，所述环形治具夹持所述凸部，其中所述凸部为环形或包括多个间隔设置的凸结构。4.如权利要求1至3项任一项所述的图案转移基板装置，其特征在于，所述环形治具包括公环及母环，两者相互连接而形成所述中空部。5.如权利要求1至3项任一项所述的图案转移基板装置，其特征在于，所述图案转移基板在由所述环形治具...

【专利技术属性】
技术研发人员：李永春，张哲玮，谢易达，颜志男，
申请(专利权)人：李永春，
类型：发明
国别省市：