焦点检测装置，成像设备和控制焦点检测装置的方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及焦点检测装置，成像设备和控制焦点检测装置的方法。提供一种焦点检测装置，包括相位差获取单元，所述相位差获取单元计算沿着与光轴方向垂直的预定方向排列的一对受光元件组的受光量分布之间的偏差量，作为相位差，变换系数校正单元，所述变换系数校正单元按照受光量分布的形状之间的差异度，校正变换系数，所述变换系数代表当受光量分布的形状相同时，光轴方向的焦点偏差量和所述相位差的比率，和离焦量生成单元，所述离焦量生成单元根据校正的变换系数和所述相位差，生成作为离焦量的焦点偏差量。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术涉及。提供一种焦点检测装置，包括相位差获取单元，所述相位差获取单元计算沿着与光轴方向垂直的预定方向排列的一对受光元件组的受光量分布之间的偏差量，作为相位差，变换系数校正单元，所述变换系数校正单元按照受光量分布的形状之间的差异度，校正变换系数，所述变换系数代表当受光量分布的形状相同时，光轴方向的焦点偏差量和所述相位差的比率，和离焦量生成单元，所述离焦量生成单元根据校正的变换系数和所述相位差，生成作为离焦量的焦点偏差量。【专利说明】
本技术涉及一种焦点检测装置、成像设备和控制焦点检测装置的方法，更具体地，涉及一种利用变换系数，把相位差转换成离焦量的焦点检测装置、成像设备和控制焦点检测装置的方法。
技术介绍
过去，作为成像设备中的一种检测焦点的方法，已知相位差检测方法。相位差检测方法是根据相位差，检测焦点的方法，所述相位差是由一对受光元件组生成的受光量分布之间的偏差量。在相位差检测方法中，例如，使用安装在成像元件外的专用AF模块或者安装在成像元件内的相位差AF像素。已知一种根据相位差AF像素等中的一对受光量分布中的另一个受光量分布，逐渐地移动所述一对受光量分布中的一个受光量分布，并且每次移动时，计算所述一对受光量分布的形状之间的相关度的焦点检测方法。成像设备把当相关度最高时的移动量检测为相位差。成像设备计算通过把相位差乘以预定变换系数而获得的值，作为离焦量(例如，参见未经审查的日本专利申请公开N0.2010-152006)。
技术实现思路
然而，在上述现有技术中，存在难以准确地检测焦点的担心。用于计算离焦量的变换系数是基于一对受光量分布的形状大体相同的假设的值。然而实际上，存在受光量分布的形状并不大体相同的情况。具体地，当光瞳的孔径因成像透镜的更换，光阑值的变化等而被改变时，相位差AF像素等的受光量被改变，从而存在相位差AF像素等的一对受光量分布的形状可能并不大体相同的担心。在这种情况下，根据变换系数计算的离焦量可能不同于实际值，从而存在不能精确地检测焦点的担心。理想的是提供一种能够精确地检测焦点的成像设备。按照本技术的第一实施例，提供一种焦点检测装置及其控制方法，所述焦点检测装置包括相位差获取单元，所述相位差获取单元计算沿着与光轴方向垂直的预定方向排列的一对受光元件组的受光量分布之间的偏差量，作为相位差，变换系数校正单元，所述变换系数校正单元按照受光量分布的形状之间的差异度，校正变换系数，所述变换系数代表当受光量分布的形状相同时，光轴方向的焦点偏差量和所述相位差的比率，和离焦量生成单元，所述离焦量生成单元根据校正的变换系数和所述相位差，生成作为离焦量的焦点偏差量。因而，能够获得其中按照受光量分布的形状之间的差异度，校正变换系数，并且根据校正的变换系数和相位差，生成离焦量的效果。此外，变换系数校正单元可根据差异校正系数，校正变换系数，所述差异校正系数是所述变换系数与当受光量分布的形状不相同时离焦量和相位差的比率的比例。因而，能够获得其中根据差异校正系数，校正变换系数的效果，所述差异校正系数是所述变换系数与当受光量分布的形状不相同时离焦量和相位差的比率的比例。此外，焦点检测装置还可包括差异校正系数生成单元，所述差异校正系数生成单元根据指示透镜中的光瞳的形状和位置的透镜孔径信息，和指示所述一对受光元件组的受光灵敏度的分布的受光灵敏度分布信息，计算所述一对受光量分布，并根据所述一对受光量分布，生成差异校正系数。因而，能够获得其中根据透镜孔径信息和受光灵敏度分布信息，生成基于获得的一对受光量分布的差异校正系数的效果。此外，焦点检测装置还可包括差异校正系数表，所述差异校正系数表为充当光学系统中的光学参数的每个值保存差异校正系数。离焦量生成单元可从差异校正系数表，获得与设定为光学参数的值对应的差异校正系数。因而，能够获得其中从为作为光学系统中的光学参数的每个值保存差异校正系数的差异校正系数表中，获得与设定为光学参数的值对应的差异校正系数的效果。此外，光学参数可包括光阑值。因而，能够获得其中光学参数包括光阑值的效果。此外，焦点检测装置还可包括差异校正系数存储单元，所述差异校正系数存储单元从差异校正系数表，获得与在发出检测焦点的指令之前，设定为光学参数的值对应的差异校正系数，并保存该差异校正系数。当发出检测焦点的指令时，离焦量生成单元可从差异校正系数存储单元，获得差异校正系数。因而，能够获得其中与在发出检测焦点的指令之前，设定为光学参数的值对应的差异校正系数被保存在差异校正系数存储单元中，并且当发出检测焦点的指令时，从差异校正系数存储单元获得差异校正系数的效果。此外，差异校正系数表可以与光学系统中的光学参数的值和多个透镜的组合对应地保存多个差异校正系数。离焦量生成单元可从差异校正系数表，获得与设定为光学参数的值和安装的透镜的组合对应的差异校正系数。因而，能够获得其中与光学系统中的光学参数的值和多个透镜的组合对应地保存多个差异校正系数，并且从差异校正系数表，获得与设定为光学参数的值和安装的透镜的组合对应的差异校正系数的效果。此外，焦点检测装置还可包括输出电平校正单元，所述输出电平校正单元把所述一对受光元件组的输出电平之一用作基准值，并把另一个输出电平校正为基准值。因而，能够获得其中所述一对受光元件组的输出电平之一被用作基准值，并且另一个输出电平被校正为基准值的效果。此外，按照本技术的第二实施例，提供一种成像设备，包括相位差获取单元，所述相位差获取单元计算沿着与光轴方向垂直的预定方向排列的一对受光元件组的受光量分布之间的偏差量，作为相位差，变换系数校正单元，所述变换系数校正单元按照受光量分布的形状之间的差异度，校正变换系数，所述变换系数代表当受光量分布的形状相同时，光轴方向的焦点偏差量和所述相位差的比率，离焦量生成单元，所述离焦量生成单元根据校正的变换系数和所述相位差，生成作为离焦量的焦点偏差量，根据离焦量对被摄对象聚焦的聚焦单元，和对聚焦的被摄对象成像的成像单元。因而，能够获得其中根据差异校正系数，校正变换系数的效果，所述差异校正系数是所述变换系数与当受光量分布的形状不相同时，离焦量和相位差的比率的比例。按照本技术的实施例，能够获得其中成像设备能够精确地检测焦点的令人满意的优点。【专利附图】【附图说明】图1是图解说明按照第一实施例的成像设备的结构的例子的方框图；图2是图解说明按照第一实施例的受光灵敏度分布信息的例子的示图；图3是图解说明按照第一实施例的透镜孔径信息的例子的示图；图4是图解说明按照第一实施例的差异校正系数生成单元的结构的例子的方框图；图5是图解说明按照第一实施例的焦点检测预处理单元的结构的例子的方框图；图6是图解说明按照第一实施例的孔径信息表的示图；图7是图解说明按照第一实施例的差异校正系数表的例子的示图；图8是图解说明按照第一实施例的焦点检测单元的结构的例子的方框图；图9是图解说明按照第一实施例的成像设备的处理的例子的流程图；图10是图解说明按照第一实施例的差异校正系数生成处理的例子的流程图；图11是图解说明按照第一实施例的焦点检测预处理的例子的流程图；图12是图解说明按照第一实施例的焦点检测处理的例子的流程图；图13是图解说明按照第一实施例的成像处理的例子的流程图；图本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种焦点检测装置，包括：相位差获取单元，所述相位差获取单元计算沿着与光轴方向垂直的预定方向排列的一对受光元件组的受光量分布之间的偏差量，作为相位差；变换系数校正单元，所述变换系数校正单元根据受光量分布的形状之间的差异度，校正变换系数，所述变换系数代表当受光量分布的形状相同时光轴方向上的焦点偏差量和所述相位差的比率；以及离焦量生成单元，所述离焦量生成单元根据校正的变换系数和所述相位差，生成作为离焦量的焦点偏差量。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：宮谷佳孝，
申请(专利权)人：索尼公司，
类型：发明
国别省市：日本;JP