一种三瓣壳体附有交替镀件转架的真空镀膜装置制造方法及图纸

一种三瓣壳体附有交替镀件转架的真空镀膜装置。它由一固定瓣和两交替轮换瓣组成真空镀膜室；两轮换瓣内附有可扩展的镀件转架，其在于镀件转架上可灵活变换镀件挂轴数量以及电极数量。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】一种三瓣壳体附有交替镀件转架的真空镀膜装置。它由一固定瓣和两交替轮换瓣组成真空镀膜室；两轮换瓣内附有可扩展的镀件转架，其在于镀件转架上可灵活变换镀件挂轴数量以及电极数量。【专利说明】一种三瓣壳体附有交替镀件转架的真空镀膜装置
本专利技术涉及真空镀膜设备的研发制造，尤其对真空室和镀件转架以及磁控蒸发电极的设置。
技术介绍
在低温等离子体成膜过程中，成膜环境、溅射靶材或蒸发电极电源、镀件转架、人机工艺控制、定期清机维护等等，决定生产过程中成膜质量与效率以及稳定性。本专利技术针对成膜环境的镀膜室、镀件转架的设置提出三瓣壳体组合构造真空镀膜的成膜室以及可扩展连续交替镀件转架。以改善和提高成膜质量与成膜产品的质量稳定性与效率。
技术实现思路
本专利技术提供一种三瓣壳体附有交替镀件转架的真空镀膜装置。其包括三瓣镀膜室、可扩展连续交替镀件转架，其特征在于:所述三瓣壳体镀膜室由(Ig)固定瓣、(2hl、2h2)活动瓣组成，三瓣壳体组构成真空镀膜室；所述(3)可扩展连续交替镀件转架由(30q)调速电机驱动轮、(3-2) —次公转轮、(3-3) 一次自转介轮、(3-1)固定轮、(3-4) 一次自转轮、(3-5) 二次公转轮、(3-6) 二次自转轮、(3-7)镀件单元转架、(3-8)镀件接挂转杆、(3-9) —次自转转杆、(5)可扩展连续交替镀件转架上支撑板轮、(44)磁控或蒸发电极连接棒组成。所述的三瓣壳体镀膜室附有可扩展连续交替镀件转架的真空镀膜装置，其特征在于所述三瓣壳体镀膜室由(Ig)固定瓣的(11)基体法兰两轴向边对称铰接(2hl、2h2)活动瓣的(11)基体法兰各轴向边，两个(2hl、2h2)活动瓣交替轮回与(Ig)固定瓣组合成镀膜室，所述三瓣壳体镀膜室的三个瓣(Ig)和(2hl、2h2)其轴向截面为半圆壳体，其轴向两端头为半圆鼎形状，其轴向切面附有(11)基体法兰，基体法兰附有(a)密封圈沟槽；所述(Ig)固定瓣附有与扩散泵或分子泵(12)大阀法兰接口及密封沟槽，所述(Ig)固定瓣的上端附有(444)磁控或蒸发电极连接棒口，所述三瓣壳体镀膜室的内壁附有钢衣。所述的三瓣壳体附有交替镀件转架的真空镀膜装置，其特征在于所述(3-7)镀件单元转架嵌固于(3-5) 二次公转轮之上，之下嵌套(3-4) —次自转轮且附有芯轴(3-9)一次自转转杆；(3-7)镀件单元转架径向任意均布排列η个(3-6) 二次自转轮并附有芯轴(3-8)镀件接挂转杆；(3-6) 二次自转轮由(3-5) 二次公转轮驱动；所述(3)可扩展连续交替镀件转架通过(3-2) —次公转轮的径向任意均布排列η个(3-7)镀件单元转架、其相应配设η对(3-3) —次自转介轮、(3-4) 一次自转轮；所述(44)磁控或蒸发电极连接棒一端嵌固于(3-1)固定轮，再固定于(2hl或2h2)活动瓣上，另一端固定于(5)可扩展连续交替镀件转架上支撑板轮上与(Ig)固定瓣上(444)磁控或蒸发电极连接棒口对接，可多组对附设。本专利技术解决其技术问题是:真空镀膜室、镀件转架可连续交替工作，并镀件转架相对于镀件可自由扩展，节省能耗，提高效率和稳定可靠性。本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是:真空镀膜室分解由三瓣壳体组合构成，由二瓣壳体组合工作，配套双镀件转架。受“伯力努”流体理论启发，采用半圆柱鼎形二瓣壳体组合镀膜室；双镀件转架引用“行星轮系构形”，在轮系的径向处均布排列镀件单元转架。本专利技术的有益效果是:真空镀膜室分解由三瓣壳体组合构成，由二瓣壳体组合工作，配套双镀件转架实现可连续交替工作。受“伯力努”流体理论启发，采用半圆柱鼎形二瓣壳体组合镀膜室，实现密闭室体平滑连接消除死角，使真空镀膜室的密闭型腔无湍流渦浪涌，大程度限制气浪冲击，限制真空镀膜室的升压率，节省真空达标时间。双镀件转架引用“行星轮系构形”，在轮系的径向处均布排列镀件单元转架，实现自由镀件转架扩展，实现镀件转架任意调速。【专利附图】【附图说明】图1是本专利技术三瓣壳体附有交替镀件转架的真空镀膜装置装配图图2是本专利技术可扩展连续交替镀件转架装配图下面结合附图对专利技术进一步说明。【具体实施方式】如图1所示，三瓣壳体镀膜室为半圆柱鼎形壳体，由(Ig)固定瓣的(11)基体法兰两轴向边对称铰接(2hl、2h2)活动瓣的(11)基体法兰各轴向边，两个(2hl、2h2)活动瓣交替轮回与(Ig)固定瓣组合成镀膜室，所述三瓣壳体镀膜室的三个瓣(Ig)和(2hl、2h2)其轴向截面为半圆壳体，其轴向两端头为半圆鼎形状，其轴向切面附有(11)基体法兰，基体法兰附有(a)密封圈沟槽；所述(Ig)固定瓣附有与扩散泵或分子泵(12)大阀法兰接口及密封沟槽，所述(Ig)固定瓣的上端附有(444)磁控或蒸发电极连接棒口，所述三瓣壳体镀膜室的内壁附有钢衣；如图2所示，(3)可扩展连续交替镀件转架附设于三瓣壳体镀膜室的两个(2hl、2h2)活动瓣内，交替轮回进入镀膜室工作，所述(3)可扩展连续交替镀件转架引用“行星轮系构形”，由(30q)调速电机驱动轮、(3-2) —次公转轮、(3-3) —次自转介轮、(3_1)固定轮、(3-4) 一次自转轮、(3-5) 二次公转轮、(3-6) 二次自转轮、(3-7)镀件单元转架、(3_8)镀件接挂转杆、(3-9) —次自转转杆、(5)可扩展连续交替镀件转架上支撑板轮、(44)磁控或蒸发电极连接棒组成；所述(3-7)镀件单元转架嵌固于(3-5) 二次公转轮之上，之下嵌套(3-4) —次自转轮且附有芯轴(3-9) —次自转转杆；(3-7)镀件单元转架径向任意均布排列η个(3-6) 二次自转轮并附有芯轴(3-8)镀件接挂转杆；(3-6) 二次自转轮由(3-5) 二次公转轮驱动；所述(3)可扩展连续交替镀件转架通过(3-2) —次公转轮的径向任意均布排列η个(3-7)镀件单元转架、其相应配设η对(3-3) —次自转介轮、(3-4) 一次自转轮；所述(44)磁控或蒸发电极连接棒一端嵌固于(3-1)固定轮，再固定于(2hl或2h2)活动瓣上，另一端固定于(5)可扩展连续交替镀件转架上支撑板轮上与(Ig)固定瓣上(444)磁控或蒸发电极连接棒口对接，可多组对附设。【权利要求】1.一种三瓣壳体附有交替镀件转架的真空镀膜装置，其包括三瓣壳体镀膜室、可扩展连续交替镀件转架，其特征在于: 所述三瓣壳体镀膜室由(Ig)固定瓣和(2hl、2h2)两活动瓣组成，三瓣壳体组构成真空镀膜室；所述(3)可扩展连续交替镀件转架由(30q)调速电机驱动轮、(3-2) —次公转轮、(3-3) 一次自转介轮、(3-1)固定轮、(3-4) —次自转轮、(3-5) 二次公转轮、(3_6) 二次自转轮、(3-7)镀件单元转架、(3-8)镀件接挂转杆、(3-9) —次自转转杆、(5)可扩展连续交替镀件转架上支撑板轮、(44)磁控或蒸发电极连接棒组成。2.根据权利要求1所述的三瓣壳体附有交替镀件转架的真空镀膜装置，其特征在于所述三瓣壳体镀膜室由(Ig)固定瓣的(11)基体法兰两轴向边对称铰接(2hl、2h2)活动瓣的(11)基体法兰各轴向边，两个(2hl、2h2)活动瓣交替轮回与(Ig)固定瓣组合成镀膜室，所述三瓣壳体镀膜室的三个瓣(Ig)和(2h本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种三瓣壳体附有交替镀件转架的真空镀膜装置，其包括三瓣壳体镀膜室、可扩展连续交替镀件转架，其特征在于：所述三瓣壳体镀膜室由(1g)固定瓣和(2h1、2h2)两活动瓣组成，三瓣壳体组构成真空镀膜室；所述(3)可扩展连续交替镀件转架由(30q)调速电机驱动轮、(3?2)一次公转轮、(3?3)一次自转介轮、(3?1)固定轮、(3?4)一次自转轮、(3?5)二次公转轮、(3?6)二次自转轮、(3?7)镀件单元转架、(3?8)镀件接挂转杆、(3?9)一次自转转杆、(5)可扩展连续交替镀件转架上支撑板轮、(44)磁控或蒸发电极连接棒组成。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈娘洲，
申请(专利权)人：深圳市特艺实业有限公司，
类型：发明
国别省市：