【技术实现步骤摘要】
壁圈内陷的陶器加工方法及其陶器
本专利技术涉及一种陶器(瓷器)的加工方法及其产品，特别涉及一种壁圈内陷的陶器加工方法。
技术介绍
陶器的烧制，中国已经有上千年的历史，我们生活中经常用的瓷碗、茶杯、罐等等，都是陶瓷烧制的。但是自古以来，陶瓷的底部，也就是没有上釉的一圈(称之为壁圈)，也就是在烧制的时候与被支撑物接触的部位。底部的壁圈部位都比较粗糙，而且都是向下凸起的，这样在放置在桌面或其他表面，来回滑动几下，就会磨损桌面等其他表面，这样造成其他与之接触的表面留有划痕。如图1所示，陶器本体I的底部壁足11下方是壁圈12，壁圈12外凸与桌面等表面接触。
技术实现思路
针对现有技术的不足，本专利技术提供一种壁圈内陷的陶器加工方法。为了实现上述目的，本专利技术所采取的技术方案是:壁圈内陷的陶器加工方法，第一步，陶土制作坯体工艺，且在坯体底部设置壁圈内陷结构，壁足部位比壁圈和壁心部位外凸；第二步，制作耐火材料的支架，且支架上的支撑部与壁圈相对应；`第三步，将支架支撑在待烧的配体上，进行烧制，支架的支撑部恰好与壁圈对齐支撑坯体烧制；第四步，烧制好后除壁圈外，陶器外表面均上釉。壁圈为圆形，与之对应的支架的支撑部也为圆形。壁圈内陷的陶器加工方法加工的陶器，陶器底部的壁圈内陷，且壁足部位比壁圈和壁心部位外凸。本专利技术的有益效果:壁圈部分内陷，壁足部位比壁圈部分外凸，壁足外表面光滑，本专利技术的工艺烧制的瓷器在桌面等其他表面摩擦时，不会对桌面或其它表面形成磨痕。【附图说明】图1是现有技术的陶器的剖视图；图2是本专利技术的陶器的剖视图。【具体实施方式】如图2所示，壁圈内...
【技术保护点】
壁圈内陷的陶器加工方法，其特征在于，第一步，陶土制作坯体工艺，且在坯体底部设置壁圈内陷结构，壁足部位比壁圈和壁心部位外凸；第二步，制作耐火材料的支架，且支架上的支撑部与壁圈相对应；第三步，将支架支撑在待烧的配体上，进行烧制，支架的支撑部恰好与壁圈对齐支撑坯体烧制；第四步，烧制好后除壁圈外，陶器外表面均上釉。
【技术特征摘要】
1.壁圈内陷的陶器加工方法，其特征在于， 第一步，陶土制作坯体工艺，且在坯体底部设置壁圈内陷结构，壁足部位比壁圈和壁心部位外凸； 第二步，制作耐火材料的支架，且支架上的支撑部与壁圈相对应； 第三步，将支架支撑在待烧的配体上，进行烧制，支架的支撑部恰好与壁圈对齐支撑坯体烧制...
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