清洁光掩模板的装置和方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及半导体制造装备技术领域，尤其是一种清洁光掩模板的装置以及清洁方法。该装置包括具有排气口的腔体；位于所述腔体内的用于固定待清洁光掩模板的平台；能够平行于光掩模板表面移动的喷管，所述喷管具有沿着其长度延伸方向布置的一组喷嘴，所述喷管与含离子气溶剂的产生装置连接；所述平台连接静电导出通道实现电位接地。本发明专利技术在有效去除光掩模板表面的微尘和沾污的同时，高效地去除了光掩模板表面的静电，避免了静电释放对光掩模板的损伤，提高了去除光掩模板表面微尘和沾污的效率，可以有效地延长光掩模在生产中的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体制造装备
，尤其是一种清洁光掩模板的装置以及清洁方法。
技术介绍
光掩模板是制作光刻图形的主要工具。光刻工艺将光掩模板上的复杂图形转移到光刻胶中。在过去的几十年里集成电路的集成规模沿着摩尔定律的速度快速扩大，芯片变得越来越复杂，对光掩模板的要求也越来越高。特征尺寸的不断缩小，使得微尘和沾污对光掩模板的影响越来越大。尤其是ArF光掩模板对微尘和沾污更加敏感。环境引入的微尘和沾污容易导致雾状缺陷在ArF光掩模板上生长。为了保持光掩模板的清洁，通常要对光掩模板定期做缺陷检查，并及时清除表面吸附的微尘和沾污。目前去除微尘的方法是采用吹气式空气/氮气枪或气帘将微尘吹离光掩模板表面。这种方法不能有效去除吸附比较牢固的微尘和沾污。去除沾污需要将光掩模板送返到光掩模板工厂进行清洗处理，对生产影响很大。气溶剂(Aerosol)是很好的清洗剂。已经被用于物体表面清洗中。中国专利CN1213847A报道了气溶剂清洗方法。与液体清洗不同，气溶剂不但能够更有效地去除物体表面微尘和沾污，而且气溶剂气化后不会在物体表面留下痕迹。在光掩模板的清洁过程中不可避免地会在光掩模板上本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种清洁光掩模板的装置，其特征在于包括：具有排气口的腔体；位于所述腔体内的用于固定待清洁光掩模板的平台；能够平行于光掩模板表面移动的喷管，所述喷管具有沿着其长度延伸方向布置的一组喷嘴，所述喷管与含离子气溶剂的产生装置连接；所述平台连接静电导出通道实现电位接地。

【技术特征摘要】
1.一种清洁光掩模板的装置，其特征在于包括:具有排气口的腔体；位于所述腔体内的用于固定待清洁光掩模板的平台；能够平行于光掩模板表面移动的喷管，所述喷管具有沿着其长度延伸方向布置的一组喷嘴，所述喷管与含离子气溶剂的产生装置连接；所述平台连接静电导出通道实现电位接地。2.如权利要求1所述的清洁光掩模板的装置，其特征在于:所述腔体形成一个相对隔绝的空间。3.如权利要求1所述的清洁光掩模板的装置，其特征在于:所述喷管平行于光掩模板表面移动的行程大于待清洁光掩模板的边长。4.如权利要求1所述的清洁光掩模板的装置，其特征在于:所述喷嘴的位置位于喷管底部，且靠近喷管喷射时移动方向的前方。5.如权利要求1所述的清洁光掩模板的装置，其特征在于:所述喷嘴能够以喷管的延伸方向为轴心线转动。6.如权利要求5所述的清洁光掩模板的装置，其特征在于:所述喷管能...

【专利技术属性】
技术研发人员：毛智彪，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：