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本发明涉及半导体制造装备技术领域，尤其是一种清洁光掩模板的装置以及清洁方法。该装置包括具有排气口的腔体；位于所述腔体内的用于固定待清洁光掩模板的平台；能够平行于光掩模板表面移动的喷管，所述喷管具有沿着其长度延伸方向布置的一组喷嘴，所述喷管与...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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