一种单面研磨抛光机的多轴驱动装置制造方法及图纸

技术编号:9745067 阅读:103 留言:0更新日期:2014-03-07 20:12
本实用新型专利技术公开了一种单面研磨抛光机的多轴驱动装置,包括机架,在机架上设有多个独立的水平布置的上研磨抛光盘单元,各上研磨抛光盘单元分别与旋转驱动系统和升降驱动系统连接。本实用新型专利技术由于采用多个独立的上研磨抛光盘单元,各上研磨抛光盘单元既可做旋转运动,又可做升降运动,可与主研磨盘旋转电机共同运动,实现对蓝宝石等高硬度材料的高精度、高效率的研磨抛光作业。装置中的关节组合件能自动找正被研磨工件与主研磨抛光盘平面。本实用新型专利技术能实现加工产品尺寸的范围可调、尺寸精度可控目的;气缸能根据加工工艺要求,通过精密调压系统实现分别对工件精确加压,从而达到提高生产精度和效率之目的。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
一种单面研磨抛光机的多轴驱动装置
本技术属于研磨抛光加工设备领域,具体涉及一种单面研磨抛光机的多轴驱动装置。
技术介绍
目前,大多数单面研磨抛光机的上抛光盘采用被动方式,即主研磨抛光盘由电机驱动做旋转运动,主研磨抛光盘上设置有工作环,工件安装在工件保持器上置于工作环内,上抛光盘以一定的压力压在工件上。主研磨盘旋转时,工件保持器不随主研磨盘公转,但工作环在摩擦作用下带动上抛光盘和工件保持器产生自转。主研磨盘的旋转和工件保持器的自转两种运动方式合成,对工件进行抛光作业。这种抛光作业精度较高但作业时间较长。特别是对蓝宝石等硬度更高的工件,作业效率更低。由于受结构的限制,主抛光盘的旋转速度难以提高,同时工件操持器的自转速度受制于主抛光盘的转速,不可能得到提高,且是随机的不可控的,限制了单面研磨加工运动轨迹的变化,难以进一步提高加工精度和作业效率;难以通过运动参数的调节来满足不同工件的加工工艺。
技术实现思路
本技术的目的是针对现有技术存在的缺陷,提出了一种可以提高生产精度和效率,适用性好的单面研磨抛光机的多轴驱动装置。实现本技术目的采用的技术方案如下:本技术提供的单面研磨抛光机的多轴驱动装置本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种单面研磨抛光机的多轴驱动装置,包括机架,其特征是在机架上设有多个独立的水平布置的上研磨抛光盘单元,各上研磨抛光盘单元分别与旋转驱动系统和升降驱动系统连接。

【技术特征摘要】
1.一种单面研磨抛光机的多轴驱动装置,包括机架,其特征是在机架上设有多个独立的水平布置的上研磨抛光盘单元,各上研磨抛光盘单元分别与旋转驱动系统和升降驱动系统连接。2.根据权利要求1所述的单面研磨抛光机的多轴驱动装置,其特征是所述上研磨抛光盘单元包括通过套管和轴承固定在机架上的转轴,转轴的下端通过关节组件连接下设工作盘的上研磨抛光盘;所述旋转驱动系统包括固定在所述套管上...

【专利技术属性】
技术研发人员:许亮付向东彭关清
申请(专利权)人:宇环数控机床股份有限公司
类型:实用新型
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1