用于与流体高压隔离结合使用的电极在固体介质内的封装制造技术

一种用于带电粒子束系统的电感耦合等离子体源包括提供改进的电隔离与减少后的电容RF耦合的导电屏蔽以及使等离子体绝缘并且对其进行冷却的介电流体。可以将导电屏蔽封闭在固体介电介质内。可以通过泵使介电流体循环或不可以通过泵使其循环。热管可以用于对介电流体进行冷却。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于与流体高压隔离结合使用的电极在固体介质内的封装专利技术
本专利技术涉及电感耦合等离子体离子源并且更确切地涉及提供高压隔离的同时对等离子体源进行冷却的手段。专利技术背景当与聚焦柱一起用于形成带电粒子(S卩，离子或电子)聚焦束时，电感耦合等离子体(ICP)源较其他类型的等离子体源具有优点。电感耦合等离子体源能够在狭窄的能量范围内提供带电粒子，其允许这些离子聚焦到一个小斑点上。ICP源(如在被转让给本专利技术的受让人的美国专利号7，241，361中所描述的ICP源)包括围绕陶瓷等离子体室缠绕的射频(RF)天线。RF天线提供能量以使气体在该室内保持在电离态下。用于离子束加工的离子的能量典型地在5keV与50keV之间，并且最典型地为约30keV。电子能量对与扫描电子显微镜系统而言在约500eV到5keV之间变化，对于透射电子显微镜系统而言达到几十万电子伏特。带电粒子系统中的样品典型地保持在接地电势下，其中，源保持在大的电势下，或者正的或者负的，取决于用于形成束的粒子。因此，离子束源典型地保持在5kV与50kV之间，并且电子源典型地保持在500V与5kV之间。如此处使用的“高压”指本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种带电粒子束系统，包括：等离子体源，具有：等离子体室，该等离子体室具有由介电材料组成的壁，该壁具有内部表面和外部表面；盘绕该等离子体室至少一圈的导线；由导电材料组成并且基本上封装在介电介质内的屏蔽，该导电屏蔽放置在该等离子体室与盘绕该等离子体室的导线之间；以及用于使该等离子体电偏置到高电压的源电极；以及一个或多个用于使来自该等离子体源的带电粒子聚焦到样品上的聚焦透镜。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.06.21 US 13/165556;2012.04.02 US 13/4375991.一种带电粒子束系统，包括: 等离子体源，具有: 等离子体室，该等离子体室具有由介电材料组成的壁，该壁具有内部表面和外部表面； 盘绕该等离子体室至少一圈的导线； 由导电材料组成并且基本上封装在介电介质内的屏蔽，该导电屏蔽放置在该等离子体室与盘绕该等离子体室的导线之间；以及 用于使该等离子体电偏置到高电压的源电极；以及 一个或多个用于使来自该等离子体源的带电粒子聚焦到样品上的聚焦透镜。2.如权利要求1所述的带电粒子束系统，其中，该屏蔽放置在该等离子体室的外部表面上。3.如权利要求2所述的带电粒子束系统，其中，在该屏蔽的导电材料与该等尚子体室的外部表面之间基本上没有空洞。4.如权利要求2所述 的带电粒子束系统，其中，该屏蔽包括用于将感应场传递至等离子体的多个间隙，并且其中，介电密封剂与该导电材料内的这些间隙之间的等离子体室壁的外部表面接触。5.如权利要求1所述的带电粒子束系统，其中，该介电密封剂包括环氧树脂、搪瓷、玻璃熔块、树脂或聚合物。6.如权利要求1所述的带电粒子束系统，进一步包括与该介电介质的至少一部分接触的流体。7.如权利要求6所述的带电粒子束系统，其中，该流体放置在该介电密封剂与盘绕着该等离子体室的导线之间。8.如权利要求6所述的带电粒子束系统，其中，该流体放置在该等离子体室的外部表面与该介电密封剂之间。9.如权利要求6中所述的带电粒子束系统，其中，不主动地对该流体进行泵送。10.如权利要求1所述的带电粒子束系统，其中，该屏蔽的非封装部分被暴露成用于形成电接触。11.如权利要求1所述的带电粒子束系统，其中...

【专利技术属性】
技术研发人员：S克罗格，A格劳佩拉，NW帕克，MW乌特劳特，AB威尔斯，JB麦金，
申请(专利权)人：FEI公司，
类型：
国别省市：