清洁装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提出一种清洁装置，包括：防尘罩、圆形导轨、刮刀、滚动轴、旋转盘和操作杆；其中，圆形导轨设置在防尘罩的内壁上；旋转盘通过滚动轴设置在圆形导轨上；刮刀设置在旋转盘上；操作杆一端与旋转盘连接，另一端延伸至防尘罩外；将防尘罩罩住电极，摇动操作杆带动旋转盘，旋转盘能够通过滚动轴在圆形导轨上旋转，带动刮刀沿着电极的凹槽进行匀力清理，由于刮刀能够匀速转动，从而能够将累积在电极边缘凹槽内的污染物完全清除，同时由于防尘罩完全照着电极，因此刮刀刮下的污染物不会遗落在反应腔室其他区域，能够保证清理后反应腔室的洁净度。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
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本技术涉及半导体制造领域，尤其涉及一种清洁装置。
技术介绍
在半导体生产过程中，晶圆通常放置于反应腔室中的电极(或电子吸盘)上，在进行沉积薄膜或者刻蚀薄膜时，不可避免的会有薄膜沉积或散落在电极(或电子吸盘)上，导致电极被污染。为了保证反应腔室的洁净度，需要定期对电极进行清理，去除累积的污染物。请参考图1，所述电极10为圆盘状，其边缘设有凹槽11，便于将所述电极10安装在反应腔室中；当污染物累积在所述电极10表面时，也会有污染物累积在所述电极10边缘的凹槽11中。因此，在对所述电极10进行定期清理时，就需要对所述电极10边缘的凹槽11进行清理。现有技术中采用人工手动使用陶瓷笔20对所述凹槽11进行清理，具体的，用所述陶瓷笔20轻刮下所述电极10边缘的凹槽11，使得上面粘附的污染物脱落，同时在使用所述陶瓷笔20轻刮所述凹槽11时还尽可能地使真空吸管30对准脱落的污染物，在清理时吸除污染物，以防污染整个反应腔室；接着，再用沾有无尘布对所述电极10进行擦净。然而，由于人工使用陶瓷笔20对所述电极10进行清理时需要小心不能刮伤所述电极10，因此十分耗时；本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种清洁装置，其特征在于，包括：?防尘罩、圆形导轨、刮刀、滚动轴、旋转盘和操作杆；所述圆形导轨设置在所述防尘罩的内壁上；所述旋转盘通过所述滚动轴设置在所述圆形导轨上；所述刮刀设置在所述旋转盘上；所述操作杆一端与所述旋转盘连接，另一端延伸至所述防尘罩外。

【技术特征摘要】
1.一种清洁装置，其特征在于，包括: 防尘罩、圆形导轨、刮刀、滚动轴、旋转盘和操作杆；所述圆形导轨设置在所述防尘罩的内壁上；所述旋转盘通过所述滚动轴设置在所述圆形导轨上；所述刮刀设置在所述旋转盘上；所述操作杆一端与所述旋转盘连接，另一端延伸至所述防尘罩外。2.如权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述刮刀包括刀柄和刀头，所述刀头设置在刀柄的一端，刀柄的另一端与所述旋转盘连接。3.如权利要求2所述的清洁装置，其特征在于，所述刮刀为两个，分别设置在所述旋转盘直径的两端。4.如权利要求3所述的清洁装...

【专利技术属性】
技术研发人员：宣荣峰，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造北京有限公司，
类型：实用新型
国别省市：