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一种负位线电压产生电路制造技术

技术编号:9669022 阅读:155 留言:0更新日期:2014-02-14 08:21
本发明专利技术属于集成电路存储器设计领域,具体为一种负位线电压产生电路。其结构包括一个耦合电容,一个负责将耦合后的电平拉回“0”的下拉管,一个负责对下拉管栅极充电的预充管和一个负责放电的放电管,及两对反相器。其中一个反相器为低偏斜反相器,用于产生瞬间的高电平到低电平的跳变;另一个则为管脚地被下拉管控制的输出反相器,用于数据输出。本发明专利技术结构简单,能够有效的产生负位线电压。

【技术实现步骤摘要】
一种负位线电压产生电路
本专利技术属于集成电路设计领域,具体涉及一种寄存器文件(Register File)或静态随机存储器(Static Random Access Memory, SRAM)的负位线电压产生电路。
技术介绍
SRAM通常占有芯片的大量面积,尤其是随着工艺技术的进步,其所占的比例越来越大。据美国半导体技术蓝图(ITRS)预测,到2014年,SRAM在片上系统(SoC)所占的比例将达到90%以上。因此,芯片的主要性能,包括面积、速度和功耗,都由SRAM主导。但是,随着工艺技术的进步,工艺偏差和器件参数的不匹配越来严重,SRAM因其采用最小尺寸的晶体管,所以对这些工艺变化非常敏感,使得其很容易产生读、写功能性错误。因此,提高SRAM的读、写操作的稳定性越来越受到设计者们的关注。2006 年,H.Pilo 在会议“Symposium on VLSI Technology” 中发表“An SRAMdesign in 65-nm and 45-nm technology nodes featuring read and write—assistcircuits to 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种负位线电压产生电路,其特征在于包括:一个输出反相器,它的输入作为全电路的输入,输出作为全电路的输出,它的下拉网络的地管脚与一个下拉NMOS管的漏极和耦合电容的一端相连;下拉NMOS管的源极接地,而栅极与一个预充PMOS管和一个放电NMOS管的漏极相连;其中,预充PMOS管的源极与电源相连,栅极与输入相接;放电NMOS管的栅极与输入相连,源极与一个低偏斜反相器的输出和耦合电容的另一端相接;低偏斜反相器的输入与全电路的输入相连。

【技术特征摘要】
1.一种负位线电压产生电路,其特征在于包括: 一个输出反相器,它的输入作为全电路的输入,输出作为全电路的输出,它的下拉网络的地管脚与一个下拉NMOS管的漏极和耦合电容的一端相连;下拉NMOS管的源极接地,而栅极与一个预充PMOS管和一个放电NMOS管的漏极相连;其中,预充PMOS管的源极与电源相连...

【专利技术属性】
技术研发人员:温亮李毅曾晓洋
申请(专利权)人:复旦大学
类型:发明
国别省市:

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