【技术实现步骤摘要】
一种负位线电压产生电路
本专利技术属于集成电路设计领域,具体涉及一种寄存器文件(Register File)或静态随机存储器(Static Random Access Memory, SRAM)的负位线电压产生电路。
技术介绍
SRAM通常占有芯片的大量面积,尤其是随着工艺技术的进步,其所占的比例越来越大。据美国半导体技术蓝图(ITRS)预测,到2014年,SRAM在片上系统(SoC)所占的比例将达到90%以上。因此,芯片的主要性能,包括面积、速度和功耗,都由SRAM主导。但是,随着工艺技术的进步,工艺偏差和器件参数的不匹配越来严重,SRAM因其采用最小尺寸的晶体管,所以对这些工艺变化非常敏感,使得其很容易产生读、写功能性错误。因此,提高SRAM的读、写操作的稳定性越来越受到设计者们的关注。2006 年,H.Pilo 在会议“Symposium on VLSI Technology” 中发表“An SRAMdesign in 65-nm and 45-nm technology nodes featuring read and write—assistci ...
【技术保护点】
一种负位线电压产生电路,其特征在于包括:一个输出反相器,它的输入作为全电路的输入,输出作为全电路的输出,它的下拉网络的地管脚与一个下拉NMOS管的漏极和耦合电容的一端相连;下拉NMOS管的源极接地,而栅极与一个预充PMOS管和一个放电NMOS管的漏极相连;其中,预充PMOS管的源极与电源相连,栅极与输入相接;放电NMOS管的栅极与输入相连,源极与一个低偏斜反相器的输出和耦合电容的另一端相接;低偏斜反相器的输入与全电路的输入相连。
【技术特征摘要】
1.一种负位线电压产生电路,其特征在于包括: 一个输出反相器,它的输入作为全电路的输入,输出作为全电路的输出,它的下拉网络的地管脚与一个下拉NMOS管的漏极和耦合电容的一端相连;下拉NMOS管的源极接地,而栅极与一个预充PMOS管和一个放电NMOS管的漏极相连;其中,预充PMOS管的源极与电源相连...
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