光学位移侦测装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术提出一种光学位移侦测装置及光学位移侦测方法。光学位移侦测装置，包含：光源，投射探照光至待测表面；影像撷取单元，其根据从待测表面反射的光线，以产生影像讯号；以及处理单元，根据影像讯号，产生曝光状态值与影像特征值，并根据初始曝光范围、曝光状态值与影像特征值，以决定曝光范围。

【技术实现步骤摘要】
光学位移侦测装置及方法
本专利技术涉及一种光学位移侦测装置及光学位移侦测方法；特别是指一种适应性选择曝光范围的光学位移侦测装置及光学位移侦测方法。
技术介绍
光学位移侦测装置有各种应用方式，其中最常见的应用方式就是光学鼠标。在光学鼠标中，光源发出的光线被导引至桌面或其它表面，反射后为鼠标内部的感测芯片所接收，感测芯片将光学讯号转换为电子讯号输出，再由后级处理器针对电子讯号加以运算，以决定鼠标的位移。详言之，就一般光学鼠标而言，当待测表面具有局部偏暗的现象时，也就是有暗角产生时，即使对曝光状态的侦测结果落于自动曝光(autoexposure,AE)范围内，此时若光学鼠标所追踪待测表面上的图案进入暗角，感测芯片对待测表面的图案纹理差异，敏感度便会降低，而不易萃取出正确的特征图案。由于特征不够显著，后续的位移计算也就容易产生错误。有鉴于此，本专利技术即针对上述现有技术的不足，提出一种光学位移侦测装置及光学位移侦测方法，通过适应性选择曝光范围，使得光学位移侦测装置追踪图案时可以避免计算错误，提高位移侦测的精确度。
技术实现思路
本专利技术目的之一在于克服现有技术的不足与缺陷，提出一种光学位移侦测本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学位移侦测装置，其特征在于，包含：一光源，投射一探照光至一待测表面；一影像撷取单元，其根据从该待测表面反射的光线，以产生一影像讯号；以及一处理单元，根据该影像讯号，产生一曝光状态值与一影像特征值，并根据一初始曝光范围、该曝光状态值与该影像特征值，以决定一曝光范围。

【技术特征摘要】
1.一种光学位移侦测装置，其特征在于，包含：一光源，投射一探照光至一待测表面；一影像撷取单元，其根据从该待测表面反射的光线，以产生一影像讯号；以及一处理单元，根据该影像讯号，产生一曝光状态值与一影像特征值，并根据一初始曝光范围、该曝光状态值与该影像特征值，以决定一曝光范围，其中，该处理单元根据以下情况，决定该曝光范围：(1)当该初始曝光范围为高曝光范围，且该曝光状态值低于一状态默认值或该影像特征值高于一特征默认值时，该处理单元决定该曝光范围为一低曝光范围；(2)当该初始曝光范围为高曝光范围，且该曝光状态值不低于该状态默认值且该影像特征值不高于该特征默认值时，该处理单元决定该曝光范围为该高曝光范围；(3)当该初始曝光范围为低曝光范围，且该曝光状态值高于该状态默认值且该影像特征值低于该特征默认值，该处理单元决定该曝光范围为该高曝光范围；(4)当该初始曝光范围为低曝光范围，且该曝光状态值不高于该状态默认值或该影像特征值不低于该特征默认值，该处理单元决定该曝光范围为该低曝光范围。2.一种光学位移侦测装置，其特征在于，包含：一光源，投射一探照光至一待测表面；一影像撷取单元，其根据从该待测表面反射的光线，以产生一影像讯号；以及一处理单元，根据该影像讯号，产生一曝光状态值与一影像特征值，并根据一初始曝光范围、该曝光状态值与该影像特征值，以决定一曝光范围，其中，该处理单元根据以下情况，决定该曝光范围：(1)当该初始曝光范围为高曝光范围，且该曝光状态值低于一第二状态默认值或该影像特征值高于一特征默认值时，该处理单元决定该曝光范围为一低曝光范围；(2)当该初始曝光范围为高曝光范围，且该曝光状态值不低于该第二状态默认值且该影像特征值不高于该特征默认值时，该处理单元根据以下情况(3)或(4)的情况，决定该曝光范围；(3)当前述情况(2)发生，或该初始曝光范围为低曝光范围，且该曝光状态值高于一第一状态默认值且该影像特征值低于该特征默认值时，该处理单元决定该曝光范围为该高曝光范围；(4)当前述情况(2)发生，或该初始曝光范围为低曝光范围，且该曝光状态值不高于该第一状态默认值或该影像特征值不低于该特征默认值时，该处理单元决定该曝光范围为该低曝光范围。3.一种光学位移侦测装置，其特征在于，包含：一光源，投射一探照光至一待测表面；一影像撷取单元，其根据从该待测表面反射的光线，以产生一影像讯号；以及一处理单元，根据该影像讯号，产生一曝光状态值与一影像特征值，并根据一初始曝光范围、该曝光状态值与该影像特征值，以决定一曝光范围，其中，该处理单元根据以下情况，决定该曝光范围：(1)当该初始曝光范围为高曝光范围，且该曝光状态值低于一状态默认值或该影像特征值高于一第二特征默认值时，该处理单元决定该曝光范围为一低曝光范围；(2)当该初始曝光范围为高曝光范围，且该曝光状态值不低于该状态默认值且该影像特征值不高于该第二特征默认值时，该处理单元根据以下(3)或(4)的情况，决定该曝光范围；(3)当前述情况(2)发生，或该初始曝光范围为低曝光范围，且该曝光状态值高于该状态默认值且该影像特征值低于一第一特征默认值时，该处理单元决定该曝光范围为该高曝光范围；(4)当前述情况(2)发生，或该初始曝光范围为低曝光范围，且该曝光状态值不高于该状态默认值或该影像特征值不低于该第一特征默认值时，该处理单元决定该曝光范围为该低曝光范围。4.一种光学位移侦测装置，其特征在于，包含：一光源，投射一探照光至一待测表面；一影像撷取单元，其根据从该待测表面反射的光线，以产生一影像讯号；以及一处理单元，根据该影像讯号，产生一曝光状态值与一影像特征值，并根据一初始曝光范围、该曝光状态值与该影像特征值，以决定一曝光范围，其中，该处理单元根据以下情况，决定该曝光范围：(1)当该初始曝光范围为高曝光范围，且该曝光状态值低于一第二状态默认值或该影像特征值高于一第二特征默认值时，该处理单元决定该曝光范围为一低曝光范围；(2)当该初始曝光范围为高曝光范围，且该曝光状态值不低于该第二状态默认值且该影像特征值不高于该第二特征默认值时，该处理单元根据以下(3)或(4)的情况，决定该曝光范围；(3)当前述情况(2)发生，或该初始曝光范围为低曝光范围，且该曝光状态值高于一第一状态默认值且该影像特征值低于一第一特征默认值时，该处理单元决定该曝光范围为该高曝光范围；(4)当前述情况(2)发生，或该初始曝光范围为低曝光范围，且该曝光状态值不高于该第一状态默认值或该影像特征值不低于该第一特征默认值时，该处理单元决定该曝光范围为该低曝光范围。5.如权...

【专利技术属性】
技术研发人员：王彦章，陈俊玮，
申请(专利权)人：原相科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：