【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于电子材料
,特别涉及。
技术介绍
随着电子设备尺寸的减小,多层陶瓷电容器日益向小型化、低成本、大容量的方向发展,相应地要求材料具有较高的介电常数。通常情况下,电子材料高的介电常数主要来源于铁电畴、界面极化以及热激活载流子。当材料中存在可变价金属离子,在这些金属离子在热场作用下会发生电离,周围出现弱束缚的电子。这些电子在电场作用下迁移或者跳跃,会引起介电常数的急剧增加,从而可以获得高介电常数材料。这类材料在氧化物中比较常见。CuF2是一种宽禁带化合物,属于电子绝缘体,常常作为锂离子电子的正极材料[史月丽,吴楠,沈明芳,董佳群,庄全超,江利,CuF2/Mo03/C复合正极的电化学阻抗谱研究,电化学,19(2): 155-163,2013],其介电常数非常低。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供。本专利技术的思路:通过在CuF2中引入3价铜,获得一种+2和+3价的混合价态的氟化物;在室温附近,+2价铜可以发生部分电离,产生弱束缚的电子,这个电子在+2铜和+3价铜之间跳跃,从而引起介电弛豫,获得高的介电常数。本专利技术涉及的具有高介电常 ...
【技术保护点】
一种具有高介电常数的混合价氟化铜,其特征在于所述具有高介电常数的混合价氟化铜的化学通式为:Cu2+(1?x)Cu3+xF(2+x),其中0.01≤x≤0.25或者0.75≤x≤0.99。
【技术特征摘要】
1.一种具有高介电常数的混合价氟化铜,其特征在于所述具有高介电常数的混合价氟化铜的化学通式为:Cu2+(1_x)Cu3+xF(2+x),其中0.01<X<0.25或者0.75<χ<0.99。2.根据权利要求1所述的具有高介电常数的混合价氟化铜的制备方法,其特征在于具体步骤为: (1)以硼氟酸HBF4、氧化铜CuO和氧化铜Cu2O3为原料,按通式Cu2+(1_x)Cu3+xF(2+x),且0.01 <X <0.25或者0.75 < X < 0.99的化学计量比进行配料;(2)将步骤(1)配制好的原料放...
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