【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供了一种防滑的培养皿结构，其使得在取放时不易发生滑落，进而确保本体内的物质不受污染，保证试验的正常进行。其包括本体、盖子，所述盖子盖装于所述本体的上端口，其特征在于：所述本体的中部外凸有裙边结构，所述裙边结构的外表面为凹凸齿形结构，所述盖子的下端环面均布有六个凸起结构，所述凸起结构的下端面低于所述盖子的下端环面，所述盖子的直径大于所述本体的上端口直径，盖装状态下的所述盖子的凸起结构支承于所述裙边结构的上端面，盖子的高度大于所述裙边结构的上端面到所述本体的上端口的高度。【专利说明】一种防滑的培养皿结构
本专利技术涉及细胞培养结构的
，具体为一种防滑的培养皿结构。
技术介绍
现有的培养皿，其包括盖子、本体，盖子该在本体上，由于现有的盖子、本体都是表面光滑结构，其使得取放时易产生滑落等情况，污染本体内的物质，进而不能保证试验的正常进行。
技术实现思路
针对上述问题，本专利技术提供了一种防滑的培养皿结构，其使得在取放时不易发生滑落，进而确保本体内的物质不受污染，保证试验的正常进行。一种防滑的培养皿结构，其技术方案是这样的:其包括本体、盖子，所述盖子盖装于所述本体的上端口，其特征在于:所述本体的中部外凸有裙边结构,所述裙边结构的外表面为凹凸齿形结构，所述盖子的下端环面均布有六个凸起结构，所述凸起结构的下端面低于所述盖子的下端环面，所述盖子的直径大于所述本体的上端口直径，盖装状态下的所述盖子的凸起结构支承于所述裙边结构的上端面，盖子的高度大于所述裙边结构的上端面到所述本体的上端口的高度。采用本专利技术的上述结构后，由于本体的中...
【技术保护点】
一种防滑的培养皿结构，其包括本体、盖子，所述盖子盖装于所述本体的上端口，其特征在于：所述本体的中部外凸有裙边结构，所述裙边结构的外表面为凹凸齿形结构，所述盖子的下端环面均布有六个凸起结构，所述凸起结构的下端面低于所述盖子的下端环面，所述盖子的直径大于所述本体的上端口直径，盖装状态下的所述盖子的凸起结构支承于所述裙边结构的上端面，盖子的高度大于所述裙边结构的上端面到所述本体的上端口的高度。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：许东良，
申请(专利权)人：凡嘉科技无锡有限公司，
类型：发明
国别省市：
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