【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开一种单层膜实现多点触控的电容屏工艺，其包括如下步骤：A.采用磁控溅射的方法在单层PET膜的两面均镀上氧化铟锡材料，然后将该PET膜裁切成丝印机台需要的尺寸。B.在单层PET膜的两面丝印耐酸保护层，进行烘烤之后采用湿法蚀刻工艺对PET膜进行蚀刻，得到氧化铟锡图形。C.在PET膜的两面丝印导电银浆，得到非可视区的走线线路。本专利技术在单层PET膜上进行双面蚀刻、印刷，实现电容屏多点触控，降低了电容屏的总厚度，同时减少了工艺制程，成本较双层膜结构可以降低50%。【专利说明】一种单层膜实现多点触控的电容屏工艺
本专利技术涉及电容屏
，尤其涉及一种单层膜实现多点触控的电容屏工艺。
技术介绍
目前行业内传统膜结构的多点触控方案是采用盖板玻璃+双层膜结构，分别在两层PET膜上进行蚀刻、银浆印刷，再将两层PET膜用光学胶粘贴在一起，组成我们所需的双层膜结构的功能片。但是，由于需要在两层PET膜上分别进行蚀刻和印刷，最小厚度为0.45_，导致电容屏总体厚度较大，成本也远高于单层膜结构的产品，在一些低成本但是需要多点触控的电容屏上难以量产。...
【技术保护点】
一种单层膜实现多点触控的电容屏工艺，其特征在于，包括如下步骤：A、采用磁控溅射的方法在单层PET膜的两面均镀上氧化铟锡材料，然后将该PET膜裁切成丝印机台需要的尺寸；B、在单层PET膜的两面丝印耐酸保护层，进行烘烤之后采用湿法蚀刻工艺对PET膜进行蚀刻，得到氧化铟锡图形；C、在PET膜的两面丝印导电银浆，得到非可视区的走线线路。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：吴国峰，
申请(专利权)人：无锡宇宁光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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