用于在低pO2气氛中可获得的陶瓷装置的烧结添加剂制造方法及图纸

技术编号:9467802 阅读:113 留言:0更新日期:2013-12-19 03:53
本发明专利技术提供在低pO2气氛中生产陶瓷装置的方法,其包括以下步骤:-提供包含基底材料和过渡金属的组合物,其中用于第一层的基底材料选自锆酸盐、铈酸盐、钛酸盐、镧酸盐、铝酸盐、掺杂氧化锆和/或掺杂二氧化铈,其中掺杂物选自Ca、Ga、Sc、Y,和镧系元素;-形成所述组合物的第一层,其中所述第一层为电解质层;-在所述第一层的一面或两面上形成至少一个电极层或电极前体层;和-在低pO2气氛中烧结多层结构;其特征在于:-过渡金属的量为基于第一层的组合物计的0.01-4mol%;-氧气分压pO2为10-14Pa或更少;和-烧结温度在700-1600℃范围内。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:S拉莫斯塞T克勒门索HP拉森
申请(专利权)人:丹麦技术大学
类型:
国别省市:

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