The present invention provides shuttle kiln control method of ceramic sintered in reducing atmosphere, comprising the steps of heating, drying, sintering, thermal insulation, cooling, the temperature in the kiln, shuttle kiln is 500 to 1400 DEG C, holding for 30 to 60 minutes, will be filled with water at the suction burner opening container is arranged below the shuttle kiln the open container area of not less than the vertical projection area of the suction mouth. The method can effectively avoid high temperature oxidation when firing ceramics, greatly improve the quality of celadon products, save fuel and reduce pollution, and has the advantages of low cost and easy operation.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及梭式窑可控制气氛烧制陶瓷技术，具体是指。
技术介绍
梭式窑作为一种间歇性窑炉，具有占地少、一次性投资少、生产灵活等优点，因而受到广大的中小型陶瓷企业的青睐。在烧制陶瓷制品时，为了达到所需的产品质量或外观要求，往往需要在烧制产品的不同温度阶段控制窑炉内具有不同的气氛。窑内的气氛分为三种，即氧化气氛、还原气氛、中性气氛。喷入窑炉内的燃料在一定的温度下与喷入窑内的空气发生氧化反应，当空气过量时，此时烟气内还含有一定的游离氧，窑内的气氛为氧化气氛；当刚好燃烧完全时，窑内的气氛为中性气氛；当空气量不足时，此时窑内烟气中还含有没有完全燃烧的CO、H等成分，窑内的气氛为还原气氛。在梭式窑的烧成过程当中气氛的控制对陶瓷生产质量的影响很大，特别是烧制青瓷时，要求在升到一定温度后、高温保温阶段以及在高温冷却时保持有一定浓度的还原气氛。但是对于梭式窑来说，操作上较容易在高温保温阶段产生氧化，原因是高温保温阶段一般喷入窑内的燃料量不多，只要保证维持温度不变即可，故无法保证足够的还原气氛，故即使在前期已经还原了的瓷片，亦会因还原气氛不足而进行二次氧化。特别是在高温冷却时，...
【技术保护点】
梭式窑可控制还原气氛烧成陶瓷方法，步骤包括升温、干燥、烧成、保温、冷却、出窑，其特征在于：在梭式窑温度为５００～１４００℃，保温３０～６０分钟时，将盛有１～２升水的敞口容器置于梭式窑下方的吸火口处，敞口容器的面积不小于吸火口的垂直投影面积。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：张海文，曾令可，罗民华，王慧，刘平安，方海鑫，程小苏，税安泽，
申请(专利权)人：华南理工大学，
类型：发明
国别省市：81[中国|广州]
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