一种纳米滤光方法技术

本发明专利技术提供一种纳米滤光方法，方法包括：S1：将入射光以预设角度从纳米柱阵列上方入射；S2：入射光与纳米柱阵列发生表面等离子共振后进行反射，得到入射光以预设角度入射的单色光；S3：调整预设角度，并将入射光以调整后的预设角度从纳米柱阵列上方入射。本发明专利技术实施例通过提供一种纳米滤光方法，通过调整预设角度，将入射光以预设角度从纳米柱阵列上方入射，由于预设角度不同，所述入射光与所述纳米柱阵列发生表面等离子共振后进行反射，得到不同颜色的单色光，从而达到分光的效果，由于当预设角度不同时，所述入射光与所述纳米柱阵列发生表面等离子共振时的共振波长不同，分出的单色光即为共振波长的光，因此，分出的单色光的分辨率很高。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供，方法包括：S1：将入射光以预设角度从纳米柱阵列上方入射；S2：入射光与纳米柱阵列发生表面等离子共振后进行反射，得到入射光以预设角度入射的单色光；S3：调整预设角度，并将入射光以调整后的预设角度从纳米柱阵列上方入射。本专利技术实施例通过提供，通过调整预设角度，将入射光以预设角度从纳米柱阵列上方入射，由于预设角度不同，所述入射光与所述纳米柱阵列发生表面等离子共振后进行反射，得到不同颜色的单色光，从而达到分光的效果，由于当预设角度不同时，所述入射光与所述纳米柱阵列发生表面等离子共振时的共振波长不同，分出的单色光即为共振波长的光，因此，分出的单色光的分辨率很高。【专利说明】
本专利技术涉及滤光技术，特别涉及。
技术介绍
随着滤光技术的快速发展，滤光技术所采用的滤光器件的成本却依然很高。目前，基于表面等离子原理的滤光器件的制备技术基本上是基于电子束直写(electron-beam lithography, EBL)和聚焦离子束刻蚀(focused ion beam)。其中，电子束直写是是利用电子束在涂有电子抗蚀剂的晶片上直接描画或投影复印图形的技术。聚焦离子本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种纳米滤光方法，其特征在于，所述方法包括：S1：将入射光以预设角度从纳米柱阵列上方入射；S2：所述入射光与所述纳米柱阵列发生表面等离子共振后进行反射，得到所述入射光以预设角度入射的单色光；S3：调整预设角度，并将入射光以调整后的预设角度从所述纳米柱阵列上方入射，并跳转步骤S2，直到得到所述入射光的所有单色光。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：司光远，赵玉倩，宋爱娟，姜潇潇，刘少楠，魏永涛，王军伟，金伟，闫冬梅，马振鹤，王凤文，
申请(专利权)人：东北大学，
类型：发明
国别省市：