全背电极太阳电池制造技术

技术编号:9450241 阅读:161 留言:0更新日期:2013-12-13 00:39
本实用新型专利技术属于太阳电池领域,具体涉及一种全背电极太阳电池,该电池的细栅铝电极局部穿透介电层二,在细栅铝电极穿透介电层二的位置、n型硅片背光表面设有局域铝掺杂层;多个由细栅铝电极间接相连的局域铝掺杂层组成局域铝掺杂阵列;局域铝掺杂阵列的总面积不超过细栅铝电极面积的50%。与现有技术相比,本实用新型专利技术减小了铝发射极的面积,从而减小了光生载流子在铝发射极结区及其体内的复合。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种全背电极太阳电池,由n型硅片(21)、n型掺杂层一(22)、n型局域掺杂层二(221)、局域铝掺杂阵列(291)、介电层一(25)、介电层二(24)、细栅金属电极一(27)、细栅铝电极(28)、主栅电极一及主栅电极二组成;n型掺杂层一(22)位于n型硅片受光表面(211),介电层一(25)覆盖于n型掺杂层一(22)之上,n型局域掺杂层二(221)和局域铝掺杂阵列(291)交替分布于n型硅片背光表面(212),介电层二(24)覆盖于n型硅片背光表面(212)及n型局域掺杂层二(221)、局域铝掺杂阵列(291)之上;细栅金属电极一(27)位于介电层二(24)之上、与n型局域掺杂层二(221)对应的位置;细栅铝电极(28)位于介电层二(24)之上、与局域铝掺杂阵列(291)对应的位置;细栅金属电极一(27)全部或局部穿透介电层二(24)、与n型局域掺杂层二(221)接触;细栅铝电极(28)位于局域铝掺杂阵列(291)所在位置的介电层二(24)之上;主栅电极一和主栅电极二分别连接所有的细栅金属电极一(27)和细栅铝电极(28),其特征在于:细栅铝电极(28)局部穿透介电层二(24),在细栅铝电极(28)穿透介电层二(24)的位置、n型硅片背光表面(212)设有局域铝掺杂层(29);多个由细栅铝电极(28)间接相连的局域铝掺杂层(29)组成局域铝掺杂阵列(291)。...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:陶龙忠杨灼坚其他发明人请求不公开姓名
申请(专利权)人:苏州润阳光伏科技有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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