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基于元胞自动机的刻蚀表面演化模型压缩方法技术

技术编号:9435000 阅读:119 留言:0更新日期:2013-12-12 00:56
本发明专利技术涉及一种面向元胞自动机的刻蚀表面演化模型的压缩方法,属于微电子加工中刻蚀过程模拟领域;该方法采用游程编码对表面演化模型进行压缩表示,首先对各部分的材料元胞进行属性定义,分别定义了单个元胞材料编码和整体材料编码;然后根据模型特征选择以模型的垂直列为压缩单元,根据游程编码制定相应的压缩规则;分别对模型的每个垂直列自上而下进行压缩,从而实现模型的压缩表示。本发明专利技术既大幅度地减少了模型表示所需的内存空间,又保证了仿真过程的计算效率。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术涉及一种面向元胞自动机的刻蚀表面演化模型的压缩方法,属于微电子加工中刻蚀过程模拟领域;该方法采用游程编码对表面演化模型进行压缩表示,首先对各部分的材料元胞进行属性定义,分别定义了单个元胞材料编码和整体材料编码;然后根据模型特征选择以模型的垂直列为压缩单元,根据游程编码制定相应的压缩规则;分别对模型的每个垂直列自上而下进行压缩,从而实现模型的压缩表示。本专利技术既大幅度地减少了模型表示所需的内存空间,又保证了仿真过程的计算效率。【专利说明】
本专利技术属于微电子加工中刻蚀过程模拟领域,特别涉及一种针对元胞自动机的刻蚀表面演化模型的压缩方法。
技术介绍
刻蚀是集成电路制作中重要的一步,刻蚀过程的模拟是指导和制作高质量集成电路的关键步骤,也是更好地理解和认识刻蚀原理的重要工具。由于元胞自动机模型结构简单,稳定性好,易于扩展,使其成为进行刻蚀工艺模拟的有效方法之一。利用二维元胞自动机建立的刻蚀模型如图2所示,刻蚀晶片要模拟区域用边长为I的正方形分割成二维格子,每个二维格子即为一个元胞。空白格子代表已刻蚀掉的区域,称为空元胞。非空白格子代表待刻蚀材料,称为刻蚀元胞本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种面向元胞自动机的刻蚀表面演化模型的压缩方法,其特征在于:该方法采用游程编码对表面演化模型进行压缩表示,包括以下步骤:1)首先对各部分的材料元胞进行属性定义;2)根据模型特征选择以模型的垂直列为压缩单元,将模型划分成多个压缩单元;3)根据游程编码制定压缩规则,对所述压缩单元按自上而下顺序进行压缩,从而实现对整个模型的压缩。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:宋亦旭郑树琳孙晓民
申请(专利权)人:清华大学
类型:发明
国别省市:

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