【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】,属于氧化物弥散强化材料领域。其工艺特征是:一定量的纯铁块放在感应炉中进行熔炼,然后把熔炼好的铁水倒入盛放有纯镁块的浇包中进行水雾化制粉。制备的初级粉末在300~500℃进行1~3h的表面氧化处理,然后在真空或N2气氛中、850~1100℃条件下进行内氧化处理2~5h,最后在H2气氛中、700~1000℃条件下进行还原处理2~4h。该方法制备的氧化镁颗粒弥散强化铁粉,其弥散相氧化镁具有颗粒细小、分布均匀的特点。该工艺操作简单、方便,成本很低,易于实现工业化生产。【专利说明】
本专利技术属于氧化物弥散强化(Oxide Dispersion Strengthened, 0DS)材料制备
,特别提供了。技术背景弥散强化是指采用粉末冶金或内氧化等工艺方法,在材料基体中产生细小弥散的第二相质点,从而使材料的强度和硬度提高的一种强化手段。第二相一般为高熔点的氧化物或碳化物、氮化物,其强化作用可保持到较高温度。弥散强化是强化效果较大的一种强化合金的方法,很有发展前途。氧化物弥 散强化铁基高温合金由于具有低肿胀、抗辐射、抗氧化、抗腐蚀及高的蠕变强度等 ...
【技术保护点】
一种采用内氧化法制备氧化镁颗粒弥散强化铁粉的方法,其特征在于通过熔炼、水雾化、颗粒的表面氧化处理、颗粒的内氧化处理、颗粒的还原处理工艺制备得到氧化镁颗粒弥散强化铁粉。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:郭志猛,徐延龙,杨微微,罗骥,曹慧钦,
申请(专利权)人:北京科技大学,
类型:发明
国别省市:
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