【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种硬盘用化学抛光组合物，其特征在于，包括下列重量份数的物质：表面活性剂5-9份，氧化镁1-3份，酸酐5-7份，硫脲6-13份，乙醛1-8份，乙二醛5-8份，氯化亚铁3-7份，氧化镁1-8份，盐酸3-8份，氧化铜1-3份，氧化锌1-2份，甲基丙烯酸甲酯15-20份，甲基三乙氧基硅烷14-19份，钛酸酯偶联剂1-2份，纳米银0.5份。本专利技术的有益效果是：制备简单，抛光效果明显，性能稳定。【专利说明】—种硬盘用化学抛光组合物
本专利技术涉及一种硬盘用化学抛光组合物。
技术介绍
对增加内存或硬盘容量的需求以及内存或硬盘小型化的趋势(因为计算机设备中需要更小磁盘驱动器)持续不断，强调内存或硬盘片制造方法的重要性，包括这类盘片的平坦化或抛光，以确保性能最佳。尽管存在几种用于与半导体装置制造相关的化学机械抛光(CMP)组合物及方法，但是几乎没有常规的CMP方法或商购的CMP组合物非常适于内存或硬盘片的平坦化或抛光。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种硬盘用化学抛光组合物。为解决上述技术问题，本专利技术采用的技术方案是: 一种硬盘用化学抛光组合物，其特征在于，包括下列重量份数的物质:表面活性剂5-9份，氧化镁1-3份，酸酐5-7份，硫脲6-13份，乙醛1-8份，乙二醛5_8份，氯化亚铁3_7份，氧化镁1-8份，盐酸3-8份，氧化铜1-3份，氧化锌1-2份，甲基丙烯酸甲酯15-20份，甲基三乙氧基硅烷14-19份，钛酸酯偶联剂1-2份，纳米银0.5份。本专利技术的有益效果是:制备简单，抛光效果明显，性能稳定。【具...
【技术保护点】
一种硬盘用化学抛光组合物，其特征在于，包括下列重量份数的物质：表面活性剂5?9份，氧化镁1?3份，酸酐5?7份，硫脲6?13份，乙醛1?8份，乙二醛5?8份，氯化亚铁3?7份，氧化镁1?8份，盐酸3?8份，氧化铜1?3份，氧化锌1?2份，甲基丙烯酸甲酯15?20份，甲基三乙氧基硅烷14?19份，钛酸酯偶联剂1?2份，纳米银0.5份。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：张竹香，
申请(专利权)人：青岛承天伟业机械制造有限公司，
类型：发明
国别省市：
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