晶片表面平整度测量装置制造方法及图纸

技术编号:9421373 阅读:82 留言:0更新日期:2013-12-06 05:11
本实用新型专利技术公开了一种能够快速并准确测量晶片表面平整度,并且不会对晶片产生划伤、压碎、磕边、污染等不良现象的晶片表面平整度测量装置,包括由多个水平并且平行并列设置的触针所组成的触针列阵,以及用于支撑触针的触针支撑座,该触针支撑座内设置有多个水平并且平行并列设置的通孔,多个触针对应穿过所述通孔并且能够在所述通孔内沿轴向左右移动;所述触针的一端为测试端,用于与晶片表面接触,其另一端设置有位移传感器。采用本实用新型专利技术的晶片表面平整度测量装置,使用时将晶片竖起后水平移向触针的测试端,触针另一端的位移传感器将记录触针的移动数据,供测量者参考;如果晶片表面不平整,每个位移传感器所感应到的触针移动距离也不相同。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种晶片表面平整度测量装置,其特征在于:包括由多个水平并且平行并列设置的触针所组成的触针列阵,以及用于支撑触针的触针支撑座,该触针支撑座内设置有多个水平并且平行并列设置的通孔,多个触针对应穿过所述通孔并且能够在所述通孔内沿轴向左右移动;所述触针的一端为测试端,用于与晶片表面接触,其另一端设置有位移传感器。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:沙恩水
申请(专利权)人:天津浩洋环宇科技有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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