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高发射率抗空晒全玻璃真空集热利用元件方法产品设备技术

技术编号:9404483 阅读:111 留言:0更新日期:2013-12-05 05:33
高发射率抗空晒全玻璃真空集热利用元件的制造方法:通过提高全玻璃真空集热利用元件的发射率来降低空晒温度,具体包括:1)对全玻璃真空集热管的内玻璃管真空溅射发射率高于0.35的吸收膜;2)对全玻璃真空集热管的内玻璃管外表面划分出迎光面和非迎光面,对全部或者部分非迎光面不镀膜;3)对全玻璃真空集热管的内玻璃管外表面划分出迎光面和非迎光面,对全部或者部分非迎光面真空溅射发射率高于0.35的膜层。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
高发射率抗空晒全玻璃真空集热利用元件的制造方法:通过提高全玻璃真空集热利用元件的发射率来降低空晒温度,具体包括:1)对全玻璃真空集热管的内玻璃管真空溅射发射率高于0.35的吸收膜;2)对全玻璃真空集热管的内玻璃管外表面划分出迎光面和非迎光面,对全部或者部分非迎光面不镀膜;3)对全玻璃真空集热管的内玻璃管外表面划分出迎光面和非迎光面,对全部或者部分非迎光面真空溅射发射率高于0.35的膜层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:徐秀萍
申请(专利权)人:徐秀萍
类型:发明
国别省市:

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