一种新型石墨埚底制造技术

本实用新型专利技术公开了一种新型石墨埚底，包括埚底本体；所述埚底本体的外侧设有用于承托埚邦底部凸棱的托盘。本实用新型专利技术通过在埚底本体上增设的托盘和凸台，增加了埚底承托石墨埚邦的面积和范围，避免了埚邦经过长时间高温使用而老化造成的埚邦变形及上沿直径扩张，使晶体生长过程中晶体生长速度与熔液界面下降速度适中一致来控制单晶直径，减少了埚邦蹭加热器闷炉几率，提升了单晶炉产量成品率，降低了生产成本。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种新型石墨埚底，包括埚底本体（1）；其特征在于：所述埚底本体（1）的外侧设有用于承托埚邦底部凸棱（4）的托盘（2）。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李广哲，赵聚来，
申请(专利权)人：宁晋晶兴电子材料有限公司，
类型：实用新型
国别省市：