【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种基于框架采用切割道优化技术的扁平封装件的制作工艺,其特征在于:按照以下步骤进行:第一步、晶圆减薄:晶圆减薄厚度50μm~200μm,粗糙度Ra?0.10mm~0.05mm?;第二步、划片:150μm以上晶圆同普通QFN/DFN划片工艺,但厚度在150μm以下晶圆,使用双刀划片机及其工艺;第三步、上芯(粘片):既可采用粘片胶又可采用胶膜片(DAF)上芯;第四步、压焊、塑封、后固化,与常规QFN/DFN工艺相同;第五步、蚀刻切割道,产品分离:使用化学溶液将引线框架的切割道部分全部蚀刻,在引线框架的切割道部分蚀刻掉之后,再进行产品的分离;第六步、检验、包装等均与常规QFN/DFN工艺相同。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:李万霞,李站,崔梦,魏海东,
申请(专利权)人:华天科技西安有限公司,
类型:发明
国别省市:
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